【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀掩模缺陷原因确定系统、蒸镀掩模缺陷原因确定方法及程序
[0001]本专利技术涉及蒸镀掩模缺陷原因确定系统、蒸镀掩模缺陷原因确定方法及程序。
[0002]本申请基于2019年4月26日在日本申请的特愿2019
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086570号并主张优先权，将其内容援用于此。
技术介绍
[0003]一直以来，已知有根据晶片的图像来检测晶片的缺陷的晶片缺陷检测装置(参照专利文献1)。在专利文献1所记载的晶片缺陷检测装置中，对于图像中的晶片的检查对象的区域内的各像素计算出移动平均亮度，并判定各像素是否是缺陷候选像素。
[0004]然而，在专利文献1所记载的技术中，基于面积、圆度、长的宽度与短的宽度之比等来判定缺陷种类，但是专利文献1所记载的晶片缺陷检测装置无法确定缺陷的原因(即，产生这种缺陷的原因)。
[0005]此外，一直以来，已知有对金属掩模的表面上的异物进行检测的金属掩模检查装置(参照专利文献2)。在专利文献2所记载的金属掩模检查装置中，为了对具有狭缝部(透射的部分)以及金属线部(被掩模保护的部分)的金属掩模进行检查，而使用背光图像、同轴反射图像等。
[0006]然而，在专利文献2所记载的技术中，使用背光图像、同轴反射图像等来检测向狭缝部飞出的异物等。但是，通过专利文献2所记载的金属掩模检查装置，也无法确定缺陷的原因(即，产生这种异物等的原因)。
[0007]在蒸镀掩模的制造现场，检查负责者通过对蒸镀掩模的摄像图像进行目视来确认蒸镀掩模所包含的多个孔的形状。在蒸镀掩模包含不...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种蒸镀掩模缺陷原因确定系统，对具有形成有多个孔的基材的蒸镀掩模的缺陷原因进行确定，具备：图像取得部，取得上述蒸镀掩模的摄像图像，该摄像图像包括对包含正常孔部分和不良孔部分的上述多个孔进行摄像而得的多个孔部分、以及对上述多个孔周围的上述基材进行摄像而得的基材部分；第1面积计算部，计算由上述图像取得部取得的上述摄像图像中的上述正常孔部分的面积；第2面积计算部，计算由上述图像取得部取得的上述摄像图像中的上述不良孔部分的面积；面积比率计算部，计算上述不良孔部分的面积相对于上述正常孔部分的面积的比例即面积比率；以及缺陷原因确定部，确定上述不良孔部分的原因，上述缺陷原因确定部为，在上述面积比率为1以上的情况下，确定上述不良孔部分的原因为第1原因或者第2原因，在上述面积比率低于1的情况下，确定上述不良孔部分的原因为并非上述第1原因及上述第2原因中的任一方的原因。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模缺陷原因确定系统，其中，还具备：径向尺寸计算部，计算由上述图像取得部取得的上述摄像图像中的、从上述不良孔部分的重心位置起到上述不良孔部分与上述不良孔部分周围的上述基材部分的边界部分为止的长度即径向尺寸；以及对称性判定部，基于由上述径向尺寸计算部计算出的上述径向尺寸，判定上述不良孔部分的形状的对称性，上述径向尺寸计算部计算以上述重心位置为中心的间隔45
°
的8个方向的上述径向尺寸。3.如权利要求2所述的蒸镀掩模缺陷原因确定系统，其中，上述缺陷原因确定部为，在上述面积比率为1以上的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状不具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为上述第1原因，在上述面积比率为1以上的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为与上述第1原因不同的上述第2原因，在上述面积比率低于1的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状不具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为并非上述第1原因及上述第2原因中的任一方的第3原因，在上述面积比率低于1的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为并非上述第1原因、上述第2原因及上述第3原因中的任一方的第4原
因。4.如权利要求3所述的蒸镀掩模缺陷原因确定系统，其中，在上述蒸镀掩模的制造所使用的抗蚀剂为负性的情况下，上述第1原因包含如下情况的至少任一方：上述抗蚀剂本身存在异物并在显影时脱落；在上述蒸镀掩模的制造中上述抗蚀剂物理地受伤；在相对于上述基材层叠上述抗蚀剂时夹入异物，上述抗蚀剂与上述基材未紧贴的部分搭接于上述不良孔部分；从上述基材的前处理以后到上述抗蚀剂向上述基材的层叠处理为止，上述基材的污染未被消除；上述蒸镀掩模的制造所使用的曝光掩模存在问题；在上述抗蚀剂相对于上述基材层叠时产生了空气的夹入；以及曝光时产生了由异物引起的曝光阻碍，上述第2原因包含如下情况的至少任一方：上述曝光掩模的开口图案存在问题；上述曝光掩模的表面整体均匀地受到污染；上述抗蚀剂向上述基材的层叠处理的条件不适当，从而上述抗蚀剂向上述基材的紧贴性降低；以及蚀刻中产生了渗入，上述第3原因包含如下情况的至少任一方：产生了由上述抗蚀剂与上述基材之间的异物引起的局部的蚀刻延迟；由于由干膜抗蚀剂的载膜上的异物引起的向上述抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述抗蚀剂的一部分固化，从而产生了局部的蚀刻延迟；产生了由通过显影进行了图案形成之后的上述抗蚀剂的开口内的残存物引起的局部的蚀刻延迟；上述曝光掩模的上述开口图案存在局部的缺损；以及在上述曝光掩模的与上述基材对置的面中存在由朝向上述基材突出的局部的损伤引起的飞边，上述第4原因包含如下情况的至少任一方：产生了由上述抗蚀剂的开口偏差或者蚀刻液的润湿性不足引起的蚀刻延迟；产生了由通过显影进行了图案形成之后的上述抗蚀剂的开口内的被膜残渣引起的蚀刻不足；由于由上述干膜抗蚀剂的上述载膜上的异物引起的向上述抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述抗蚀剂的一部分固化，从而产生了蚀刻延迟；由于由上述干膜抗蚀剂的上述载膜内部的异物引起的向上述抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述抗蚀剂的一部分固化，从而产生了蚀刻延迟；以及由于因上述抗蚀剂的紧贴不足引起的向上述抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述抗蚀剂的一部分固化，从而产生了蚀刻延迟。5.如权利要求3所述的蒸镀掩模缺陷原因确定系统，其中，
在上述蒸镀掩模的制造所使用的抗蚀剂为正性的情况下，上述第1原因包含如下情况的至少任一方：上述抗蚀剂本身存在异物并在显影时脱落；在相对于上述基材层叠上述抗蚀剂时夹入异物；上述抗蚀剂与上述基材未紧贴...
【专利技术属性】
技术研发人员：山田清治，柴田泰充，藤户大生，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：
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