一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂及其使用方法技术

技术编号:30334857 阅读:23 留言:0更新日期:2021-10-10 01:00
本发明专利技术提供了一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂及其使用方法,属于放射性元素处理技术领域。本发明专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,为以下质量份的组分:水100份;聚乙烯醇6~20份;增稠剂1~5份;增塑剂0.1~1份;表面活性剂0.01~1份;消泡剂1~10份;放射性核素螯合剂0.1~8份。本发明专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂在较少添加剂种类的情况下就能实现较高的去污率。同时,本发明专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂具有成膜温度低、成膜时间短的优点,其在25~30℃下即可成膜,成膜时间≤9h。实施例结果表明,本发明专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂的去污率在99.5%以上。99.5%以上。

【技术实现步骤摘要】
一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂及其使用方法


[0001]本专利技术涉及放射性元素处理
,特别涉及一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂及其使用方法。

技术介绍

[0002]铀矿冶设施、核电厂在运行过程中产生了大量放射性器件,为了保证环境辐射安全必须对退役的放射性器件进行去污。
[0003]放射性器件含有的放射性元素主要为铀元素。目前,针对放射性设备或部件中的铀元素的去除方法主要有机械去污法、电化学去污法、生物去污法和化学去污法。可剥离膜放射性去污法属于化学去污法,是在成膜基材中加入放射性核素螯合剂,将设备表面吸附的放射性核素转移至膜中,实现放射性器件的表面去污。可剥离膜去污剂具有去污过程简单、产生二次放射性废物少、二次性废物容易处理以及去污过程需要的辐射防护设施简单等优点。放射性可剥离膜去污剂由高分子成膜材料、放射性核素螯合剂和各种添加剂组成,高分子成膜材料主要有聚氨酯类、聚苯乙烯类、聚乙烯醇类、有机硅类、丙烯酸树脂及其共聚物、聚醋酸乙烯酯等。
[0004]专利CN111909558A公开了一种聚乙烯醇基可剥离膜去污剂,其添加剂成分包括聚乙烯醇、胶凝剂、表面活性剂、胶黏剂、增稠剂、增强剂、复合螯合剂、分散剂、润滑剂、增塑剂和防腐剂,其成分复杂,添加剂成分较多,达到10种。

技术实现思路

[0005]有鉴于此,本专利技术目的在于提供一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂及其使用方法。本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂添加剂种类少,成分简单,且具有较高的去污率。
[0006]为了实现上述专利技术目的,本专利技术提供以下技术方案:
[0007]本专利技术提供了一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,为以下质量份的组分:
[0008][0009][0010]优选的,为以下质量份的组分:
[0011][0012]优选的,所述聚乙烯醇的数均分子量为1700~1800;所述聚乙烯醇的醇解度为88~99%。
[0013]优选的,所述增稠剂为羧甲基纤维素、羧乙基纤维素、凝胶和琼脂中的一种或几种。
[0014]优选的,所述增塑剂为聚乙二醇

100、聚乙二醇

1000和聚丙三醇中的一种或几种。
[0015]优选的,所述表面活性剂为硬质酸钠、十二烷基苯磺酸钠、span80、滑石粉、纳米碳酸钙和纳米二氧化钛中的一种或几种。
[0016]优选的,所述消泡剂为山梨酸钾、磷酸三丁酯、蓖麻油、硅油、磷酸三辛酯和油酰二乙烯三胺中的一种或几种。
[0017]优选的,所述放射性核素螯合剂为羟甲基乙叉二膦酸、乙二胺四乙酸钠、氮基三乙酸、草酸和柠檬酸中的一种或几种。
[0018]本专利技术提供了上述聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂的去污方法,包括以下步骤:
[0019]将水、聚乙烯醇、增稠剂、增塑剂、表面活性剂、消泡剂和放射性核素螯合剂混合,得到放射性去污剂;
[0020]将所述放射性去污剂涂覆在放射性污染器件表面,静置形成聚乙烯醇可剥离膜;所述静置的时间为8~9h;
[0021]剥离所述聚乙烯醇可剥离膜。
[0022]优选的,所述放射性去污剂的涂覆量为0.5~3g/cm2。
[0023]本专利技术提供了一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,为以下质量份的组分:水100份;聚乙烯醇6~20份;增稠剂1~5份;增塑剂0.1~1份;表面活性剂0.01~1份;消泡剂1~10份;放射性核素螯合剂0.1~8份。本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂在较少添加剂种类的情况下就能实现较高的去污率。同时,本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂具有成膜温度低、成膜时间短的优点,其在25~30℃下即可成膜,成膜时间≤9h。实施例结果表明,本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂的去污率在99.5%以上。
[0024]本专利技术提供了上述聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂的去污方法,包括以下步骤:将水、聚乙烯醇、增稠剂、增塑剂、表面活性剂、消泡剂和放射性核素螯合剂混合,得到放射性去污剂;将所述放射性去污剂涂覆在放射性污染器件表面,静置形成聚乙烯醇可剥离膜;所述静置的时间≤9h;剥离所述聚乙烯醇可剥离膜。此法操作简单,适于工业化推广应用。
具体实施方式
[0025]本专利技术提供了一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,为以下质量份的组分:
[0026][0027]如无特殊说明,本专利技术所用原料均为市售。
[0028]以质量百分含量计,本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂包括100份的水。在本专利技术中,所述水优选为去离子水。
[0029]以所述水的质量为基准,本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂包括6~20份聚乙烯醇,优选为10~15份。在本专利技术中,所述聚乙烯醇的数均分子量优选为1700~1800,更优选为1750;所述聚乙烯醇的醇解度优选为88~99%,更优选为90~95%。
[0030]以所述水的质量为基准,本专利技术本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂包括1~5份的增稠剂,优选为2~4份。在本专利技术中,所述增稠剂优选为羧甲基纤维素、羧乙基纤维素、凝胶和琼脂中的一种或几种。
[0031]以所述水的质量为基准,本专利技术本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂包括0.1~1份的增塑剂,优选为0.3~0.8份。在本专利技术中,所述增塑剂优选为聚乙二醇

100、聚乙二醇

1000和聚丙三醇中的一种或几种。在本专利技术中,所述增塑剂的作用是改进膜的韧性、柔软性、提高膜的延伸性和断裂拉伸强度。
[0032]以所述水的质量为基准,本专利技术本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂包括0.01~1份的表面活性剂,优选为0.1~0.5份。在本专利技术中,所述表面活性剂优选为硬质酸钠、十二烷基苯磺酸钠、span80、滑石粉、纳米碳酸钙和纳米二氧化钛中的一种或几种。
[0033]以所述水的质量为基准,本专利技术本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂包括1~10份的消泡剂,优选为2~6份。在本专利技术中,所述消泡剂优选为山梨酸钾、磷酸三丁酯、蓖麻油、硅油、磷酸三辛酯和油酰二乙烯三胺中的一种或几种。
[0034]以所述水的质量为基准,本专利技术本专利技术提供的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂包括0.1~8份的放射性核素螯合剂,优选为2~5份,更优选为3~4份。在本专利技术中,所述放射性核素螯合剂优选为羟甲基乙叉二膦酸、乙二胺四乙酸钠、氮基三乙酸、草酸和柠檬酸中的一种或几种。
[0035]本专利技术提供了上述聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂的使用方法,包括以下步骤:
[0036]将水、聚乙烯醇、增稠剂、增塑剂、表面活性剂、消泡剂和放射性核素螯合剂混合,得到放射性去污剂;
[0037]将所述放射性去污剂涂覆在放射性污染器件表面,静置形成聚乙烯醇可剥离膜;所述静置的时间为8~9h;
[0038]剥离所述聚乙烯醇可剥离膜。
[0039]本专利技术将水、聚乙烯醇、增稠剂、增塑剂、表面活性剂、消泡剂本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,为以下质量份的组分:2.根据权利要求1所述的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,其特征在于,为以下质量份的组分:3.根据权利要求1或2所述的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,其特征在于,所述聚乙烯醇的数均分子量为1700~1800;所述聚乙烯醇的醇解度为88~99%。4.根据权利要求1或2所述的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,其特征在于,所述增稠剂为羧甲基纤维素、羧乙基纤维素、凝胶和琼脂中的一种或几种。5.根据权利要求1或2所述的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,其特征在于,所述增塑剂为聚乙二醇

100、聚乙二醇

1000和聚丙三醇中的一种或几种。6.根据权利要求1或2所述的聚乙烯醇可剥离膜放射性去污剂,其特征在于,所述表面活性剂为硬质酸钠、十二烷基苯磺酸钠、span80、滑石粉、纳米碳酸钙...

【专利技术属性】
技术研发人员:仇月双魏鑫徐乐昌
申请(专利权)人:核工业北京化工冶金研究院
类型:发明
国别省市:

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