晶圆清洁模块制造技术

揭示一种晶圆清洁模块以及一种通过该晶圆清洁模块清洁一晶圆的方法。例如，晶圆清洁模块包括：晶圆夹盘，该晶圆夹盘用以固持晶圆；臭氧源，该臭氧源用以朝向晶圆提供臭氧气体；以及紫外线(UV,Ultraviolet)灯模块，该紫外线灯模块用以提供紫外光。紫外线灯模块包括紫外线光源以及围绕紫外线光源的可旋转反射镜。可旋转反射镜是能够移动的，以便调整导向晶圆表面的紫外光的量。面的紫外光的量。面的紫外光的量。

【技术实现步骤摘要】
晶圆清洁模块


[0001]本揭露是关于一种晶圆清洁模块。

技术介绍

[0002]半导体集成电路(IC,Integrated Circuit)业界已经历指数级的增长。随着IC材料及设计的推进，已生产出更快更小的电路。电路已变得更复杂，因为在更小的IC面积内具有更多的互连装置。
[0003]处理衬底以形成IC可包括若干不同制造步骤。在某些制造步骤之间，在衬底可继续至IC制造制程的下一制造步骤之前，可清洁衬底以移除污染物或残留物。污染物可在处理期间致使IC中存在缺陷。因此，清洁步骤可自衬底表面或衬底上的层移除不当污染物、碎屑等等，以防止存在缺陷。

技术实现思路

[0004]根据本揭露的一些实施例，一种晶圆清洁模块包括晶圆夹盘、臭氧源以及紫外线灯模块。晶圆夹盘用以固持一晶圆。臭氧源用以朝向晶圆提供臭氧气体。紫外线灯模块用以提供紫外光。紫外线灯模块包括一紫外线光源以及一可旋转反射镜。可旋转反射镜位于紫外线光源周围，其中可旋转反射镜是能够移动的，以便调整导向晶圆的表面的紫外光的量。
附图说明
[0005]当结合附图阅读时，根据以下详细描述最佳理解本揭示案的诸态样。应注意，根据业界的标准实践，各种特征并未按比例绘制。事实上，出于论述清楚的目的，可任意地增大或缩小各种特征的尺寸。
[0006]图1图解说明根据本揭示案的至少一个实施例的晶圆处理的功能方框图；
[0007]图2图解说明根据本揭示案的至少一个实施例的臭氧晶圆清洁模块的方框图；
[0008]图3图解说明根据本揭示案的至少一个实施例的具有可旋转反射镜的紫外线(UV)灯模块的更详细视图；
[0009]图4A至图4C图解说明根据本揭示案的至少一个实施例的具有可旋转反射镜的紫外线灯模块的各种模式；以及
[0010]图5图解说明根据本揭示案的至少一个实施例的用于在臭氧清洁模块中处理晶圆的方法的流程图。
[0011]【符号说明】
[0012]100:制程流程
[0013]102:第一晶圆处理
[0014]104:臭氧清洁
[0015]106:第二晶圆处理
[0016]200:晶圆清洁模块
[0017]202:紫外线灯模块
[0018]204:晶圆
[0019]206:夹盘
[0020]208:可移动臂
[0021]210:输送臂
[0022]212:装载端口
[0023]214:箭头
[0024]220:湿室
[0025]222:臭氧源
[0026]224:去离子水源
[0027]226:控制器
[0028]228:使用者界面
[0029]302:紫外线光源
[0030]3021:紫外线光源
[0031]3022:紫外线光源
[0032]304:可旋转反射镜
[0033]3041:可旋转反射镜
[0034]3042:可旋转反射镜
[0035]306:臂
[0036]308:马达
[0037]310:箭头
[0038]312:箭头
[0039]314:中心轴线
[0040]316:箭头
[0041]318:惰性气体源
[0042]402:晶圆
[0043]404:臭氧气体
[0044]406:石英片
[0045]4081:箭头
[0046]4082:箭头
[0047]410:位置
[0048]412:位置
[0049]414:位置
[0050]4201:中心轴线
[0051]4202:中心轴线
[0052]500:方法
[0053]502:操作
[0054]504:操作
[0055]506:操作
[0056]508:操作
[0057]510:操作
[0058]512:操作
具体实施方式
[0059]以下揭示内容提供了用于实施所提供标的的不同特征的许多不同实施例或实例。下文描述元件与配置的特定实例以简化本揭示案。当然，这些仅仅是实例且并非意欲限制性的。例如，在以下描述中，在第二特征之上或在其上形成第一特征可包括将第一特征及第二特征形成为直接接触的实施例，且亦可包括可在第一特征与第二特征之间形成额外特征以使得第一特征与第二特征可不直接接触的实施例。另外，本揭示案可在各种实例中重复元件符号及/或字母。此重复是出于简单与清晰的目的，且其自身不指示所论述的各种实施例及/或组态之间的关系。
[0060]本文中可使用空间相对术语，诸如“下方”、“在
…
之下”、“下”、“上方”、“上”、“在
…
前方”、“在
…
后方”等，以便于描述，以描述一个元件或特征与另一(些)元件或特征的关系，如图中所例示。除图中所描绘的定向之外，空间相对术语亦意欲涵盖装置在使用或操作中的不同定向。可以其他方式来定向设备(旋转90度或以其他定向)，且可同样相应地解释本文所使用的空间相对描述词。
[0061]本揭示案是关于具有可旋转反射镜的紫外线(UV,Ultraviolet)灯模块的臭氧晶圆清洁模块的各种实施例，以及用于通过臭氧清洁模块处理衬底的方法。如上文所注意，衬底或晶圆可在制造集成电路(IC)装置期间经由各种制造步骤处理。在某些步骤之间，可清洁衬底、或在特定制造步骤待处理的衬底顶层，以便移除碎屑及污染物。移除碎屑及污染物可防止在形成衬底时存在可致使IC装置发生故障的缺陷。
[0062]然而，使用紫外线灯模块及臭氧气体的当前可用晶圆清洁模块具有处于固定位置的反射镜。在一些情形下，反射镜经固定以使得紫外光远离晶圆而发射。因此，可使用紫外光来将臭氧气体转换为羟(OH,Hydroxide)基，但表面改质效率可能较低。
[0063]在其他情形下，反射镜可固定以使得紫外光直接发射至晶圆表面。然而，此直接紫外光暴露可致使某些材料或金属中的缺陷。例如，紫外光暴露可致使归因于过度氧化的膜裂缝。
[0064]因此，对于晶圆上不同类型的材料或不同层，可在制造IC装置期间部署不同工具。此可能昂贵但低效。此外，多个不同工具可占据制造厂中更多的占用空间及面积，借此进一步提高成本。
[0065]相反，本揭示案的晶圆清洁模块可包括可旋转反射镜。可旋转反射镜可围绕紫外线光源旋转，以便将紫外光导向期望目标。例如，可旋转反射镜可经移动或旋转，以便将紫外光导离晶圆表面、导向晶圆表面，或其间任何位置。
[0066]在一些实施例中，可部署具有相应可旋转反射镜的多个紫外线光源。用于每一紫外线光源的可旋转反射镜可经旋转至各种位置，以便控制导向或导离晶圆顶表面的紫外光的量。
[0067]因此，可使用单个晶圆清洁模块来以各种不同材料或金属清洁晶圆。例如，可旋转反射镜可经定位以针对不同材料在晶圆顶表面上提供适当量的紫外光，从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洁模块，其特征在于，包括：一晶圆夹盘，用以固持一晶圆；一臭氧源，用以朝向该晶圆提供臭氧气体；以及一紫外线灯模块，用以提供紫外光，其中该紫外...

【专利技术属性】
技术研发人员：林震洋，刘仲轩，宋古翔，林冠文，陈嘉仁，李信昌，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：