单层聚合物膜和电子装置制造方法及图纸

在第一方面，单层聚合物膜包括60至99wt％的具有20％至100％的凝胶分数和1.74或更小的折射率的交联聚酰亚胺，以及1至40wt％的着色剂。所述单层聚合物膜的表面已经被纹理化并且具有6μm或更大的最大粗糙度(S

【技术实现步骤摘要】
单层聚合物膜和电子装置


[0001]本公开的领域是单层聚合物膜、覆盖层和电子装置、以及其形成方法。

技术介绍

[0002]工业越来越期望用于电子应用的聚酰亚胺膜在外观上是哑光的，具有特定的颜色、对处理和电路加工的耐久性，并且当用作覆盖层时，提供安全性以防止由覆盖层保护的电子部件的不期望的目视检查。单层哑光有光泽膜不具有小于30的L*颜色，提供工业所需的深的、丰富的饱和色。典型地，随着消光剂的量增加，膜的颜色变弱。来自消光剂的增加的表面粗糙度的效果是颜料颜色的稀释，使得它看起来更浅且更不饱和。这是由镜面反射(白光)的增加的散射对漫反射(在感知颜料颜色的情况下)的稀释引起的。表面越粗糙，光泽度越低，并且镜面反射的散射越大。因此，随着光泽度降低，L*(亮度)典型地增加。添加更多着色剂不会降低L*颜色。因此，同时实现低光泽度和低L*颜色是困难的。为了克服这些挑战，美国专利号9,469,781、9,481,150和9,481,809使用多层结构，其中将掺有消光剂、炭黑和亚微米颗粒的共混物的薄聚酰亚胺层粘附到较厚的基础聚酰亚胺层上，使得多层膜能够实现低L*颜色和低光泽度二者的期望组合。
[0003]多层覆盖层在电路生产中的成功与否取决于在打磨(pumice)、除污程序(desmear)和等离子体工艺过程中的蚀刻厚度。对于多层膜的非常薄的外层，存在在这些工艺过程中蚀刻膜的外层、暴露基础层的风险，这可能导致显著的光泽度和颜色变化。因此，外层必须足够厚以在这些工艺过程中经受住去除。
[0004]随着电子装置及其电子部件变得越来越薄和紧凑，形成具有低光泽度和低颜色二者的覆盖层的挑战变得更加困难。在一些情况下，对更薄覆盖层的需求限制了消光剂的使用(所述消光剂可能具有大约为膜厚度的粒度)，并且限制了多层覆盖层中层的总厚度。对以下单层聚合物膜存在需要，所述聚合物膜在外观上是哑光的，具有深的、丰富的饱和色，并且当用作覆盖层时提供充足的光密度以提供视觉安全性，同时具有可接受的电气特性(例如，介电强度)、机械特性、以及对处理和电路加工的耐久性。此膜还应该对处理后蚀刻工艺具有更多耐受性。

技术实现思路

[0005]在第一方面，单层聚合物膜包括60至99wt％的具有20％至100％的凝胶分数和1.74或更小的折射率的交联聚酰亚胺，以及1至40wt％的着色剂。所述单层聚合物膜的表面已经被纹理化并且具有6μm或更大的最大粗糙度(S
pv
)、30或更小的L*颜色和15或更小的60
°
光泽度。
[0006]在第二方面，用于印刷电路板的覆盖层包括所述第一方面的单层聚合物膜。
[0007]在第三方面，披露了一种用于形成包括交联聚酰亚胺膜的单层聚合物膜的方法，所述交联聚酰亚胺膜包括二酐和二胺。所述二酐、所述二胺或所述二酐和所述二胺二者包括脂环族单体、脂肪族单体或脂环族单体和脂肪族单体二者。所述聚合物膜具有30或更小
的L*颜色和15或更小的60
°
光泽度。所述交联聚酰亚胺膜通过以下方式形成：
[0008](a)在溶剂的存在下使所述二酐和所述二胺聚合以获得聚酰胺酸溶液；
[0009](b)酰亚胺化所述聚酰胺酸溶液以形成基本上酰亚胺化的溶液；
[0010](c)将交联剂和着色剂添加到所述基本上酰亚胺化的溶液中；
[0011](d)将所述基本上酰亚胺化的溶液在可去除基板上流延以形成膜，所述可去除基板具有最大粗糙度(S
pv
)为6μm或更大的纹理化表面；
[0012](e)交联聚酰亚胺同时干燥所述膜；并且
[0013](f)从所述纹理化基板去除所述单层聚合物膜。
[0014]在第四方面，披露了一种用于形成包括交联聚酰亚胺膜的单层聚合物膜的方法，所述交联聚酰亚胺膜包括二酐和二胺。所述二酐、所述二胺或所述二酐和所述二胺二者包含脂环族单体、脂肪族单体或脂环族单体和脂肪族单体二者。所述聚合物膜具有30或更小的L*颜色和15或更小的60
°
光泽度。所述交联聚酰亚胺膜通过以下方式形成：
[0015](a)在第一溶剂的存在下使所述二酐和所述二胺聚合以获得聚酰胺酸溶液；
[0016](b)酰亚胺化所述聚酰胺酸溶液以形成第一基本上酰亚胺化的溶液；
[0017](c)用反溶剂使所述第一基本上酰亚胺化的溶液沉淀；
[0018](d)过滤并干燥所述第一基本上酰亚胺化的溶液以获得固体聚酰亚胺树脂；
[0019](e)将所述固体聚酰亚胺树脂溶解于第二溶剂中，并添加交联剂和低电导率炭黑以形成第二基本上酰亚胺化的溶液；
[0020](f)将所述第二基本上酰亚胺化的溶液在可去除基板上流延以形成膜，所述可去除基板具有最大粗糙度(S
pv
)为6μm或更大的纹理化表面；
[0021](g)交联聚酰亚胺同时干燥所述膜；并且
[0022](h)从所述纹理化基板去除所述单层聚合物膜。
[0023]前面的一般性描述和以下详细描述仅是示例性的和解释性的，并且不限制如所附权利要求所限定的本专利技术。
具体实施方式
[0024]在第一方面，单层聚合物膜包括60至99wt％的具有20％至100％的凝胶分数和1.74或更小的折射率的交联聚酰亚胺，以及1至40wt％的着色剂。所述单层聚合物膜的表面已经被纹理化并且具有6μm或更大的最大粗糙度(S
pv
)、30或更小的L*颜色和15或更小的60
°
光泽度。
[0025]在第一方面的一个实施例中，所述单层聚合物膜进一步包括消光剂。
[0026]在第一方面的另一个实施例中，所述交联聚酰亚胺包括选自由芳香族二酐、脂肪族二酐及其混合物组成的组的二酐。在具体实施例中，所述二酐选自由以下组成的组：4,4'
‑
(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐(6FDA)、环丁烷二酐(CBDA)、3,3',4,4'
‑
二苯甲酮四甲酸二酐(BTDA)、双酚A二酐(BPADA)、4,4'
‑
氧基二邻苯二甲酸酐(ODPA)、双(3,4
‑
二羧基苯基)亚砜二酐(DSDA)和六氢
‑
4,8
‑
桥亚乙基
‑
1H,3H
‑
苯并[1,2
‑
c:4,5
‑
c']二呋喃
‑
1,3,5,7
‑
四酮(BODA)及其混合物。
[0027]在第一方面的又另一个实施例中，所述交联聚酰亚胺包括选自由芳香族二胺、脂肪族二胺及其混合物组成的组的二胺。在具体实施例中，所述二胺选自由以下组成的组：1,
6
‑
六亚甲基二胺(HMD)、反式
‑
1,4
‑
二氨基环己烷(CHDA)、3
‑
(4
‑
氨基苯基)
‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单层聚合物膜，其包含：60至99wt％的交联聚酰亚胺，所述交联聚酰亚胺具有20％至100％的凝胶分数和1.74或更小的折射率；和1至40wt％的着色剂，其中所述单层聚合物膜的表面已经被纹理化并且具有6μm或更大的最大粗糙度(S
pv
)、30或更小的L*颜色和15或更小的60
°
光泽度。2.如权利要求1所述的单层聚合物膜，其进一步包含消光剂。3.如权利要求1所述的单层聚合物膜，其中，所述交联聚酰亚胺包含选自由芳香族二酐、脂肪族二酐及其混合物组成的组的二酐。4.如权利要求3所述的单层聚合物膜，其中，所述二酐选自由以下组成的组：4,4'
‑
(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐(6FDA)、环丁烷二酐(CBDA)、3,3',4,4'
‑
二苯甲酮四甲酸二酐(BTDA)、双酚A二酐(BPADA)、4,4'
‑
氧基二邻苯二甲酸酐(ODPA)、双(3,4
‑
二羧基苯基)亚砜二酐(DSDA)和六氢
‑
4,8
‑
桥亚乙基
‑
1H,3H
‑
苯并[1,2
‑
c:4,5
‑
c']二呋喃
‑
1,3,5,7
‑
四酮(BODA)及其混合物。5.如权利要求1所述的单层聚合物膜，其中，所述交联聚酰亚胺包含选自由芳香族二胺、脂肪族二胺及其混合物组成的组的二胺。6.如权利要求5所述的单层聚合物膜，其中，所述二胺选自由以下组成的组：1,6
‑
六亚甲基二胺(HMD)、反式
‑
1,4
‑
二氨基环己烷(CHDA)、3
‑
(4
‑
氨基苯基)
‑
1,1,3
‑
三甲基
‑5‑
氨基茚满(PIDA)、异氟尔酮二胺(IPDA)、间联甲苯胺(MTB)、2,2'
‑
双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)、间苯二胺(MPD)、1,3
‑
双
‑
(4
‑
氨基苯氧基)苯(RODA)、2,2
‑
双
‑
(4
‑
[4
‑
氨基苯氧基]苯基)丙烷(BAPP)、和3,4'
...

【专利技术属性】
技术研发人员：H，
申请(专利权)人：杜邦电子公司，
类型：发明
国别省市：