密封用片材制造技术

本发明专利技术涉及密封用片材。本发明专利技术提供密封用片材，其在不剥离覆膜的情形下干燥后将覆膜剥离而密封器件时，能够形成外观性优异的密封层。本发明专利技术的密封用片材，其具有支撑体、树脂组合物层和覆膜依次层叠而成的层构成，该覆膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，并且，该覆膜的加热前的雾度I与在氮下、150℃下加热18小时后的雾度II之比（II/I）小于2.0。度II之比（II/I）小于2.0。

【技术实现步骤摘要】
密封用片材


[0001]本专利技术涉及密封用片材，特别涉及适于怕水分的电子器件的密封的密封用片材。

技术介绍

[0002]有机EL器件、太阳能电池等电子器件对水分极不耐受，存在因水分导致亮度、效率降低等的问题。为了保护这些器件，进行的是使用具有树脂组合物层的密封用片材对器件进行密封。
[0003]通常，密封用片材由支撑体、树脂组合物层和用于保护前述树脂组合物层的覆膜构成。树脂组合物层中若混入水分，则树脂组合物层的密封性能降低，因此在密封器件之前期望预先对密封用片材进行干燥。对于密封用片材的树脂组合物层的干燥，通常在剥离覆膜后进行干燥是有效率的，但还已知为了防止干燥中的树脂组合物层表面附着灰尘等而在不剥离覆膜的情形下进行干燥的方法。例如，专利文献1中公开了不剥离覆膜而用近红外或中红外线干燥机有效率地进行干燥的方法。作为覆膜，耐热性较高且可廉价地获得的聚对苯二甲酸乙二醇酯（以下，简称为“PET”）膜是适宜的。
[0004]现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开2016/152758号小册子。

技术实现思路

[0005]专利技术要解决的课题另一方面，有机EL器件、太阳能电池等电子器件中，从密封面侧发光
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受光的顶部发光型（TE）和透射型的电子器件的开发不断进步。TE型和透射型的电子器件中，由于从密封层面进行发光、受光，因此要求抑制伴随异物等附着于密封层而产生的外观性的降低。另一方面，本专利技术人等在使用PET膜作为覆膜、使用不剥离覆膜而干燥的密封用片材对器件进行密封时，发现大量的异物附着于剥离覆膜后的密封层而外观性降低的现象。推测这是因干燥步骤的加热而从PET膜析出的低聚物附着于树脂组合物层上，其在PET膜剥离后也残留于树脂组合物层，引起形成的密封层的外观上的异常。因此，本专利技术的目的是提供密封用片材，其在不剥离作为覆膜的PET膜而干燥密封用片材并在之后剥离覆膜以密封器件的情况下，密封层的外观性也优异。
[0006]用于解决课题的方案本专利技术人为了解决上述课题而进行了深入研究，结果发现，在具有支撑体、树脂组合物层和作为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的覆膜依次层叠而成的层构成的密封用片材中，通过将该覆膜的加热前的雾度与在规定条件下加热后的雾度之比设定为规定的范围，即使在不剥离覆膜而干燥密封用片材并在之后将覆膜剥离以密封器件时，也可以抑制密封层的外观性的降低，从而完成了本专利技术。
[0007]即，本专利技术具有以下的特征。
[0008]［1］密封用片材，其具有支撑体、树脂组合物层和覆膜依次层叠而成的层构成，该覆膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，并且，该覆膜的加热前的雾度I与在氮下、150℃下加热18小时后的雾度II之比（II/I）小于2.0。
[0009]［2］根据［1］所述的密封用片材，其中，树脂组合物层的全光线透射率为90%以上。
[0010]［3］根据［1］或［2］所述的密封用片材，其中，覆膜在树脂组合物层侧的面上具有外涂层。
[0011]［4］根据［1］～［3］中任一项所述的密封用片，其用于电子器件的密封。
[0012]［5］根据［4］所述的密封用片材，其中，电子器件为顶部发光型或透射型的电子器件。
[0013]［6］根据［4］或［5］所述的密封用片材，其中，电子器件为有机EL器件或太阳能电池。
[0014]［7］具有密封层的电子器件的制造方法，其包括：对［1］～［6］中任一项所述的密封用片材进行干燥的步骤、从干燥后的密封用片材剥离覆膜的步骤、和将剥离覆膜后的密封用片材的树脂组合物层层叠于电子器件而形成密封层的步骤。
[0015]［8］密封用片材的干燥方法，其包括对具有支撑体、树脂组合物层和覆膜依次层叠而成的层构成的密封用片材进行干燥的步骤，其中，该覆膜为加热前的雾度I与在氮下、150℃下加热18小时后的雾度II之比（II/I）小于2.0的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
[0016]专利技术效果根据本专利技术，可以提供能够形成外观性优异的密封层的密封用片材。
具体实施方式
[0017]本专利技术的密封用片材具有支撑体、树脂组合物层和覆膜依次层叠而成的层构成，该覆膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，并且，该覆膜的加热前的雾度I与在氮下、150℃下加热18小时后的雾度II之比（II/I）小于2.0。
[0018]＜覆膜＞本专利技术的密封用片材中使用的覆膜是聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
[0019]可以对PET膜实施利用有机硅树脂系脱模剂、醇酸树脂系脱模剂、氟树脂系脱模剂等的脱模处理、消光处理、电晕处理等。PET膜可以为2层以上的多层结构。PET膜的厚度没有特别限定，从操作性和密封用片材的干燥等观点出发，下限优选为10μm、更优选为20μm，其上限优选为200μm、更优选为125μm。PET膜的厚度的优选范围（即、优选的上下限的组合）为：（i）10～200μm、（ii）20～200μm、（iii）10～125μm、和（iv）20～125μm。
[0020]覆膜为了防止低聚物的析出导致的白化、不透明化、辉点状缺陷出现，可以在树脂组合物层侧的面上具有外涂层。层叠外涂层的方法中，可举出例如日本特开平6
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328646号（层叠由聚酯系化合物与异氰酸酯系化合物的双液反应树脂形成的层叠膜层）、日本特开2000
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289168号（层叠含有10～100wt%聚乙烯醇的层叠膜）、日本特开2000
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272070号（层叠以玻璃化转变温度为
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20℃以上且小于60℃的聚酯树脂为构成成分的层叠膜）、日本特开2007
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253511号（层叠由水溶性的丙烯酸类树脂、聚酯树脂与交联剂形成的层叠膜）、日本特
开2010
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253934号（层叠由包含纤维素衍生物与硅氧化物的树脂组合物构成的层叠膜）等。外涂层的厚度没有特别限定，从外涂层的粘接性和低聚物的析出抑制、光学特性的观点出发，优选为5～1000nm、更优选为10～500nm、进一步优选为20～300nm。
[0021]覆膜的加热前的雾度I、以及在氮下、150℃下加热18小时后的雾度II依照以下实施例中记载的方法进行测定。雾度I与雾度II之比（II/I）小于2.0，优选小于1.9，更优选小于1.8，进一步优选小于1.7。雾度I与雾度II之比（II/I）的下限值没有特别限定，理想的是作为最低值的1.0，越低的值越优选。雾度I与雾度II之比（II/I）为2.0以上时，则发生由密封用片材形成的密封层产生外观上的异常（异物附着等）的问题。例如，通过上述方法在覆膜上层叠外涂层，由此可以使覆膜的雾度I与雾度II之比（II/I）小于2.0。
[0022]＜支撑体＞作为本专利技术的密封用片材中使用的支撑体，没有特别限定，可举出例如，聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、环烯烃聚合物等聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺等塑料膜。作为塑料膜，特别优选PET。此外，支撑体也可以是铝箔、不锈钢箔、铜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.密封用片材，其具有支撑体、树脂组合物层和覆膜依次层叠而成的层构成，该覆膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，并且，该覆膜的加热前的雾度I与在氮下、150℃下加热18小时后的雾度II之比（II/I）小于2.0。2.根据权利要求1所述的密封用片材，其中，树脂组合物层的全光线透射率为90%以上。3.根据权利要求1或2所述的密封用片材，其中，覆膜在树脂组合物层侧的面上具有外涂层。4.根据权利要求1～3中任一项所述的密封用片材，其用于电子器件的密封。5.根据权利要求4所述的密封用片材，其中，电子器件为顶部发光型或透射型的电子器件。6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：大桥贤，
申请(专利权)人：味之素株式会社，
类型：发明
国别省市：