一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶制造技术

本实用新型专利技术涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，公开了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材，所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。本实用新型专利技术通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，在电机的作用下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，便于工作人员的使用。便于工作人员的使用。便于工作人员的使用。

【技术实现步骤摘要】
一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶


[0001]本技术涉及磁控溅射镀膜设备
，具体是一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶。

技术介绍

[0002]随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，真空镀膜机主要指一类需要在较高真空下进行的镀膜，镀膜种类分为多种，包括真空电阻加热蒸发、电子枪加热蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积、离子束溅射等多种，主要分成蒸发和溅射两种。因此，市场上出现了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶被人们广泛使用。
[0003]目前市场上存在多种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，但是这些圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶使用起来多有不便，沉积速率低，且靶面刻蚀不均匀，不能满足人们对圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶的要求。因此，本领域技术人员提供了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材。
[0007]作为本技术再进一步的方案：所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。
[0008]作为本技术再进一步的方案：所述冷却水管的外侧固定连接有极靴，所述极靴的外侧固定连接有若干个磁铁块。
[0009]作为本技术再进一步的方案：所述靶旋转结构的一侧固定连接有第一齿轮。
[0010]作为本技术再进一步的方案：所述电机一侧固定连接有转轴，所述转轴的一侧固定连接有第二齿轮。
[0011]作为本技术再进一步的方案：所述进水管与冷却水管之间固定连接有加固片。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]1、通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，靶旋转结构的一侧设置有第一齿轮，第一齿轮与第二齿轮进行卡接，在电机的作用
下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，从而带动靶腔的运转，将冷却水从注水口注入，通过进水管流入冷却水管内部，从而对靶腔内部进行降温冷却，方便了工作人员的使用。
[0014]2、通过靶材、磁铁块和极靴，靶腔相对于磁铁块转动，磁铁块安装在极靴上与靶管同心，磁力线从N极出发，穿过靶管，再回到极靴，这样就在靶管圆柱面上形成了封闭的磁力线长环形跑道，由于靶管是相对于同心磁铁块匀速转动，所以靶管表面形成了均匀的刻蚀区，磁铁块采用N极和S极磁铁，使得磁力可以两两抵消，减弱磁强度，当刻蚀不均、沉积速率、溅射效率不理想的时候，可以通过增减磁铁块数量来弥补此缺陷，提高该装置的实用性，方便了工作人员的使用。
附图说明
[0015]图1为一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶的结构示意图；
[0016]图2为一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶的剖面图；
[0017]图3为一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶中靶腔的剖面图。
[0018]图中：1、靶支架；2、靶旋转结构；3、靶腔；4、外齿轮；5、靶材；6、第一齿轮；7、注水口；8、电机；9、转轴；10、第二齿轮；11、进水管；12、加固片；13、冷却水管；14、磁铁块；15、极靴。
具体实施方式
[0019]请参阅图1～3，本技术实施例中，一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架1，靶支架1的一侧上部设置连接有注水口7，且靶支架1的一侧下部固定连接有电机8，靶支架1的另一侧设置连接有靶腔3，且靶支架1的内部固定连接有靶旋转结构2，靶腔3的两侧固定连接有外齿轮4，且靶腔3的内部固定连接有靶材5，靶旋转结构2的一侧固定连接有第一齿轮6，电机8一侧固定连接有转轴9，转轴9的一侧固定连接有第二齿轮10。
[0020]在图2中：注水口7的一侧固定连接有进水管11，进水管11的一侧固定连接有冷却水管13，进水管11与冷却水管13之间固定连接有加固片12，将冷却水从注水口7注入，通过进水管11流入冷却水管13内部，从而对靶腔3内部进行降温冷却。
[0021]在图3中：冷却水管13的外侧固定连接有极靴15，极靴15的外侧固定连接有若干个磁铁块14，靶腔3相对于磁铁块14转动，磁铁块14安装在极靴15上与靶管同心，磁力线从N极出发，穿过靶管，再回到极靴15，这样就在靶管圆柱面上形成了封闭的磁力线长环形跑道，由于靶管是相对于同心磁铁块14匀速转动，所以靶管表面形成了均匀的刻蚀区。
[0022]本技术的工作原理是：靶旋转结构2的一侧设置有第一齿轮6，第一齿轮6与第二齿轮10进行卡接，在电机8的作用下，带动转轴9的旋转，从而带动第二齿轮10的旋转，使得第一齿轮6受到第二齿轮10旋转的力带动靶旋转结构2的运转，从而带动靶腔3的运转，将冷却水从注水口7注入，通过进水管11流入冷却水管13内部，从而对靶腔3内部进行降温冷却，靶腔3相对于磁铁块14转动，磁铁块14安装在极靴15上与靶管同心，磁力线从N极出发，穿过靶管，再回到极靴15，这样就在靶管圆柱面上形成了封闭的磁力线长环形跑道，由于靶管是相对于同心磁铁块14匀速转动，所以靶管表面形成了均匀的刻蚀区，磁铁块14采用N极和S极磁铁，使得磁力可以两两抵消，减弱磁强度，当刻蚀不均、沉积速率、溅射效率不理想
的时候，可以通过增减磁铁块14数量来弥补此缺陷，提高该装置的实用性，方便了工作人员的使用。
[0023]以上所述的，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架(1)，其特征在于，所述靶支架(1)的一侧上部设置连接有注水口(7)，且靶支架(1)的一侧下部固定连接有电机(8)，所述靶支架(1)的另一侧设置连接有靶腔(3)，且靶支架(1)的内部固定连接有靶旋转结构(2)，所述靶腔(3)的两侧固定连接有外齿轮(4)，且靶腔(3)的内部固定连接有靶材(5)。2.根据权利要求1所述的一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，其特征在于，所述注水口(7)的一侧固定连接有进水管(11)，所述进水管(11)的一侧固定连接有冷却水管(13)。3.根据权利要求2所述的一种圆柱旋转式矩形磁条...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵岩，苗润财，苗润发，苗伟伟，王健，
申请(专利权)人：上海繁枫真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：