本申请公开了一种存储装置及真空存储装置，该存储装置包括：存储本体，所述存储本体包括基座和罩体，所述基座用于承载工作件，所述基座和所述罩体配合形成放置所述工作件的容纳腔；升降组件，所述升降组件分别与所述罩体和所述基座连接，所述升降组件用于驱动所述罩体相对于所述基座升降以打开和关闭所述容纳腔；和干燥组件，所述干燥组件包括用于加热所述工作件的至少一个加热件，所述加热件设置在所述基座，所述基座顶面与所述加热件对应的区域设置至少一个定位部以放置所述工作件。该存储装置将吸附在工作件孔隙中的水分彻底蒸发出来，使工作件在存储过程中同时被干燥，保证后续晶体的生长质量。后续晶体的生长质量。后续晶体的生长质量。
【技术实现步骤摘要】
一种存储装置及真空存储装置
[0001]本申请涉及一种存储装置及真空存储装置，具体涉及一种石墨件存储装置，属于存储设备
技术介绍
[0002]半导体晶体被广泛应用于集成电路、光电子器件、电力电子等领域，因此必须保证半导体晶体的纯度。目前主流的半导体晶体生长技术是物理气相输运法，即在高温下使半导体原料升华产生的气相源输运至籽晶处重新结晶而成。物理气相输运法制备半导体晶体的过程中需要大量石墨件，如石墨坩埚、石墨保温桶等，因此石墨件的湿度对半导体晶体质量有着很大的影响。
[0003]目前，石墨件主要存放于储物箱中或PE袋中，然而由于石墨件具有多孔结构，容易吸附空气中的水分，且难以将孔隙中的水分彻底除去，因此现有的存储方式无法降低石墨件的湿度，进而无法保证后续晶体的生长质量。
技术实现思路
[0004]为了解决上述问题，本申请提出了一种存储装置及真空存储装置，该存储装置将吸附在工作件孔隙中的水分彻底蒸发出来，使工作件在存储过程中同时被干燥，保证后续半导体晶体的生长质量；同时，可以防止工作件发生移动而产生破损，延长工作件的使用寿命。
[0005]根据本申请的一个方面，提供了一种存储装置，其包括：
[0006]存储本体，所述存储本体包括基座和罩体，所述基座用于承载工作件，所述基座和所述罩体配合形成放置所述工作件的容纳腔；
[0007]升降组件，所述升降组件分别与所述罩体和所述基座连接，所述升降组件用于驱动所述罩体相对于所述基座升降以打开和关闭所述容纳腔；和
[0008]干燥组件，所述干燥组件包括用于加热所述工作件的至少一个加热件，所述加热件设置在所述基座，所述基座顶面与所述加热件对应的区域设置至少一个定位部以放置所述工作件。
[0009]可选地，所述工作件的至少一端开口，所述定位部包括至少一个定位槽，所述定位槽的形状与所述工作件的开口匹配以将所述开口插入所述定位槽。
[0010]可选地，所述定位部包括多个同心定位槽，以放置不同尺寸的工作件。
[0011]可选地，所述工作件的至少一端为平面，所述定位部包括多个定位槽，所述工作件的平面放置在所述定位槽的槽壁顶面。
[0012]可选地，所述加热件设置在所述基座的顶面的凹坑，所述加热件形成所述定位部；或
[0013]所述基座的顶面形成所述定位部，所述加热件安装在所述基座下方并与所述定位部的形状适配。
[0014]可选地，所述加热件为螺旋红外加热管，所述螺旋红外加热管的每圈之间留有缝隙。
[0015]可选地，所述升降组件包括导轨和驱动机构，所述导轨的下端与所述基座下方的支撑腿连接；
[0016]所述升降组件包括导轨和驱动机构，所述导轨的下端与所述基座下方的支撑腿连接；
[0017]所述导轨包括第一导轨和第二导轨，所述第一导轨和所述第二导轨分别设置在所述基座的同一侧，所述第一导轨和所述第二导轨分别与所述罩体转动配合；
[0018]所述驱动机构设置在所述基座的下方，用于驱动所述第一导轨和所述第二导轨运动。
[0019]可选地，所述存储本体还包括设置在所述基座上的支架，所述支架包括至少两个从上至下依次设置的放置板。
[0020]根据本申请的另一个方面，提供了一种真空存储装置，其包括上述任一项所述的存储装置和抽气装置，所述抽气装置包括抽气孔和真空泵，所述抽气孔设置在所述基座的顶面，所述真空泵通过所述抽气孔抽出所述容纳腔内的气体。
[0021]可选地，所述基座上设置凹槽，所述凹槽沿所述基座的边缘周向设置，所述罩体卡合在所述凹槽内形成所述容纳腔。
[0022]本申请能产生的有益效果包括但不限于：
[0023]1.本申请所提供的存储装置，通过设置加热件对工作件加热，从而将吸附在工作件孔隙中的水分彻底蒸发出来，使工作件在存储过程中同时被干燥，保证后续半导体晶体的生长质量；通过将加热件设置在基座，使工作件可以直接接触加热件，提高工作件孔隙中水分的蒸发速度，进一步保证工作件被彻底干燥；通过设置定位部，从而防止工作件发生移动而产生破损，延长工作件的使用寿命；通过设置基座和罩体配合形成容纳腔，可以防止外部环境中的杂质污染工作件，同时可以隔绝外界水蒸气，避免外界的水蒸气进入工作件的孔隙中；通过设置升降组件驱动罩体相对于基座升降以打开和关闭容纳腔，从而便于取放体积较大的工作件，节约存储装置的占地面积，减少所需的生产空间。
[0024]2.本申请所提供的存储装置，通过设置定位槽的形状与工作件的开口匹配，进一步防止工作件在容纳腔内发生晃动，避免工作件在存储过程产生破损，延长工作件的使用寿命；通过设置将工作件的开口插入定位槽，使工作面的底面全部暴露在容纳腔中，避免工作件的底面与定位槽接触，从而彻底蒸发工作件底面中的水分，防止工作件局部干燥不均匀，保证工作件为完全干燥状态。
[0025]3.本申请所提供的存储装置，通过在定位部设置多个同心定位槽，从而适应不同尺寸的工作件，提高存储装置的适用性，此外，可以同时存储多个工作件，充分利用存储装置的空间，提升存储装置的存储能力。
[0026]4.本申请所提供的存储装置，通过将工作件的平面放置在定位槽的槽壁顶面，使工作件的内壁完全暴露在容纳腔中，从而将工作件的内壁彻底干燥，避免出现工作件内外干燥不均匀的现象产生，保证后续的长晶质量。
[0027]5.本申请所提供的存储装置，通过设置第一导轨和第二导轨设置在基座的同一侧，方便从另一侧取放工作件，同时，可以维持罩体的平衡，使罩体平稳的升降，保证容纳腔
内工作件的稳定。
附图说明
[0028]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
[0029]图1为本申请实施例1涉及的存储装置立体示意图；
[0030]图2为本申请实施例1涉及的存储装置后视立体示意图；
[0031]图3为本申请实施例2涉及的存储装置立体示意图。
具体实施方式
[0032]为了更清楚的阐释本申请的整体构思，下面结合说明书附图以示例的方式进行详细说明。
[0033]为了能够更清楚地理解本申请的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本申请进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0034]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请，但是，本申请还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本申请的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
[0035]另外，在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种存储装置，其特征在于，包括：存储本体，所述存储本体包括基座和罩体，所述基座用于承载工作件，所述基座和所述罩体配合形成放置所述工作件的容纳腔；升降组件，所述升降组件分别与所述罩体和所述基座连接，所述升降组件用于驱动所述罩体相对于所述基座升降以打开和关闭所述容纳腔；和干燥组件，所述干燥组件包括用于加热所述工作件的至少一个加热件，所述加热件设置在所述基座，所述基座顶面与所述加热件对应的区域设置至少一个定位部以放置所述工作件。2.根据权利要求1所述的存储装置，其特征在于，所述工作件的至少一端开口，所述定位部包括至少一个定位槽，所述定位槽的形状与所述工作件的开口匹配以将所述开口插入所述定位槽。3.根据权利要求2所述的存储装置，其特征在于，所述定位部包括多个同心定位槽，以放置不同尺寸的工作件。4.根据权利要求1所述的存储装置，其特征在于，所述工作件的至少一端为平面，所述定位部包括多个定位槽，所述工作件的平面放置在所述定位槽的槽壁顶面。5.根据权利要求1至4中任一项所述的存储装置，其特征在于，所述加热件设置在所述基座的顶面的凹坑，所述加热件形成所述定位部；或所述基座的顶面形成所述定位部，所述加热...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭德华，李斌，王路平，赵建国，国营，
申请(专利权)人：山东天岳先进科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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