一种硅片检测装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及硅片检测设备技术领域，公开了一种硅片检测装置。其包括：图像采集件、挡板组件和光源组件。图像采集件用于采集待检测硅片上采集区域的图像；挡板组件置于图像采集件与待检测硅片之间，挡板组件包括第一挡板；光源组件包括两个光源，其中一个光源位于第一挡板的第一侧，另一个光源以及图像采集件位于第一挡板的第二侧，第一侧与第二侧相背设置，位于第一侧的光源发出的光线照射至第一挡板上并能够通过第一挡板散射至采集区域内，位于第二侧的光源出的光线能够由第二侧达到采集区域内。本发明专利技术实现了采集到的图像灰度分布均匀，提升了图像的对比度，更易于分析出硅片的缺陷，提高了硅片的检测精度。提高了硅片的检测精度。提高了硅片的检测精度。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片检测装置


[0001]本专利技术涉及硅片检测设备
，尤其涉及一种硅片检测装置。

技术介绍

[0002]光伏领域中，为了保证硅片的产品质量，需要对硅片的缺陷进行检测。硅片的隐裂就是一种较为隐蔽的未穿透的裂纹，在常规条件下不可见，其是在粘胶面即将被切透时，由于晶体硅内部热应力及机械加工中的应力等多种原因造成的裂纹，由于该裂纹未穿透，可能位于硅片两面中的任一面，传统的检测手段就是对着硅片表面进行吹气，蒸汽快速覆盖并快速干燥的过程中，裂纹迅速显示并消失。这样的检测手法存在两个明显的缺陷，批量生产过程中长期吹气，容易使检测员产生疲劳及口干舌燥的不适感，吹气还容易对硅片造成污染。目前通常采用红外光检测硅片的隐裂，通常在待检测硅片上垂直设置挡板，在挡板的一侧倾斜设置红外光源，另一侧设置用于采集图像的红外相机，红外相机沿垂直方向进行图像采集，通过硅片的移动实现对于整个硅片表面的图像采集。其中，光源射出的光线倾斜照射至挡板上，再由挡板散射至硅片上，导致远离光源即靠近红外相机一侧的硅片亮度较低，使得采集到的图像较暗，由于隐裂在采集的图像上呈黑色，导致相机采集到的图像上的隐裂不能清晰的显示，使得采集到的图像上灰度不均匀，对比度较差，不利于对采集到的图像进行处理，降低了检测精度，也降低了检测结果的准确性。
[0003]于此，亟需一种硅片检测装置用来解决如上提到的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种硅片检测装置，实现了采集到的图像灰度分布均匀，提升了图像的对比度，更易于分析出硅片的缺陷，提高了硅片的检测精度，提高了检测结果的准确性。
[0005]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0006]一种硅片检测装置，其特征在于，包括：
[0007]图像采集件，用于采集待检测硅片上采集区域的图像；
[0008]挡板组件，置于所述图像采集件与所述待检测硅片之间，所述挡板组件包括第一挡板；
[0009]光源组件，包括两个光源，其中一个所述光源位于所述第一挡板的第一侧，另一个所述光源以及所述中垂线位于所述第一挡板的第二侧，所述第一侧与所述第二侧相背设置，位于所述第一侧的所述光源发出的光线倾斜照射至所述第一挡板上并能够经由所述第一挡板散射至所述采集区域内，位于所述第二侧的所述光源发出的光线能够由所述第二侧达到所述采集区域内。
[0010]优选地，所述挡板组件还包括第二挡板，所述第二挡板位于所述第一挡板的所述第二侧，且所述第一挡板与所述第二挡板置于两个所述光源之间，位于所述第二侧的所述光源发出的光线倾斜照射至所述第二挡板上并能够经由所述第二挡板散射至所述采集区
域内，所述第一挡板与所述第二挡板之间设置有采集间隙，所述图像采集件能够通过所述采集间隙采集所述采集区域的图像。
[0011]优选地，所述第一挡板与所述第二挡板平行设置，且与所述图像采集件的镜头的中垂线平行。
[0012]优选地，所述第一挡板与所述第二挡板远离所述图像采集件的一端均设有斜面，所述斜面远离所述图像采集件的一端朝向所述图像采集件的镜头的中垂线倾斜，两个所述光源发出的光线分别对应倾斜照射至两个所述斜面上。
[0013]优选地，所述第一挡板与所述第二挡板朝向所述图像采集件的一侧均弯折有外延部，所述外延部朝向相背于所述采集间隙的方向倾斜。
[0014]优选地，所述硅片检测装置还包括移动单元，所述移动单元用于驱动所述光源相对于所述挡板组件移动。
[0015]优选地，所述移动单元包括第一升降组件和/或水平移动组件；
[0016]所述第一升降组件连接于所述光源组件，所述第一升降组件用于使所述光源上升或下降；
[0017]所述水平移动组件连接于所述光源组件，所述水平移动组件用于使所述光源沿水平方向移动。
[0018]优选地，所述硅片检测装置还包括转动件，所述转动件的一端连接于所述光源，所述转动件的另一端转动连接于所述移动单元。
[0019]优选地，所述光源与所述转动件可拆卸连接。
[0020]优选地，所述硅片检测装置还包括第二升降组件，所述第二升降组件连接于所述图像采集件，用于驱动所述图像采集件上升或下降。
[0021]本专利技术的有益效果：本专利技术提供了一种硅片检测装置，在第一挡板的第一侧和第二侧分别设置一个光源，位于第一侧的光源发出的光线能够经由第一挡板的散射至待检测硅片上的采集区域内，位于第二侧的光源发出的光线能够在第一挡板设置图像采集件的一侧对采集区域进行补光，提升了对于硅片的光照效果，使得采集到的图像灰度分布均匀，提升了图像的对比度，更易于后续分析出硅片的缺陷，提高了硅片的检测精度，提高了检测结果的准确性。
附图说明
[0022]图1是本专利技术实施例提供的硅片检测装置的第一视角的结构示意图；
[0023]图2是本专利技术实施例提供的硅片检测装置的第二视角的结构示意图；
[0024]图3是图2中A处的局部放大图；
[0025]图4是本专利技术实施例提供的硅片检测装置的剖视图；
[0026]图5是图4中B处的局部放大图。
[0027]图中：
[0028]1、图像采集件；21、第一挡板；22、第二挡板；23、斜面；24；延伸部；
[0029]3、光源；
[0030]4、移动单元；41、第一升降组件；411、第一升降板；412、第一升降螺杆；4121、第一旋转把手；413、第一连接块；42、水平移动组件；421、固定板；4211、第二滑槽；422、水平移动
板；4221、转动座；423、水平移动螺杆；4231、第二旋转把手；424、第二连接块；
[0031]5、转动件；51、第一连接部；52、第二连接部；6、第二升降组件；
[0032]7、固定架；71、支脚；72、连接板；73、支撑板；731、第一滑槽；
[0033]8、输送单元。
具体实施方式
[0034]为使本专利技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施例的技术方案做进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0035]在本专利技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0036]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片检测装置，其特征在于，包括：图像采集件(1)，用于采集待检测硅片上采集区域的图像；挡板组件，置于所述图像采集件(1)与所述待检测硅片之间，所述挡板组件包括第一挡板(21)；光源组件，包括两个光源(3)，其中一个所述光源(3)位于所述第一挡板(21)的第一侧，另一个所述光源(3)以及所述图像采集件(1)位于所述第一挡板(21)的第二侧，所述第一侧与所述第二侧相背设置，位于所述第一侧的所述光源(3)发出的光线照射至所述第一挡板(21)上并能够通过所述第一挡板(21)散射至所述采集区域内，位于所述第二侧的所述光源(3)发出的光线能够由所述第二侧达到所述采集区域内。2.根据权利要求1所述的硅片检测装置，其特征在于，所述挡板组件还包括第二挡板(22)，所述第二挡板(22)位于所述第一挡板(21)的所述第二侧，且所述第一挡板(21)与所述第二挡板(22)置于两个所述光源(3)之间，位于所述第二侧的所述光源(3)发出的光线倾斜照射至所述第二挡板(22)上并能够经由所述第二挡板(22)散射至所述采集区域内，所述第一挡板(21)与所述第二挡板(22)之间设置有采集间隙，所述图像采集件(1)能够通过所述采集间隙采集所述采集区域的图像。3.根据权利要求2所述的硅片检测装置，其特征在于，所述第一挡板(21)与所述第二挡板(22)平行设置，且与所述图像采集件(1)的镜头的中垂线平行。4.根据权利要求3所述的硅片检测装置，其特征在于，所述第一挡板(21)与所述第二挡板(22)远离所述图像采集件(1)的一端均设有斜面(23...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢亚宾，王维，王聚，杜若愚，刘中海，陈淼淼，马行，程智，韩鑫，顾一鹏，朱江兵，梁坤，牛广升，
申请(专利权)人：博众精工科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：