一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，涉及到半导体技术领域，包括干燥模组壳体以及设于干燥模组壳体内的晶圆干燥槽体，还包括第一导流板、第二导流板和集液槽围板，干燥模组壳体的两侧设有两第一导流板和两第二导流板，每一第一导流板的一侧分别与干燥模组壳体连接，每一第一导流板的另一侧分别与一第二导流板的一侧连接，集液槽围板设于晶圆干燥槽体的两侧，每一集液槽围板与晶圆干燥槽体之间分别形成一集液槽，每一第二导流板的一侧分别延伸至一集液槽的上侧。其能够有效的降低液体滴落反溅的可能性，即便回弹的现象产生，也会被第一导流板遮挡，能够有效的防止液体滴落对晶圆盒或晶圆的洁净度产生的不利影响。不利影响。不利影响。

【技术实现步骤摘要】
一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构


[0001]本技术涉及到半导体
，尤其涉及到一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构。

技术介绍

[0002]在半导体制造领域,尤其是半导体湿法工艺的制造领域范畴,主要是透过晶圆在进行湿法工艺后需要进行干燥工艺的过程,接续在晶圆产品在进行收获的过程中,需要进行晶圆表面的洁净度与清洗能力等的确认,确保晶圆在进行湿法工艺的可用性与工艺能力的再现性。
[0003]现有技术中晶圆盒或晶圆进行清洗后，通过机械手夹持至干燥模组内进行干燥处理，然而机械手夹持晶圆或晶圆盒至干燥模组内时，由于机械手、晶圆盒或晶圆的表面的水滴的滴落易造成二次污染，会严重影响晶圆盒或晶圆表面的洁净度。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，用于解决上述技术问题。
[0005]本技术采用的技术方案如下：
[0006]一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，包括干燥模组壳体以及设于所述干燥模组壳体内的晶圆干燥槽体，还包括第一导流板、第二导流板和集液槽围板，其中，所述干燥模组壳体的两侧设有两所述第一导流板和两所述第二导流板，其中，每一所述第一导流板的一侧分别与所述干燥模组壳体连接，每一所述第一导流板的另一侧分别与一所述第二导流板的一侧连接，所述集液槽围板设于所述晶圆干燥槽体的两侧，且每一所述集液槽围板与所述晶圆干燥槽体之间分别形成一集液槽，每一所述第二导流板的一侧分别延伸至一所述集液槽的上侧。
[0007]作为优选，每一所述第一导流板以及每一所述第二导流板分别由上至下向靠近所述集液槽的方向倾斜设置。
[0008]作为进一步的优选，每一所述第一导流板的倾斜角度分别小于所述第二导流板的倾斜角度。
[0009]作为进一步的优选，每一所述第一导流板的倾斜角度均为20
°
～40
°
。
[0010]作为进一步的优选，每一所述第二导流板的倾斜角度均为50
°
～70
°
。
[0011]作为优选，每一所述第一导流板以及每一所述第二导流板均为聚偏二氟乙烯材料或聚四氟乙烯材料制作。
[0012]作为优选，每一所述集液槽的底部分别设有一倾斜的槽道。
[0013]作为进一步的优选，还包括液体回收管道，每一所述集液槽的底部分别设有一所述液体回收管道，且所述液体回收管道与所述槽道连通。
[0014]作为优选，每一所述集液槽均为聚偏二氟乙烯材料或聚四氟乙烯材料制作。
[0015]上述技术方案具有如下优点或有益效果：
[0016]本技术中，设置第一导流板和第二导流板，且第一导流板与第二导流板之间形成交错型防溅道，能够有效的降低液体滴落反溅的可能性，即便回弹的现象产生，也会被第一导流板遮挡，能够有效的防止液体滴落对晶圆盒或晶圆的洁净度产生的不利影响。
附图说明
[0017]图1是本技术用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构的立体图；
[0018]图2是本技术中的集液槽与晶圆干燥槽体连接的结构示意图。
[0019]图中：1、干燥模组壳体；2、晶圆干燥槽体；3、第一导流板；4、第二导流板；5、集液槽围板；6、集液槽。
具体实施方式
[0020]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]在本技术的描述中，需要说明的是，如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等，其所指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，如出现术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0022]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，如出现术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0023]图1是本技术用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构的立体图；图2 是本技术中的集液槽与晶圆干燥槽体连接的结构示意图。请参见图1至图2所示，示出了一种较佳的实施例，示出的一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，包括干燥模组壳体1以及设于干燥模组壳体1内的晶圆干燥槽体2，还包括第一导流板3、第二导流板和集液槽围板，其中，干燥模组壳体 1的两侧设有两第一导流板3和两第二导流板，其中，每一第一导流板3的一侧分别与干燥模组壳体1连接，每一第一导流板3的另一侧分别与一第二导流板的一侧连接，集液槽围板设于晶圆干燥槽体2的两侧，且每一集液槽围板与晶圆干燥槽体2之间分别形成一集液槽，每一第二导流板的一侧分别延伸至一集液槽的上侧。本实施例中，如图1和图2所示，设置的第一导流板3可将机械手与晶圆盒或晶圆上滴落的水滴引导至第二导流板，并由第二导流板引导至集液槽内，第一导流板3与第二导流板之间形成交错型防溅道，第二导流板上的水滴出现回弹时，会在第一导流板3的作用下回流至集液槽内。在其它的较佳的实施例中，第一导流板3和第二导流板可相对设置，即第一导流板3与干燥模组壳体1连
接，第二导流板与晶圆干燥槽体2连接，集液槽位于第一导流板3与第二导流板之间，可避免滴落的水滴回弹至晶圆干燥槽体2内。
[0024]进一步，作为一种较佳的实施方式，每一第一导流板3以及每一第二导流板分别由上至下向靠近集液槽的方向倾斜设置。
[0025]进一步，作为一种较佳的实施方式，每一第一导流板3的倾斜角度分别小于第二导流板的倾斜角度。
[0026]进一步，作为一种较佳的实施方式，每一第一导流板3的倾斜角度均为 20
°
～40
°
。
[0027]进一步，作为一种较佳的实施方式，每一第二导流板的倾斜角度均为 50
°
～70
°
。本实施例中，第一导流板3的倾斜角度选用30
°
，第二导流板的倾斜角度为60
°
，第一倾斜板与第二倾斜板之间的倾斜角度不同，可起到缓冲液体的作用，能够避免液体脱离第一导流板3和第二导流板。
[0028]进一步，作为一种较佳的实施方式，每一第一导流板3以及每一第二导流板均为聚偏二氟乙烯材料或聚四氟乙烯材料制作。本实施例中，第一导流板3和第二导流板采用聚偏二氟乙烯材料或聚四氟本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，包括干燥模组壳体以及设于所述干燥模组壳体内的晶圆干燥槽体，其特征在于，还包括第一导流板、第二导流板和集液槽围板，其中，所述干燥模组壳体的两侧设有两所述第一导流板和两所述第二导流板，其中，每一所述第一导流板的一侧分别与所述干燥模组壳体连接，每一所述第一导流板的另一侧分别与一所述第二导流板的一侧连接，所述集液槽围板设于所述晶圆干燥槽体的两侧，且每一所述集液槽围板与所述晶圆干燥槽体之间分别形成一集液槽，每一所述第二导流板的一侧分别延伸至一所述集液槽的上侧。2.如权利要求1所述的用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，其特征在于，每一所述第一导流板以及每一所述第二导流板分别由上至下向靠近所述集液槽的方向倾斜设置。3.如权利要求2所述的用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，其特征在于，每一所述第一导流板的倾斜角度分别小于所述第二导流板的倾斜角度。4.如权利要求2所述的用于改善晶圆干燥模组洁净度的机构，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓信甫，周乾，刘大威，陈丁堃，
申请(专利权)人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：