吸附机构及吸附系统技术方案

技术编号:30093039 阅读:22 留言:0更新日期:2021-09-18 08:55
本发明专利技术公开了一种吸附机构及吸附系统。本发明专利技术中,吸附机构包括:吸盘,吸盘内开设有第一气道和第二气道,且吸盘的底部开设有与第一气道相通的进气孔;吸盘内还设有与第二气道相通且贯穿吸盘的顶部的走气通道;交接装置,交接装置设置在吸盘中;交接装置具有支撑杆,且支撑杆用于在第一气道内通入气体时被气体顶出吸盘的顶部;以及;单向控制阀,设置在吸盘内,连接第一气道和第二气道;其中单向控制阀用于在第一气道内通入气体时关闭,还用于在抽出第一气道内气体时打开。与现有技术相比,使得吸附机构结构简单轻巧、整体尺寸小、且在转动中无线缆干扰,可实现大角度旋转。可实现大角度旋转。可实现大角度旋转。

【技术实现步骤摘要】
吸附机构及吸附系统


[0001]本专利技术涉及集成电路装备制造领域,特别涉及吸附机构及吸附系统。

技术介绍

[0002]在半导体制造工艺设备中,工件台的吸附装置都是需要大角度旋转的,要求工件台的吸盘可以和硅片传输系统完成硅片的交接。常用的硅片交接机构可放置于工件台外部和工件台内部。对于目前放置于工作台外部的交接机构,虽然可以实现硅片和运动台的交接,但不能随工件台进行大角度旋转;放在工件台内部的交接机构,虽然可以实现硅片和运动台的交接,以及可以随工件台进行大角度旋转,但其尺寸过大,结构也过于复杂。如在美国专利US6390767B1中,提出一种该领域的硅片交接机构,该交接方案主要由固定在框架上的三组接片臂组成,每个接片臂由步进电机驱动上片手完成三个位置的转动,从而可以完成和工件台的硅片交接流程。该交接机构可以完成硅片的交接,但结构较为复杂,也不能实现大角度旋转,且交接用到了电机,控制复杂,还会受到线缆的干扰。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种吸附机构及吸附系统,使得吸附机构结构简单轻巧、整体尺寸小、且在转动中无线缆干扰,可实现大角度旋转。
[0004]为解决上述技术问题,本专利技术的实施方式提供了一种吸附机构,包括:吸盘,所述吸盘内开设有第一气道和第二气道,且所述吸盘的底部开设有与所述第一气道相通的进气孔;所述吸盘内还设有与所述第二气道相通且贯穿所述吸盘的顶部的走气通道;交接装置,所述交接装置设置在所述吸盘中;所述交接装置具有支撑杆,且所述支撑杆用于在所述第一气道内通入气体时被所述气体顶出所述吸盘的顶部;以及;单向控制阀,设置在所述吸盘内,连接所述第一气道和所述第二气道;其中所述单向控制阀用于在所述第一气道内通入气体时关闭,还用于在抽出所述第一气道内气体时打开。
[0005]在一实施例中,所述第一气道径向延伸。
[0006]在一实施例中,所述进气孔与所述吸盘同轴设置。
[0007]在一实施例中,至少一个所述第一气道具有延伸至所述吸盘侧壁上的第一开口端,所述第一开口端处设置有第一堵头。
[0008]在一实施例中,所述第二气道径向延伸。
[0009]在一实施例中,所述第二气道具有延伸至所述吸盘侧壁上的第二开口端,所述第二开口端处设置有第二堵头,所述第二堵头上开设有节流孔。
[0010]在一实施例中,所述第二气道与多条所述走气通道相连通,且所述多条所述走气通道沿所述第二气道的延伸方向顺次排列。
[0011]在一实施例中,一条所述第二气道上的多条所述走气通道贯穿所述吸盘的顶部形成一个吸附区;所述第二气道为多条,多条所述第二气道对应的多个所述吸附区在所述吸盘上均匀分布。
[0012]在一实施例中,多个所述吸附区沿所述吸盘周向以相同角度间隔开。
[0013]在一实施例中,所述第二气道具有多条,一个所述单向控制阀对应多条所述第二气道中的至少部分。
[0014]在一实施例中,所述第一气道与所述第二气道数量相同,且一一对应,相对应的所述第一气道和所述第二气道的延伸方向一致。
[0015]在一实施例中,所述交接装置具有多个,且各所述交接装置沿所述吸盘的周向以相同角度间隔开。
[0016]在一实施例中,所述交接装置嵌入在所述吸盘中,且至少一个所述第一气道直接或间接地通向所述支撑杆的底面。
[0017]在一实施例中,所述交接装置还包括具有内腔的外壳,且所述外壳的顶部不高于所述吸盘的顶部;所述外壳包括:壳体、设置在所述壳体的顶部的压盖、设置在所述壳体的底部的限位堵头,且所述壳体围绕所述压盖和所述限位堵头形成所述内腔;所述壳体的侧壁上开设有对接连通所述第一气道和所述内腔的通孔;所述压盖上开设有开口,所述支撑杆与所述壳体的内壁可滑动地密封连接,且所述支撑杆可活动地贯穿所述压盖的开口或收缩进入所述内腔内;所述限位堵头具有凸出至所述内腔中的凸出部,所述凸出部用于支撑所述支撑杆的下底面;且所述凸出部的顶面高于所述通孔的内壁的下部分在一实施例中,所述支撑杆具有与所述壳体的内壁可滑动地密封连接的杆体部,以及由所述杆体部向上凸出的顶头,所述顶头可活动地贯穿所述压盖的开口;所述交接装置还包括:设置在所述外壳内的弹性件,所述弹性件部分嵌入在所述杆体部中,且所述弹性件的两端分别与所述压盖和所述杆体部相抵,其中所述弹性件提供推动所述杆体部朝向所述内腔内滑动的弹力。
[0018]在一实施例中,所述单向控制阀上开设有阀体进气口和阀体出气口,所述阀体进气口与所述第二气道相连通,所述阀体出气口与所述第一气道相连通;且所述单向控制阀具有可活动的设置在所述阀体进气口和所述阀体出气口之间的密封件,且所述密封件可操作地打开或封闭所述阀体进气口。
[0019]本专利技术的实施方式还提供了一种吸附系统,包括:底座,所述底座内具有通气气路;如上所述的吸附机构,且所述吸附机构的所述进气孔与所述通气气路相对对接;其中所述吸附机构与所述底座连接。
[0020]在一实施例中,所述吸附机构与所述底座转动连接,所述底座上固定有定子,以及与所述定子相配合的动子,所述动子与所述吸附机构相固定。
[0021]在一实施例中,所述动子与所述定子同轴设置,且所述通气气路具有贯穿所述底座的顶部的对接孔,所述对接孔与所述动子、所述定子同轴设置,且所述对接孔与所述进气孔相对接。
[0022]本专利技术实施方式相对于现有技术而言,由于交接装置直接设置在吸盘中,且通过气体推动实现交接装置承接产品,结构简单精巧,也无线缆连接干扰。同时,单向控制阀连接第一气道和第二气道,通过单向控制阀的关闭,实现交换装置的支撑杆顶出吸盘承接产品时,贯穿所述吸盘的顶部的走气通道不对产品作用,而在单向控制阀开启时交换装置的支撑杆进入吸盘中不对产品作用,走起通道中可形成负压让产品吸附固定在吸盘的顶部,使得产品可稳定的被吸盘带动运动。从而该吸附机构即实现产品的交接工作又可实现带动产品运动,且该结构简单轻巧、整体尺寸小。另外该吸附机构中无线缆干扰,吸盘可大角度旋转不会被缠绕。进一步的,第一气道和第二气道通过单向控制阀可实现相通和断开,即通过相同的进气孔连接外部设备可实现第一气道和第二气道中气体的交互,使得吸附机构在被驱动转动时无需顾虑第一气道和第二气道中需要通过不同的进气口与外部设备连通,让吸附机构的使用装配更为简单,进一步实现吸附机构可被带动360
°
无限制旋转,满足生产需求。
附图说明
[0023]一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明,这些示例性说明并不构成对实施例的限定,附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件,除非有特别申明,附图中的图不构成比例限制。
[0024]图1是根据本专利技术第一实施例中吸附机构的结构示意图;图2是根据本专利技术第一实施例中吸附机构安装在底座上的剖视图;图3是根据本专利技术第一实施例中吸盘的剖视图;图4是根据本专利技术第一实施例中交接装置的结构示意图;图5是根据本专利技术第一实施例中单向控制阀的结构示意图;图6是根据本专利技术第二实施例中吸本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种吸附机构,其特征在于,包括:吸盘,所述吸盘内开设有第一气道和第二气道,且所述吸盘的底部开设有与所述第一气道相通的进气孔;所述吸盘内还设有与所述第二气道相通且贯穿所述吸盘的顶部的走气通道;交接装置,所述交接装置设置在所述吸盘中;所述交接装置具有支撑杆,且所述支撑杆用于在所述第一气道内通入气体时被所述气体顶出所述吸盘的顶部;以及;单向控制阀,设置在所述吸盘内,连接所述第一气道和所述第二气道;其中所述单向控制阀用于在所述第一气道内通入气体时关闭,还用于在抽出所述第一气道内气体时打开。2.根据权利要求1所述的吸附机构,其特征在于,所述第一气道径向延伸。3.根据权利要求2所述的吸附机构,其特征在于,所述进气孔与所述吸盘同轴设置。4.根据权利要求1或2所述的吸附机构,其特征在于,至少一个所述第一气道具有延伸至所述吸盘侧壁上的第一开口端,所述第一开口端处设置有第一堵头。5.根据权利要求1所述的吸附机构,其特征在于,所述第二气道径向延伸。6.根据权利要求1或5所述的吸附机构,其特征在于,所述第二气道具有延伸至所述吸盘侧壁上的第二开口端,所述第二开口端处设置有第二堵头,所述第二堵头上开设有节流孔。7.根据权利要求1或5所述的吸附机构,其特征在于,所述第二气道与多条所述走气通道相连通,且所述多条所述走气通道沿所述第二气道的延伸方向顺次排列。8.根据权利要求1所述的吸附机构,其特征在于,一条所述第二气道上的多条所述走气通道贯穿所述吸盘的顶部形成一个吸附区;所述第二气道为多条,多条所述第二气道对应的多个所述吸附区在所述吸盘上均匀分布。9.根据权利要求8所述的吸附机构,其特征在于,多个所述吸附区沿所述吸盘周向以相同角度间隔开。10.根据权利要求1所述的吸附机构,其特征在于,所述第二气道具有多条,一个所述单向控制阀对应多条所述第二气道中的至少部分。11.根据权利要求1所述的吸附机构,其特征在于,所述第一气道与所述第二气道数量相同,且一一对应,相对应的所述第一气道和所述第二气道的延伸方向一致。12.根据权利要求1所述的吸附机构,其特征在于,所述交接装置具有多个,且各所述交接装置沿所述吸盘的周向以相同角度间隔开。13.根据权利要求1所述的吸附机构,其特征在于,所述交接装置嵌入在所...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴火亮江旭初徐腾肖董亚聪
申请(专利权)人:上海隐冠半导体技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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