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一种新材料板材表面杂质处理设备制造技术

技术编号:30092305 阅读:25 留言:0更新日期:2021-09-18 08:54
本发明专利技术涉及一种杂质处理设备,尤其涉及一种新材料板材表面杂质处理设备。本发明专利技术提供一种能够对新材料板材进行全面打磨除杂,提高新材料板材质量的新材料板材表面杂质处理设备。本发明专利技术提供了这样一种新材料板材表面杂质处理设备,包括:底板,底板上设置有支架;打磨机构,支架上设置有打磨机构;移动机构,支架底部设置有移动机构;支撑机构,移动机构上设置有支撑机构。新材料板材放置在支撑机构,通过移动机构向上移动带动支撑机构上的新材料板材与打磨机构贴合,通过打磨机构转动对新材料板材进行打磨除杂。材进行打磨除杂。材进行打磨除杂。

【技术实现步骤摘要】
一种新材料板材表面杂质处理设备


[0001]本专利技术涉及一种杂质处理设备,尤其涉及一种新材料板材表面杂质处理设备。

技术介绍

[0002]新材料是指新近发展或正在发展的具有优异性能的结构材料和有特殊性质的功能材料。新材料板材生产完成后,需要对其表面进行打磨除杂,便于后期进行加工。
[0003]现有的打磨除杂设备大部分都不能够对新材料板材进行全面打磨除杂,从而影响了新材料板材的质量,降低了工作效率。因此亟需设计一种能够对新材料板材进行全面打磨除杂,提高新材料板材质量的新材料板材表面杂质处理设备,用于解决上述问题。

技术实现思路

[0004]为了克服一般的打磨除杂设备不能够对新材料板材进行全面打磨除杂,从而影响了新材料板材的质量的缺点,技术问题:提供一种能够对新材料板材进行全面打磨除杂,提高新材料板材质量的新材料板材表面杂质处理设备。
[0005]本专利技术的技术方案为:一种新材料板材表面杂质处理设备,包括:底板,底板上设置有支架;打磨机构,支架上设置有打磨机构;移动机构,支架底部设置有移动机构;支撑机构,移动机构上设置有支撑机构,移动机构与支撑机构配合。
[0006]进一步地,打磨机构包括:第一转轴,支架之间均匀间隔转动式设置有一排第一转轴;打磨滚筒,第一转轴上均设置有打磨滚筒;第一皮带传送装置,第一转轴的一端之间设置有第一皮带传送装置;双轴电机,支架一侧设置有双轴电机;第二皮带传送装置,双轴电机输出轴与底部的第一转轴的另一端之间设置有第二皮带传送装置。
[0007]进一步地,移动机构包括:第一导杆,两侧的支架上均对称设置有第一导杆;第一滑块,四个第一导杆上均滑动式设置有第一滑块;第一直型滑槽板,同一侧的两个第一滑块相向一侧之间均设置有第一直型滑槽板;第二直型滑槽板,两个第一直型滑槽板中部的侧壁上均设置有第二直型滑槽板;第一轴承座,两个第二直型滑槽板下部的底板上均设置有第一轴承座;第二转轴,两个第一轴承座上均转动式设置有第二转轴;转动杆,两个第二转轴相向一端均设置有转动杆;第一固定杆,两个第二直型滑槽板内均滑动式设置有第一固定杆,两个转动杆另一端均与两个第一固定杆相向一端连接;第一弹性件,四个第一滑块一侧与四个第一导杆一侧之间均设置有第一弹性件。
[0008]进一步地,支撑机构包括:第二导杆,两个第一直型滑槽内均设置有第二导杆;第二滑块,两个第二导杆上均对称滑动式设置有第二滑块;支撑板,四个第二滑块相向一侧之间设置有支撑板;限位板,支撑板底部设置有限位板;第二弹性件,下部的两个第二滑块一侧与两个第一直型滑槽底部一侧之间均设置有第二弹性件。
[0009]进一步地,还包括:导向块,靠近两个第一轴承座一侧的底板上均设置有导向块;滑杆,两个导向块上均滑动式设置有滑杆;第一齿条,靠近两个第一轴承座一端的滑杆均设置有第一齿条;圆齿轮,两个第二转轴相向一端均设置有圆齿轮,圆齿轮与第一齿条相互啮
合;第三直型滑槽板,两个滑杆另一端均设置有第三直型滑槽板;第三导杆,靠近两个第三直型滑槽板一侧的底板相向一侧的侧壁上均设置有第三导杆;踏板,两个第三导杆之间滑动式设置有踏板;第二固定杆,靠近第三直型滑槽板一侧的踏板侧壁上对称设置有第二固定杆,两个第二固定杆与两个第三直型滑槽板滑动式配合;第三弹性件,踏板底部两侧与两个第二固定杆一侧之间均设置有第三弹性件。
[0010]进一步地,还包括:第三固定杆,限位板底部侧壁上设置有第三固定杆;第二齿条,第三固定杆上设置有第二齿条;第二轴承座,靠近双轴电机一侧的支架相向一侧均设置有第二轴承座;第三转轴,两个第二轴承座之间转动式设置有第三转轴,第三转轴一端通过联轴器与双轴电机的输出轴连接;缺齿轮,第三转轴中部设置有缺齿轮,缺齿轮与第二齿条相互啮合。
[0011]进一步地,还包括:固定块,中部的支架之间设置有固定块;挡板,固定块上设置有挡板。
[0012]进一步地,所述踏板上设置有条形块。
[0013]与现有技术相比,本专利技术具有以下优点:1、新材料板材放置在支撑机构,通过移动机构向上移动带动支撑机构上的新材料板材与打磨机构贴合,通过打磨机构转动对新材料板材进行打磨除杂。
[0014]2、打磨滚筒转动能够对新材料板材进行打磨除杂。
[0015]3、限位板能够将新材料板材支撑,更加方便进行打磨。
[0016]4、缺齿轮与第二齿条啮合能够实现支撑板不断上下移动使得新材料板材打磨的更加全面。
附图说明
[0017]图1为本专利技术的立体结构示意图。
[0018]图2为本专利技术打磨机构的立体结构示意图。
[0019]图3为本专利技术移动机的立体结构示意图。
[0020]图4为本专利技术支撑机构的立体结构示意图。
[0021]图5为本专利技术的第一种部分立体结构示意图。
[0022]图6为本专利技术的第二种部分立体结构示意图。
[0023]图7为本专利技术的第三种部分立体结构示意图。
[0024]附图标记说明:1.底板,2.支架,3.打磨机构,31.第一转轴,32.打磨滚筒,33.第一皮带传送装置,34.双轴电机,35.第二皮带传送装置,4.移动机构,41.第一导杆,42.第一滑块,43.第一直型滑槽板,44.第二直型滑槽板,45.第一轴承座,46.第二转轴,47.转动杆,48.第一固定杆,49.第一弹性件,5.支撑机构,51.第二导杆,52.第二滑块,53.支撑板,54.限位板,55.第二弹性件,6.导向块,7.滑杆,8.第一齿条,9.圆齿轮,10.第三直型滑槽板,11.第三导杆,12.踏板,13.第二固定杆,14.第三弹性件,15.第三固定杆,16.第二齿条,17.第二轴承座,18.第三转轴,19.缺齿轮,20.固定块,21.挡板。
具体实施方式
[0025]下面结合附图对本专利技术进行具体描述。
[0026]实施例1如图1所示,一种新材料板材表面杂质处理设备,包括有底板1、支架2、打磨机构3、移动机构4和支撑机构5,底板1上设置有支架2,支架2上设置有打磨机构3,支架2底部设置有移动机构4,移动机构4上设置有支撑机构5,移动机构4与支撑机构5配合。
[0027]在需要对新材料板材表面杂质进行处理时,工作人员将新材料板材放置在支撑机构5,随后工作人员将打磨机构3启动,这时工作人员向左推动移动机构4,移动机构4向上移动带动支撑机构5上的新材料板材与打磨机构3贴合,打磨机构3转动对新材料板材进行打磨除杂,待新材料板材打磨除杂完成后,工作人员松开移动机构4,移动机构4向下移动带动支撑机构5上的新材料板材与打磨机构3脱离贴合,这时工作人员关闭打磨机构3,随后工作人员将新材料板材取出进行收集。本装置结构简单,便于操作。
[0028]实施例2如图2、图3和图4所示,在实施例1的基础之上,打磨机构3包括有第一转轴31、打磨滚筒32、第一皮带传送装置33、双轴电机34和第二皮带传送装置35,支架2之间均匀间隔转动式设置有一排第一转轴31,第一转轴31上均设置有打磨滚本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新材料板材表面杂质处理设备,其特征是,包括:底板(1),底板(1)上设置有支架(2);打磨机构(3),支架(2)上设置有打磨机构(3);移动机构(4),支架(2)底部设置有移动机构(4);支撑机构(5),移动机构(4)上设置有支撑机构(5),移动机构(4)与支撑机构(5)配合。2.如权利要求1所述的一种新材料板材表面杂质处理设备,其特征是,打磨机构(3)包括:第一转轴(31),支架(2)之间均匀间隔转动式设置有一排第一转轴(31);打磨滚筒(32),第一转轴(31)上均设置有打磨滚筒(32);第一皮带传送装置(33),底部的第一转轴(31)的一端之间设置有第一皮带传送装置(33);双轴电机(34),支架(2)一侧设置有双轴电机(34);第二皮带传送装置(35),双轴电机(34)输出轴与第一转轴(31)的另一端之间设置有第二皮带传送装置(35)。3.如权利要求2所述的一种新材料板材表面杂质处理设备,其特征是,移动机构(4)包括:第一导杆(41),两侧的支架(2)上均对称设置有第一导杆(41);第一滑块(42),四个第一导杆(41)上均滑动式设置有第一滑块(42);第一直型滑槽板(43),同一侧的两个第一滑块(42)相向一侧之间均设置有第一直型滑槽板(43);第二直型滑槽板(44),两个第一直型滑槽板(43)中部的侧壁上均设置有第二直型滑槽板(44);第一轴承座(45),两个第二直型滑槽板(44)下部的底板(1)上均设置有第一轴承座(45);第二转轴(46),两个第一轴承座(45)上均转动式设置有第二转轴(46);转动杆(47),两个第二转轴(46)相向一端均设置有转动杆(47);第一固定杆(48),两个第二直型滑槽板(44)内均滑动式设置有第一固定杆(48),两个转动杆(47)另一端均与两个第一固定杆(48)相向一端连接;第一弹性件(49),四个第一滑块(42)一侧与四个第一导杆(41)一侧之间均设置有第一弹性件(49)。4.如权利要求3所述的一种新材料板材表面杂质处理设备,其特征是,支撑机构(5)包括:第二导杆(51),两个第一直型滑槽内均设置有第二导杆(51);第二滑块(52),两个第二导杆(51)上均对称滑动式设置有第二滑块(52);支撑板(53),四个第二滑块(52)相向一侧之...

【专利技术属性】
技术研发人员:张志华
申请(专利权)人:张志华
类型:发明
国别省市:

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