成像系统技术方案

一种用于拍摄物体的成像系统，包括用于照亮物体的多个光源和多个光学传感器，其中所述多个光源发射光辐射，并且其中所述多个光学传感器被布置成检测从所述物体反射的光辐射。感器被布置成检测从所述物体反射的光辐射。感器被布置成检测从所述物体反射的光辐射。

【技术实现步骤摘要】
成像系统


[0001]本申请涉及用于借助光学传感器来拍摄物体的成像系统。

技术介绍

[0002]这一小节提供了与本公开相关的背景信息，这些信息并不一定是现有技术。
[0003]用于拍摄物体的成像系统具有用于照亮物体的光源和例如用于采集在传送机系统上传送的物体的图像或检测物体上的码的光学传感器。在物流中，成像系统例如用于运输、处置和储存过程，其中物体用传送机来移动。

技术实现思路

[0004]这一小节提供了本公开的大体
技术实现思路
，并且不是对其完整范围或其所有特征的详尽公开。
[0005]在至少一个实施例中，本公开涉及一种用于拍摄物体的成像系统，包括用于照亮物体的多个光源和多个光学传感器，其中所述多个光源发射光辐射，并且其中所述多个光学传感器被适配成检测从所述物体反射的光辐射。多个光源中的第一光源和第二光源发射具有相同波特性的光辐射。该成像系统还包括被适配成影响波特性的第一滤光器，第一滤光器被布置成使得第一光源和物体之间的光辐射落在第一滤光器上，并且物体和多个传感器中的第一传感器之间的反射光辐射落在第一滤光器上。此外，该成像系统包括被适配成影响波特性的第二滤光器，第二滤光器被布置成使得第二光源和物体之间的光辐射落在第二滤光器上，并且物体和多个传感器中的第二传感器之间的反射光辐射落在第二滤光器，第一滤光器与第二滤光器不同地影响波特性。
[0006]在成像系统的至少一个实施例中，提供多个光源中的第三光源，其发射具有与第一光源和第二光源相同的波特性的光辐射，其中提供第三滤光器，其被适配成影响波特性，第三滤光器被布置成使得第三光源和物体之间的光辐射落在第三滤光器上，并且使得物体和多个传感器中的第三传感器之间的反射光辐射落在第三滤光器上，并且其中第三滤光器与第一滤光器和第二滤光器不同地影响波特性。
[0007]在成像系统的至少一个实施例中，光辐射的相同波特性是光波长的相同光源波段范围，其中多个光源发射具有光波长的相同光源波段范围的光辐射。多个传感器被适配成检测光波长的光源波段范围上的反射光辐射，其中第一滤光器影响波特性以使得光源波段范围被限制在光波长的第一子波段范围，并且其中所述第二滤光器影响波特性以使得光源波段范围被限制在光波长的第二子波段范围。例如，光波长的第一子波段范围不同于光波长的第二子波段范围，使得避免了归因于具有交叉光路的光波的叠加而导致的过度曝光。光波长的光源波段范围可被划分成第一子波段范围和第二子波段范围，例如以提供大的子波段范围，可能提供大致相等大小的子波段范围。
[0008]在成像系统的至少一个实施例中，第三滤光器影响波特性，使得光源波段范围被限制在光波长的第三子波段范围，光波长的第三子波段范围不同于光波长的第一子波段范
围和光波长的第二子波段范围。光波长的光源波段范围可被划分成第一子波段范围、第二子波段范围和第三子波段范围，例如以提供大的子波段范围，可能提供大致相等大小的子波段范围。
[0009]在成像系统的至少一个实施例中，提供多个镜，其允许光辐射被反射并且因此可以使用现有的安装空间。
[0010]在成像系统的至少一个实施例中，该多个镜中的第一镜包括第一滤光器，而该多个镜中的第二镜包括第二滤光器。
[0011]在成像系统的至少一个实施例中，多个镜中的第三镜包括第三滤光器。
[0012]在成像系统的至少一个实施例中，第一滤光器和第二滤光器各自作为滤光盘来提供。
[0013]在成像系统的至少一个实施例中，相同的波特性是不规则取向的横向振荡，其中第一光源和第二光源发射具有该不规则取向的横向振荡的光辐射，并且其中第一传感器和第二传感器被适配成检测具有任意取向的横向振荡的反射光辐射。第一滤光器影响波特性，使得横向振荡被限于第一振荡方向，且第二滤光器影响波特性，使得横向振荡被限于第二振荡方向，其中横向振荡的第一振荡方向不同于横向振荡的第二振荡方向。
[0014]通过本文中提供的说明书，进一步的可用性领域将变得显而易见。本
技术实现思路
中的描述以及特定示例仅旨在说明的目的，并且不旨在限制本公开的范围。
附图说明
[0015]本文中所描述的附图用于仅说明所选实施例而非所有可能的实施方式的目的，并且不旨在限制本公开的范围。
[0016]图1示出了用于拍摄物体的成像系统(在物体尚未处于被拍摄的状态下)的实施例；
[0017]图2示出了在物体正被拍摄时根据图1的成像系统的实施例；
[0018]图3示出在物体正被拍摄时成像系统的另一实施例；
[0019]图4示出了成像系统的又一实施例。
[0020]在所有附图中，对应附图标记标识对应组件。
具体实施方式
[0021]现在将参考附图更全面地描述示例实施例。尽管术语第一、第二、第三等可以在本文中用于描述各种元素、部件、区域、层和/或部分，但是这些元素、部件、区域、层和/或部分不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于区分诸元素、组件、区域、层或部分。除非上下文明确指出，否则本文中使用的数字术语并不意味着序列或次序。
[0022]图1示出了用于拍摄物体2的成像系统。如该示例性实施例中所示，物体2可以在传送机1上在箭头P的方向上移动。拍摄物体2的目的可以是读取物体2上的码3，例如条形码。码3可以位于物体2的任何一侧，并且在物体2的不同侧上可以有多个码3。物体2沿着传送带1上的成像系统被引导。尽管示例性实施例的描述涉及单个物体2，但是成像系统的应用不限于单件货物，还可以用于散装货物的运输、处置和储存过程。
[0023]该成像系统具有用于照亮物体2的多个光源6、6'以及多个光学传感器5、5'，该多
个光源6、6'发射光辐射9。光学传感器5、5'中的每一者可分别与光源6、6'中的一者相组合以形成拍摄单元4、4'。在示例性实施例中，多个光源6、6'中的第一光源6和第二光源6'发射具有相同波特性的光辐射9。波特性是光波的物理性质。多个光源6、6'的光辐射9在至少一个波特性方面是相同的。多个光源6、6'的光辐射9的光波的若干或全部物理性质也可以相同。例如，多个光源6、6'是相同的，这使得成像系统的结构简单，因为只需要一种类型的光源6、6'。
[0024]该成像系统包括第一滤光器8，其被适配成影响波特性，第一滤光器8被布置成使得第一光源6和物体2之间的光辐射9落在第一滤光器8上，使得光辐射9在受第一滤光器8影响之后变成第一经影响光束11。第二滤光器8'也被适配成影响波特性，第二滤光器8'被布置成使得第二光源6'和物体2之间的光辐射9落在第一滤光器8'上，使得光辐射9在受第二滤光器8'影响之后变成第二经影响光束11'。第一滤光器8与第二滤光器8'不同地影响波特性，使得第一经影响光束11在其波特性上与第二经影响光束11'不同。第一光源6的光辐射9的光束路径与第二光源6'的光辐射9的光束路径受第一滤光器8和第二滤光器8'的影响后在拍摄区12中交叉。由于光辐射9在波特性方面受到第一滤光器8和第二滤光器8'的不同影响，因此在拍摄区12中不存在第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于拍摄物体的成像系统，所述成像系统包括：用于照亮所述物体的多个光源，以及多个光学传感器，其中所述多个光源发射光辐射，以及其中所述多个光学传感器被适配成检测从所述物体反射的光辐射；其中所述多个光源中的第一光源和第二光源发射具有相同波特性的光辐射；所述成像系统还包括：被适配成影响所述波特性的第一滤光器，所述第一滤光器被布置成使得所述第一光源和所述物体之间的光辐射落在所述第一滤光器上，并且所述物体和所述多个传感器中的第一传感器之间的反射光辐射落在所述第一滤光器上，以及被适配成影响所述波特性的第二滤光器，其中所述第二滤光器被布置成使得所述第二光源和所述物体之间的光辐射落在所述第二滤光器上，并且所述物体和所述多个传感器中的第二传感器之间的反射光辐射落在所述第二滤光器上，其中所述第一滤光器与所述第二滤光器不同地影响所述波特性。2.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述多个光源中的第三光源发射具有与所述第一光源和所述第二光源相同的波特性的光辐射；所述成像系统包括被适配成影响所述波特性的第三滤光器，其中所述第三滤光器被布置成使得所述第三光源和所述物体之间的光辐射落在所述第三滤光器上，并且所述物体和所述多个传感器中的第三传感器之间的反射光辐射落在所述第三滤光器上；其中所述第三滤光器与所述第一滤光器和所述第二滤光器不同地影响所述波特性。3.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述第一光源的光辐射的光路与所述第二光源的光辐射的光路相交。4.如权利要求3所述的成像系统，其特征在于，所述第三光源的光辐射的光路与所述第一光源和所述第二光源的光辐射的光路中的至少一者相交。5.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述光辐射的相同波特性是光波长的相同光源波段范围，并且其中所述多个光源发射具有光波长的相同光源波段范围的光辐射；其中所述多个传感器被适配成检测在光波长的所述光源波段范围上的反射光辐射；其中所述第一滤光器影响所述波特性使得所述光源波段范围被限制在光波长的第一子波段范围；并且其中所述第二滤光器影响所述波特性使得所述光源波段范围被限制在光波长的第二子波段范围；其中光波长的所述第一子波段范围不同于光波长的所述第二子波段范围。6.如权利要求5所述的成像系统，其特征在于，光波长的所述光源波段范围被划分成所述第一子波段范围和所述第二子波段范围。7.如权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：锐多视觉系统工程有限公司，
类型：发明
国别省市：