一种石英硅片清洗槽机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种石英硅片清洗槽机构，包括清洗槽、丝杆螺母、硅片放置框和电机；所述清洗槽内壁上设有进液槽，所述进液槽上设有进液孔，所述丝杆螺母设于清洗槽的四个直角处，所述硅片放置框两侧通过连接柱与与丝杆螺母上的升降板连接，所述电机固定于升降板朝向进液槽的一侧，且电机的转轴贯穿升降板与连接柱连接，所述硅片放置框的内壁设有放置槽，硅片放置框底部设有通槽。本实用新型专利技术可降低清洗成本，实现清洗槽内的清洗剂随时可循环流动，有利于保持清洗剂的浓度，保证清洗效果，从而提高后续使用质量。高后续使用质量。高后续使用质量。

【技术实现步骤摘要】
一种石英硅片清洗槽机构


[0001]本技术涉及石英硅片
，具体涉及一种石英硅片清洗槽机构。

技术介绍

[0002]在半导体行业中，半导体技术对硅片表面杂质的要求变得越来越苛刻。而影响硅片表面清洁度的关键因素就是对于最终硅片采用的清洗装置的清洗能力。
[0003]在现有技术中，对于硅片的清洗方式是直接将硅片放置在存放框中，再将存放框整体放入清洗槽中放置一定时间再取出来即可，若要更换清洗剂则需要将所有清洗剂排出再倒入新的清洗剂，这样会使清洗成本变高，若长时间没换，清洗槽内的清洗剂难以实现循环流动，硅片表面的杂质会沉淀在清洗槽内，影响清洗剂的浓度，从而影响清洗效果，影响后续使用质量。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是：提供一种石英硅片清洗槽机构，降低清洗成本，实现清洗槽内的清洗剂随时可循环流动，保持清洗剂的浓度，保证清洗效果，提高后续使用质量。
[0005]为了实现上述目的，本技术提供如下的技术方案：
[0006]一种石英硅片清洗槽机构，包括清洗槽、丝杆螺母、硅片放置框和电机；所述清洗槽内壁上设有进液槽，所述进液槽上设有进液孔，清洗槽底部设有排液孔，所述丝杆螺母设于清洗槽的四个直角处，所述硅片放置框两侧通过连接柱与丝杆螺母上的升降板连接，所述电机固定于升降板朝向进液槽的一侧，且电机的转轴贯穿升降板与连接柱连接，所述硅片放置框的内壁设有放置槽，硅片放置框底部设有通槽。
[0007]优选地，所述进液槽设置于所述清洗槽的长度方向两侧，所述进液槽的数量为若干个，具体呈直线阵列状设置，且进液槽与清洗槽的长度边线呈垂直位置关系；所述进液孔的数量为若干个，具体呈间隔状排列于进液槽上。
[0008]优选地，所述放置槽与所述进液槽的方向平行，放置槽的数量为若干个，具体呈直线阵列状设置。
[0009]优选地，所述通槽的数量为若干个，具体呈直线阵列状设置，且所述通槽与所述放置槽的位置具体为交错设置。
[0010]优选地，所述硅片放置框与所述连接柱具体呈可拆卸的连接关系。
[0011]本技术的有益效果为：一种石英硅片清洗槽机构，可降低清洗成本，实现清洗槽内的清洗剂随时可循环流动，有利于保持清洗剂的浓度，保证清洗效果，从而提高后续使用质量。
附图说明
[0012]图1为本技术一种石英硅片清洗槽机构的整体结构示意图；
[0013]图2为图1中硅片放置框的局部结构示意图；
[0014]图中：1、清洗槽；10、进液槽；11、进液孔；2、丝杆螺母；3、升降板；4、硅片放置槽；40、放置槽；41、通槽；5、电机；6、连接柱；7、排液孔。
具体实施方式
[0015]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术作进一步的详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0016]参考图1至图2，一种石英硅片清洗槽机构，包括清洗槽1、丝杆螺母2、硅片放置框4和电机5；所述清洗槽1内壁上设有进液槽10，所述进液槽10上设有进液孔11，清洗槽1底部设有排液孔7，所述丝杆螺母2设于清洗槽1的四个直角处，所述硅片放置框4两侧通过连接柱6与丝杆螺母2上的升降板3 连接，所述电机5固定于升降板3朝向进液槽10的一侧，且电机5的转轴贯穿升降板3与连接柱6连接，所述硅片放置框4的内壁设有放置槽40，硅片放置框4底部设有通槽41。
[0017]所述进液槽10设置于所述清洗槽1的长度方向两侧，所述进液槽10的数量为若干个，具体呈直线阵列状设置，且进液槽10与清洗槽1的长度边线呈垂直位置关系；所述进液孔11的数量为若干个，具体呈间隔状排列于进液槽10上。
[0018]所述放置槽40与所述进液槽10的方向平行，放置槽40的数量为若干个，具体呈直线阵列状设置。
[0019]所述通槽41的数量为若干个，具体呈直线阵列状设置，且所述通槽41与所述放置槽40的位置具体为交错设置。
[0020]所述硅片放置框4与所述连接柱6具体呈可拆卸的连接关系。
[0021]本技术的工作原理为：开始工作前，将排液孔7的外盖拧紧，将清洗液加入清洗槽1内，再将待清洗的硅片对应放至硅片放置框4上的放置槽40内，启动丝杆螺母2，驱动硅片放置框4随升降板3下降至清洗槽1内，同时开启电机5，驱动硅片放置框4左右轻微摇晃，使清洗效果更好，在此过程中，清洗液可从相邻两个硅片之间的通槽41向上流动，从而加强对硅片两侧的清洗，清洗效果更佳，在清洗过程中，可将进液孔11连接上外端的进水导管，再将排液孔 7的外盖适当拧松一点，由此可达到清洗槽1内清洗液的循环流动。
[0022]上述实施例用于对本技术作进一步的说明，但并不将本技术局限于这些具体实施方式。凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应理解为在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石英硅片清洗槽机构，其特征在于：包括清洗槽(1)、丝杆螺母(2)、硅片放置框(4)和电机(5)；所述清洗槽(1)内壁上设有进液槽(10)，所述进液槽(10)上设有进液孔(11)，清洗槽(1)底部设有排液孔(7)，所述丝杆螺母(2)设于清洗槽(1)的四个直角处，所述硅片放置框(4)两侧通过连接柱(6)与丝杆螺母(2)上的升降板(3)连接，所述电机(5)固定于升降板(3)朝向进液槽(10)的一侧，且电机(5)的转轴贯穿升降板(3)与连接柱(6)连接，所述硅片放置框(4)的内壁设有放置槽(40)，硅片放置框(4)底部设有通槽(41)。2.根据权利要求1所述的一种石英硅片清洗槽机构，其特征在于：所述进液槽(10)设置于所述清洗槽(1)的长度方向两侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶锡昆，
申请(专利权)人：昆山佳鹿石英有限公司，
类型：新型
国别省市：