一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及镜片加工技术领域，具体涉及一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法；本发明专利技术包括数控台、工作台、一级研抛组件和二级研抛组件，一级研抛组件包括行程组件、驱动组件、固定组件和抛光组件，行程组件包括导轨板、滑块、螺杆和行程电机，驱动组件包括联结杆和旋转电机，固定组件包括C型臂、负压筒、真空吸盘和负压泵，抛光组件包括抛光池、磨盘、齿轮、链条和抛光电机，二级研抛组件包括安装座、抛光筒、电磁铁和电源模块，一级研抛组件和二级研抛组件由数控台控制，一级研抛组件还配套有与之匹配的辅助组件，辅助组件包括喷淋头、输送泵、储液桶和废液桶；本发明专利技术能够有效地解决现有技术存在抛光的精度不高和抛光的效率较低等问题。较低等问题。较低等问题。

【技术实现步骤摘要】
一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法


[0001]本专利技术涉及镜片加工
，具体涉及一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法。

技术介绍

[0002]透镜可广泛应用于安防、车载、数码相机、激光、光学仪器等各个领域，随着市场不断的发展，透镜技术也越来越应用广泛。透镜是根据光的折射规律制成的。透镜是由透明物质(如玻璃、水晶等)制成的一种光学元件。透镜是折射镜，其折射面是两个球面(球面一部分)，或一个球面(球面一部分)一个平面的透明体。
[0003]在申请号为：CN201820153809.1的专利文件中公开了一种高精度透镜平摆高精度研磨抛光设备，属于镜片加工设备领域，包括机体、抛光装置、以及定位夹紧装置，抛光装置包括液压缸体、活塞柱、固定块、电机、以及抛光盘，定位夹紧装置包括支撑柱、定位平台、支撑台、气缸、以及定位杆。本技术公开了一种高精度透镜平摆高精度研磨抛光设备，通过在机体的顶部固定抛光装置，在机体的下部固定定位夹紧装置。定位夹紧装置包括定位平台，定位平台上表面固定有定位块，定位平台的一侧设有用于进行水平夹紧的气缸。不仅在竖直方向使镜片在抛光过程中进行固定，而且在水平方向上对镜片进行夹紧固定。大大提高了镜片在抛光过程中的定位精度，进而提高了镜片的抛光精度。。
[0004]但是，其在实际应用的过程中仍存在以下不足：
[0005]第一，抛光的精度不高，因为其仅仅采用机械式的抛光方法，而这对加工设备本身的精度、使用者的技术能力等都有较高要求，这会使得。
[0006]第二，抛光的效率较低，因为同一时间内只能对一个基片进行抛光打磨，这并不符合大规模的生产要求。

技术实现思路

[0007]解决的技术问题
[0008]针对现有技术所存在的上述缺点，本专利技术提供了一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法，能够有效地解决现有技术的存在抛光精度不高和抛光的效率较低等问题。
[0009]技术方案
[0010]为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：
[0011]一种微型3D投影装置基片研抛装置，包括数控台、工作台、一级研抛组件和二级研抛组件；
[0012]所述一级研抛组件包括行程组件、驱动组件、固定组件和抛光组件；
[0013]所述行程组件包括导轨板、滑块、螺杆和行程电机，所述导轨板的数量为两且相互平行设置地设置在工作台上，所述导轨板上均设有行程槽，所述行程槽中均滑接有与之匹配的滑块，所述导轨板上均活动安装有沿行程槽方向的螺杆，所述滑块上贯穿有与螺杆匹
配的螺槽，所述螺杆处于导轨板外部的端部均设有驱动其旋转的行程电机，所述滑块远离另一滑块的外壁上均设有水平的支撑板；
[0014]所述驱动组件包括联结杆和旋转电机，所述联结杆的两端分别与对应的滑块转动连接，所述旋转电机设置在任意一个的支撑板上，并且所述旋转电机的输出轴与联结杆同轴式固定连接；
[0015]所述固定组件包括C型臂、负压筒、真空吸盘和负压泵，所述联结杆上以等间距线型阵列的方式对称地设有一组C型臂，所述C型臂的另一端安装有负压筒，所述负压筒的远离联结杆的端部均设有与之导通的真空吸盘，所述负压泵设置在另一个支撑板上，所述负压筒尾部均通过导气管与负压泵的进气端连通；
[0016]所述抛光组件包括抛光池、磨盘、齿轮、链条和抛光电机，所述抛光池在设置工作台上且处于导轨板沿其行程方向的后端，所述抛光池远离联结杆一端的侧壁上贯穿有一组与C型臂一一对应的轴槽，所述轴槽中均转动连接有转轴，所述转轴处于抛光池内部、外部的端部分别安装有磨盘、齿轮，所述齿轮之间通过链条传动连接，所述抛光电机的输出轴与与任意一个齿轮同轴式连接，所述抛光池靠近联结杆一端的侧壁上开设有一组与C型臂一一对应的缺口；
[0017]所述二级研抛组件包括安装座、抛光筒、电磁铁和电源模块，所述安装座设置在工作台上，所述安装座内部的开设有与之匹配的空腔，所述空腔的顶壁上均匀地设有一组同心圆刻线，每一个所述刻线的圆周上均对称地布满有电磁铁，所述抛光筒可拆卸式的安装在安装座的顶部，所述电磁铁均通过线缆与电源模块电连接；
[0018]所述一级研抛组件和二级研抛组件均由数控台控制。
[0019]更进一步地，所述一级研抛组件还配套有与之匹配的辅助组件，所述辅助组件包括喷淋头、输送泵、储液桶和废液桶，所述抛光池的池口处设有呈倒U型的支撑架，所述支撑架上设有一组与磨盘位置一一对应且输出端朝下的喷淋头，所述储液桶与废液桶均设置在靠近工作台的地面上，所述输送泵设置在储液桶上，所述输送泵输入端的水管伸入储液桶内部，所述输送泵输出端的水管与各个喷淋头连通，所述抛光池上设有排液管，所述负压泵的输出端设有排气管，所述排液管和排气管的另一端均连通到废液桶的内部。
[0020]更进一步地，所述储液桶中储存有预先配制的抛光液。
[0021]更进一步地，所述储液桶和废液桶的顶部的桶盖上均设有压力平衡管。
[0022]更进一步地，所述真空吸盘的作用面均匀的布满有吸附孔。
[0023]更进一步地，所述抛光筒在工作台台面上的投影区域小于空腔在工作工作台台面上的投影区域，所述抛光筒中可拆卸式的放置有吊篮，所述吊篮的本体上均匀地布满有透液孔；所述抛光筒、吊篮和安装座均采用不导磁材料制成。
[0024]更进一步地，所述抛光筒内部设有预先配制的磁流变溶液。
[0025]更进一步地，所述抛光筒底部的侧壁上对称地设有一组支板，所述支板上均贯穿有定位孔，所述安装座上还设有压环体，所述压环体的内环半径与抛光筒的外环半径相同，所述压环体与安装座顶壁接触的底壁上还设有与定位孔一一对应且匹配的定位柱，所述压环体的外环侧壁上还设还对称地设有一组定位支脚，所述定位支脚通过定位螺栓与工作台的台面可拆卸式固定连接。
[0026]更进一步地，所述数控台上设有显示屏、按键模块和接口模块。
[0027]一种微型3D投影装置基片研抛装置的使用方法，包括以下步骤：
[0028]步骤(1)，使用者向储液桶中注入预先配制的抛光液，同时向抛光筒中注入预先配制的磁流变溶液，然后在转轴上安装尺寸大于待抛光基片尺寸的磨盘；
[0029]步骤(2)，使用者通过数控台上的按键模块控制行程电机和旋转电机工作，使得联结杆远离抛光池，并且此时真空吸盘的作用面正朝上；
[0030]步骤(3)，使用者将基片小心放置在真空吸盘的作用面上，然后使用者通过数控台上的按键模块控制负压泵工作，从而使得真空吸盘将基片牢牢的吸附住；
[0031]步骤(4)，使用者通过数控台上的按键模块控制行程电机和旋转电机工作，使得联结杆靠近抛光池，并且此时真空吸盘的作用面正朝磨盘；注意此时，基片与磨盘之间不接触；
[0032]步骤(5)，使用者通过数控台上的按键模块控制行程电机、抛光电机和输送泵工作，从而使得磨盘按指定的转速旋转，同时行程电机驱动滑块沿着行程槽按指定速度移动，从而使得基片逐渐靠近磨盘并与磨盘接触；与此同时本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微型3D投影装置基片研抛装置，其特征在于：包括数控台(1)、工作台(2)、一级研抛组件和二级研抛组件；所述一级研抛组件包括行程组件、驱动组件、固定组件和抛光组件；所述行程组件包括导轨板(3)、滑块(4)、螺杆(5)和行程电机(6)，所述导轨板(3)的数量为两个且相互平行设置地设置在工作台(2)上，所述导轨板(3)上均设有行程槽(7)，所述行程槽(7)中均滑接有与之匹配的滑块(4)，所述导轨板(3)上均活动安装有沿行程槽(7)方向的螺杆(5)，所述滑块(4)上贯穿有与螺杆(5)匹配的螺槽(8)，所述螺杆(5)处于导轨板(3)外部的端部均设有驱动其旋转的行程电机(6)，所述滑块(4)远离另一滑块(4)的外壁上均设有水平的支撑板(9)；所述驱动组件包括联结杆(10)和旋转电机(11)，所述联结杆(10)的两端分别与对应的滑块(4)转动连接，所述旋转电机(11)设置在任意一个支撑板(9)上，并且所述旋转电机(11)的输出轴与联结杆(10)同轴式固定连接；所述固定组件包括C型臂(12)、负压筒(13)、真空吸盘(14)和负压泵(15)，所述联结杆(10)上以等间距线型阵列的方式对称地设有一组C型臂(12)，所述C型臂(12)的另一端安装有负压筒(13)，所述负压筒(13)的远离联结杆(10)的端部均设有与之导通的真空吸盘(14)，所述负压泵(15)设置在另一个支撑板(9)上，所述负压筒(13)尾部均通过导气管(16)与负压泵(15)的进气端连通；所述抛光组件包括抛光池(17)、磨盘(18)、齿轮(19)、链条(20)和抛光电机(21)，所述抛光池(17)在设置工作台(2)上且处于导轨板(3)沿其行程方向的后端，所述抛光池(17)远离联结杆(10)一端的侧壁上贯穿有一组与C型臂(12)一一对应的轴槽，所述轴槽中均转动连接有转轴，所述转轴处于抛光池(17)内部、外部的端部分别安装有磨盘(18)、齿轮(19)，所述齿轮(19)之间通过链条(20)传动连接，所述抛光电机(21)的输出轴与与任意一个齿轮(19)同轴式连接，所述抛光池(17)靠近联结杆(10)一端的侧壁上开设有一组与C型臂(12)一一对应的缺口(22)；所述二级研抛组件包括安装座(23)、抛光筒(24)、电磁铁(25)和电源模块(26)，所述安装座(23)设置在工作台(2)上，所述安装座(23)内部的开设有与之匹配的空腔(27)，所述空腔(27)的顶壁上均匀地设有一组同心圆刻线(28)，每一个所述刻线(28)的圆周上均对称地布满有电磁铁(25)，所述抛光筒(24)可拆卸式的安装在安装座(23)的顶部，所述电磁铁(25)均通过线缆(29)与电源模块(26)电连接；所述一级研抛组件和二级研抛组件均由数控台(1)控制。2.根据权利要求1所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置，其特征在于，所述一级研抛组件还配套有与之匹配的辅助组件，所述辅助组件包括喷淋头(30)、输送泵(31)、储液桶(32)和废液桶(33)，所述抛光池(17)的池口处设有呈倒U型的支撑架(34)，所述支撑架(34)上设有一组与磨盘(18)位置一一对应且输出端朝下的喷淋头(30)，所述储液桶(32)与废液桶(33)均设置在靠近工作台(2)的地面上，所述输送泵(31)设置在储液桶(32)上，所述输送泵(31)输入端的水管(49)伸入储液桶(32)内部，所述输送泵(31)输出端的水管(49)与各个喷淋头(30)连通，所述抛光池(17)上设有排液管(35)，所述负压泵(15)的输出端设有排气管(36)，所述排液管(35)和排气管(36)的另一端均连通到废液桶(33)的内部。3.根据权利要求2所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置，其特征在于，所述储液桶
(32)中储存有预先配制的抛光液。4.根据权利要求2所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置，其特征在于，所述储液桶(32)和废液桶(33)的顶部的桶盖上均设有压力平衡管(37)。5.根据权利要求1所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置，其特征在于，所述真空吸盘(14)的作用面均匀的布满有吸附孔(...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗远昭，
申请(专利权)人：浙江台佳电子信息科技有限公司，
类型：发明
国别省市：