本发明专利技术公开了一种RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖及其制备方法与应用,该RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,它按重量百分数计包括如下组分:镁砂75~92%、铝镁尖晶石6~20%、抗氧化剂0.2~2%、氧化镧0.3~2%、络合镁铝胶结剂1.5~5%。本发明专利技术的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖降低了镁尖晶石砖的碳含量,杜绝了镁尖晶石砖中碳和氧化镁的消耗反应,降低了气孔率,延缓了镁尖晶石砖的侵蚀速率。延缓了镁尖晶石砖的侵蚀速率。延缓了镁尖晶石砖的侵蚀速率。
【技术实现步骤摘要】
RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖及其制备方法与应用
[0001]本专利技术涉及镁尖晶石砖的
,具体涉及一种RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖及其制备方法与应用。
技术介绍
[0002]RH炉是在钢铁冶金行业中最为常见的炉外精炼设备,由浸渍管、环流管、底部槽、中部槽、上部槽、合金溜槽、热弯管等部分组成。自20世纪90年代开始在国内大范围推广后,工作衬耐材普遍使用高温性能良好,抗渣性能优异的镁铬砖。
[0003]随着国家对环保要求的逐渐提升,镁铬砖由于可能在使用及存放过程中产生Cr
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,对人体或环境造成危害,已被国家列入限制使用耐火材料。市场上已出现大量的无铬镁尖晶石砖研究报导及应用,无铬镁尖晶石砖逐渐成为RH炉衬主要耐火材料。
[0004]底部槽是RH炉的重要组成部分,RH炉在运转过程中,钢水仅在底部槽下部1/3
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1/2区域内循环,该区域耐材损毁主要是以钢水的冲刷及钢渣的侵蚀为主,可以视为底部槽的高蚀区;而底部槽高蚀区以上部位主要受到钢渣的喷溅,吹氧,真空镁尖晶石砖自耗反应的影响,可以视为底部槽的低蚀区。底部槽两个区域使用环境有着较大的区别,多数厂家在底部槽使用同一方案,造成了局部效果不佳,底部槽整体拆除现象,造成耐材浪费,有必要对底部槽耐材进行合理设计,达到性价比最优的使用效果。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于克服上述
技术介绍
的不足,提供一种RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖及其制备方法与应用,该镁尖晶石砖降低了镁尖晶石砖的碳含量,杜绝了镁尖晶石砖中碳和氧化镁的消耗反应,降低了气孔率,延缓了镁尖晶石砖的侵蚀速率。
[0006]为实现上述目的,本专利技术提供的一种RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,它按重量百分数计包括如下组分:
[0007][0008]进一步地,所述RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,它按重量百分数计包括如下组分:
[0009][0010]进一步地,所述镁砂选自电熔镁砂或烧结镁砂。
[0011]进一步地,所述镁砂中MgO的质量分数≥96%,其由3mm<粒度≤5mm的镁砂、1mm<粒度≤3mm的镁砂、0.088mm<粒度≤1mm的镁砂、以及粒度≤0.088mm的镁砂组合而成。
[0012]进一步地,所述铝镁尖晶石中Al2O3的质量分数为68%~91%,其由0.088mm<粒度≤1mm的铝镁尖晶石和粒度≤0.088mm的铝镁尖晶石组合而成。
[0013]进一步地,所述抗氧化剂选自Si、BC4、BN中的一种或几种。
[0014]再进一步地,所述氧化镧中La2O3的质量分数≥80%,其粒度为≤0.088mm。
[0015]更进一步地,所述络合镁铝胶结剂中MgO的质量分数≥45%,其粒度为≤0.088mm。
[0016]本专利技术还提供一种上述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖的制备方法,包括如下步骤:
[0017]1)将粒度>0.088mm的原料及络合镁铝胶结剂一次性加入混碾机中,干混0.5~3分钟;
[0018]2)在混碾机中加入1%~2%的水,混合0.5~5分钟;
[0019]3)在混碾机中加入剩余粒度≤0.088mm的原料,混合5~25分钟后出料;
[0020]4)使用压砖机将混合好的料进行压制成型得到半成品砖,成型须在出料后2个小时内完成;
[0021]5)将半成品砖在150℃~250℃干燥12~24小时,即可得到成品。
[0022]本专利技术还提供一种上述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖的应用,将RH炉底部槽壁砖分为低蚀区和高蚀区两个区域,所述低蚀区采用上述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,并通过刀型砖的施工方式进行砌筑。
[0023]与现有技术相比,本专利技术具有如下优点:
[0024]其一,本专利技术未使用酚醛树脂作为结合剂,是因为酚醛树脂中残碳率较高,导致镁尖晶石砖中增加了超过1%的碳,而碳和镁尖晶石砖中的氧化镁会在真空下发生剧烈的反应,生成一氧化碳气体和单质镁气体,造成镁尖晶石砖疏松,严重影响了使用寿命。本专利技术的低蚀区镁尖晶石砖使用络合镁铝胶结剂作为结合剂,降低了镁尖晶石砖的碳含量,杜绝了镁尖晶石砖中碳和氧化镁的消耗反应,降低了气孔率,延缓了镁尖晶石砖的侵蚀速率。
[0025]其二,本专利技术未使用金属铝作为抗氧化剂和塑性结合剂,一方面是因为金属铝在使用过程中会氧化生成氧化铝,氧化铝和氧化镁在高温时会生成铝镁尖晶石,产生较大的体积膨胀,导致结构疏松,影响使用效果;另一方面,金属铝在吹氧时极易生成氧化铝,氧化铝和含氧化钙高的钢包渣在高温真空吹氧时会形成低熔物12CaO
·
7Al2O3,大幅度降低了镁尖晶石砖的耐冲刷性。
[0026]其三,本专利技术使用粒度1
‑
0.088mm,≤0.088mm的铝镁尖晶石,因其与镁砂的热膨胀
系数不同,在使用过程中会产生大量微裂纹,延缓了热应力断裂,提升了镁尖晶石砖的热震稳定性。
[0027]其四,本专利技术添加了氧化镧,因底部槽低蚀区钢渣附着较多,La2O3与钢渣中的CaO及Al2O3反应生成高熔点2CaO
·
4La2O3·
6SiO2,提升了镁尖晶石砖的高温强度,加强了抗冲刷性能,同时阻止了渣的进一步渗透,提升了镁尖晶石砖的抗渣性能,达到提升寿命的目的。
[0028]其五,本专利技术将低蚀区与高蚀区使用不同的镁尖晶石砖进行砌筑,由于低蚀区的镁尖晶石砖更加适应该区域挂渣、真空、吹氧,不接触钢水的特性,使用寿命明显得到提升。采用上述方法进行砌筑,在底部槽大修时,低蚀区镁尖晶石砖因“刀型”砖着力于托砖板上,可以不拆除,低蚀区的使用寿命可达到高蚀区的2
‑
3倍,解决了高蚀区镁尖晶石砖用于低蚀区寿命不高的问题。
附图说明
[0029]图1为一种RH炉底部槽的剖视结构示意图;
[0030]图中,1
‑
RH炉底部槽低蚀区、2
‑
RH炉底部槽高蚀区。
具体实施方式
[0031]下面结合实施案例详细说明本专利技术的实施情况,但它们并不构成对本专利技术的限定,仅作举例而已。同时通过说明本专利技术的优点将变得更加清楚和容易理解。
[0032]实施例1
[0033]一种RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖的组成及重量百分比如下:
[0034][0035]一种RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖的制备方法如下:
[0036]1)将3mm<粒度≤5mm,1mm<粒度≤3mm,0.088mm<粒度≤1mm的原料及络合镁铝胶结剂一次性加入混碾机中,干混0.5分钟;
[0037]2)在混碾机中加入1.5%的水,混合0.5分钟;
[0038]3)在混碾机中加入剩余的原料,混合5分钟后出料;
[0039]4)使用压砖机将混合好的料进行压制成型得到半成品砖,成型必须在出料后2个
小时内完成;
[0040]5)半成品砖进行在2本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,其特征在于:它按重量百分数计包括如下组分:2.根据权利要求1所述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,其特征在于:它按重量百分数计包括如下组分:3.根据权利要求1或2所述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,其特征在于:所述镁砂选自电熔镁砂或烧结镁砂。4.根据权利要求1或2所述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,其特征在于:所述镁砂中MgO的质量分数≥96%,其由3mm<粒度≤5mm的镁砂、1mm<粒度≤3mm的镁砂、0.088mm<粒度≤1mm的镁砂、以及粒度≤0.088mm的镁砂组合而成。5.根据权利要求1或2所述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,其特征在于:所述铝镁尖晶石中Al2O3的质量分数为68%~91%,其由0.088mm<粒度≤1mm的铝镁尖晶石和粒度≤0.088mm的铝镁尖晶石组合而成。6.根据权利要求1或2所述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,其特征在于:所述抗氧化剂选自Si、BC4、BN中的一种或几种。7.根据权利要求1或2所述的RH炉底部槽低蚀区用镁尖晶石砖,其特征在于:所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐志华,曹一,周辉,蔡长秀,姚亚双,刘毅,郑吉红,王志强,
申请(专利权)人:武汉钢铁集团耐火材料有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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