【技术实现步骤摘要】
反射微镜阵列的测试方法及测试装置
[0001]本专利技术涉及芯片测试领域,特别涉及一种反射微镜阵列的测试方法及测试装置。
技术介绍
[0002]DLP(Digital Lighting Processing数字光处理)技术是美国TI(Texas Instruments)公司研究开发的,该技术目前广泛应用在大中小型投影机中,作为投影的核心显示芯片技术,该技术主要的器件DMD(Digital Micromirror Device)的核心是反射微镜阵列。光源发出的光照射到DMD微镜阵列面上,每一个微镜阵列按照显示需求可切换成打开(on)状态或者关闭(off)状态, on和off态分别是芯片上电时,由微镜阵列向不同指定方向偏转一定角度的状态。图像的每一个像素的灰阶差异由一个时序中on态与off态的时间差异来实现;图像的颜色由不同颜色光时序照射微镜来实现。
[0003]但在投影机组装生产中发现,DLP显示芯片本身的差异性,例如微镜在on 态和off态偏转的角度,会对投影机最终亮度、对比度产生一定的影响,因此必须对DLP芯片的来料进行一定的检测,筛选出优质的DLP芯片,淘汰不合规格的DLP芯片。
[0004]由于DMD中的反射微镜阵列每一个微镜都为微米级的反射镜,想通过几何光学的费马原理验证微镜的偏转角度,则需要将微米级别的光斑照射到 DMD上,再通过接收到的反射光的角度来检验微镜的偏转角度是否符合规格,但微米级的光斑肉眼已经无法感知,需要价格昂贵的显微分光测定仪进行测试,且测试光斑较小,设备操作复杂。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种反射微镜阵列的测试方法,其特征在于,包括以下步骤:提供一光源设备,所述光源设备向反射微镜阵列的无微镜阵列区域发出预设波长的检测光束,通过盖玻璃反射将反射微镜阵列与检测光束垂直,平移反射微镜阵列,将所述检测光束所形成的激光光斑调整到反射微镜阵列的微镜阵列区域,形成闪耀光栅的二维衍射光斑;以及根据所述闪耀光栅的参数生成反射微镜阵列的偏转角度的测试结果。2.如权利要求1所述的反射微镜阵列的测试方法,其特征在于,所述根据所述闪耀光栅的参数生成反射微镜阵列的偏转角度的测试结果的步骤包括:使反射微镜阵列处于on状态,得到所述闪耀光栅的参数,以生成反射微镜阵列处于on状态时的偏转角度的测试结果;以及使反射微镜阵列处于off状态,得到所述闪耀光栅的参数,以生成反射微镜阵列处于off状态时的偏转角度的测试结果。3.如权利要求2所述的反射微镜阵列的测试方法,其特征在于,所述闪耀光栅的参数为所述闪耀光栅的闪耀角,将所述闪耀光栅的闪耀角作为所述反射微镜阵列的偏转角度,并与所述反射微镜阵列的预设偏转角度进行比较,以得到测试结果。4.如权利要求3所述的反射微镜阵列的测试方法,其特征在于,所述使反射微镜阵列处于on状态,得到所述闪耀光栅的参数,以生成反射微镜阵列处于on状态时的偏转角度的测试结果的步骤包括:根据光栅公式和闪耀条件计算出光谱的闪耀级次n,沿Y方向旋转反射微镜阵列,在反射微镜阵列处于on状态时,水平方向的第n级次光斑调整到接近与所述检测光束重合,接收所述第n级次光斑的反射光,获得所述第n级次光斑的反射光的反射率,并得到反射微镜阵列沿Y向上的旋转角度;以及以第一预设间隔改变所述光源设备出射光波长,以重复得到沿Y方向的旋转角度以及所述反射光的反射率,直到预设范围内波长光的旋转角度和反射光的反射率均被记录,其中,所述反射光的反射率最大时所对应的旋转角度为反射微镜阵列处于on状态时的偏转角度。5.如权利要求4所述的反射微镜阵列的测试方法,其特征在于,所述使反射微镜阵列处于off状态,得到所述闪耀光栅的参数,以生成反射微镜阵列处于off状态时的偏转角度的测试结果的步骤包括:通过所述盖玻璃反射的光将所述反射微镜阵列调整为与所述检测光束垂直,沿Z方向旋转所述反射微镜阵列,在反射微镜阵列处于off状态时,水平方向的所述第n级次光斑调整到接近与所述检测光束入射光线重合,接收所述第n级次光斑的反射光,获得所述第n级次光斑的反射光的反射率,并得到反射微镜阵列沿Z向上的旋转角度;以及以第一预设间隔改变所述光源设备出射光波长,以重复得到沿Z向的旋转角度以及所述反射光的反射率,直到预设范围内波长光的所述旋转角度和所述反射光的反射率均被记录,其中,所述反射光的反射率最大时所对应的旋转角度为反射微镜阵列处于off状态时的偏转角度。6.如权利要求4或5所述的反射微镜阵列的测试方法,其特征在于,所述光源设备为光谱仪,所述光源设备连接有Y形光纤头,用于接收所述第n级次光...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓杨春,王雅雄,魏仁龙,赵团伟,
申请(专利权)人:歌尔光学科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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