本实用新型专利技术公开了一种低应力纵向抛光装置，包括用于夹持待抛光试样的床头组件和尾座组件，以及设于两者之间并可在两者之间来回滑动的摆臂摩擦抛光运动组件，该摆臂摩擦抛光运动组件包括垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂及设于该摆臂一侧、由砂带安装盘和砂带回收盘组合而成的抛光组件，所述床头组件驱动试样转动，抛光组件对其进行抛光。本实用新型专利技术的抛光装置通过摆臂摩擦抛光运动组件的设置，进而能够更优更平滑地对试样进行抛光，且采用上下旋转的摆臂，有效避免了试样在旋转时与砂带的接触，提高了抛光的效率和质量。提高了抛光的效率和质量。提高了抛光的效率和质量。
【技术实现步骤摘要】
低应力纵向抛光装置
[0001]本技术属于抛光装置领域，尤其涉及一种低应力纵向抛光装置。
技术介绍
[0002]众所周知，材料的疲劳和断裂特性的测试是通过材料取样并加工成试样后进行的。因此从取样、试样加工到测试的每一阶段都存在着影响测试结果的干扰因素。特别是试样加工阶段，由于不同的加工方式对材料的损伤程度不同，试样的表层残留应力会有很大的变化。而表层残余应力的不同会影响疲劳和断裂特性测试的结果。因此国际航空制造业明确要求必须对疲劳和断裂测试试样进行低应力加工。
技术实现思路
[0003]技术目的：本技术的目的是提供一种能够更优更平滑地对试样进行均匀抛光的低应力纵向抛光装置。
[0004]技术方案：本技术的低应力纵向抛光装置，包括用于夹持待抛光试样的床头组件和尾座组件，以及设于两者之间并可在两者之间来回滑动的摆臂摩擦抛光运动组件，该摆臂摩擦抛光运动组件包括垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂及设于该摆臂一侧、由砂带安装盘和砂带回收盘组合而成的抛光组件，所述床头组件驱动试样转动，抛光组件对其进行抛光。
[0005]进一步说，该抛光装置还包括用于支撑摆臂摩擦抛光运动组件、并可水平滑动的第一支撑座，用于支撑尾座组件、并可水平滑动的第二支撑座，所述第一支撑座和第二支撑座通过底端连接丝杆实现水平运动。床头组件包括用于夹持试样的卡盘及驱动该卡盘转动的电机，尾座组件包括转动设于所述第二支撑座上、与卡盘位于同一中轴线上的顶针，通过卡盘和顶针的配合以实现试样的稳固夹持。
[0006]摆臂通过支撑架设于所述第一支撑座上，且该摆臂的一端通过电机驱动旋转，另一端设有限位挡块。优选的，限位挡块对称设于摆臂的两侧并固定连接于摆臂尾端的支撑架上，该限位挡块上开设有摆臂运动的槽口。
[0007]再进一步说，该抛光装置的砂带安装盘和砂带回收盘之间设有砂带支撑座，该砂带支撑座内贯穿设有支撑砂带的支撑圆棒，支撑圆棒上设有反馈砂带和支撑圆棒两者接触压力的压力传感器。砂带支撑座与砂带安装盘及砂带回收盘之间均设有定位导向轮。
[0008]更进一步说，该装置还包括该装置还包括设于砂带支撑座上端、用于控制所述接触压力的最大值处于标准要求范围内的两组限值弹簧。该装置还包括防护罩壳和设于该防护罩壳上的控制装置，该控制装置操控床头组件、尾座组件和摆臂摩擦抛光运动组件的运动。
[0009]有益效果：与现有技术相比，本技术的效果为：该抛光装置符合 CEP1TF79和NadcapAC7101/7标准要求，用于力学性能试样表面最终道低应力纵向抛光处理，其适用的试样种类包括低周疲劳试样、高频疲劳试样、持久蠕变试样、应力腐蚀试样、拉伸性能试样
等等，适用的试样种类包括圆棒型、板状型。此外，该抛光装置通过摆臂摩擦抛光运动组件的设置，进而能够更优更平滑地对试样进行抛光，且采用上下旋转的摆臂，有效避免了试样在旋转时与砂带的接触，提高了抛光的效率和质量。
附图说明
[0010]图1为本技术摆臂摩擦抛光运动组件结构示意图；
[0011]图2为本技术摆臂摩擦抛光运动组件的主视图；
[0012]图3为本技术摆臂摩擦抛光运动组件的侧视图；
[0013]图4为本技术摆臂摩擦抛光运动组件的俯视图。
具体实施方式
[0014]下面结合附图对本技术的技术方案做进一步详细说明。
[0015]本技术的抛光装置包括抛光装置本体及罩设于该抛光装置本体上的防护罩壳。抛光装置本体从左至右依次包括床头组件、摆臂摩擦抛光运动组件及尾座组件，床头组件和尾座组件配合夹持并旋转待抛光试样，摆臂摩擦抛光运动组件对试样进行均匀抛光。该抛光装置还包括操控床头组件、尾座组件和摆臂摩擦抛光运动组件运动的控制装置，该控制装置设于防护罩壳上。
[0016]其中，床头组件包括床头支撑座及设于床头支撑座上用于夹持试样的卡盘，该卡盘通过电机驱动其旋转，优选的，该电机可为伺服电机。尾座组合件包括设于水平工作台上的第二支撑座，该第二支撑座上转动设有夹紧试样的顶针，且顶针与卡盘位于同一中轴线上。第二支撑座通过与水平工作台上设置的丝杆连接实现左右滑动，进而以对试验进行夹紧和拆卸，该床头组件和尾座组件的结构无异于现有的该类装置的结构。
[0017]如图1至图4所示，摆臂摩擦抛光运动组件通过第一支撑座置于水平工作台上，且同样的，其与水平工作台上的丝杆连接实现水平左右滑动，对试样进行抛光。摆臂摩擦抛光运动组件包括设于第一支撑座上的支撑架1及设于该支撑架1 上并可沿垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂2，即该摆臂2能够实现抬起和落下的运动。摆臂2的一端通过转轴3和电机4驱动旋转，另一端通过摆臂限位挡块5进行限位，进而提高了稳定性和安全性，限位挡块5对称设于摆臂2的两侧并固定连接于摆臂2尾端的支撑架1上，且其上开设有摆臂2运动的槽口。摆臂 2的同一侧面上设有新砂带安装盘6和砂带回收盘7，新砂带安装盘6可通过轴承直接连接于摆臂2的转轴3上，砂带回收盘7通过电机4驱动抽取，优选为伺服电机。摆臂2上位于砂带安装盘6和砂带回收盘7之间设有砂带支撑座8，该砂带支撑座8内贯穿设有支撑砂带的支撑圆棒9，优选可为橡胶圆棒，且该支撑圆棒9上还设有反馈砂带和支撑圆棒9两者接触压力的压力传感器10，砂带支撑座8的上端设有用于控制该接触压力最大值处于标准要求范围内的两组限值弹簧11。砂带支撑座8和砂带安装盘6之间、砂带支撑座8和砂带回收盘7之间均设有砂带定位导向轮12，且该定位导向轮12通过支撑杆13固定于摆臂上。
[0018]除上述部件之外，本技术的抛光装置还包括用于确定砂带起始位置的红外定位装置。
[0019]工作原理：采用床头组件和尾座组件夹紧待抛光试样后，启动摆臂下落使得砂带与试样相接触，并启动第一支撑座进行来回滑动进行抛光。在抛光过程中，当砂带运动至试
样端部R弧顶端时，摆臂抬起，砂带离开试样表面，床头组件的卡盘旋转，然后摆臂落下，砂带与试样接触，摆臂反方向运动至另一端的R 弧顶端时，摆臂抬起，砂带离开试样表面，卡盘旋转，摆臂落下继续运动，循环上述运作方式，直至抛光的圈数达到设定值。
[0020]采用上述的低应力抛光装置进行抛光的方法，包括如下步骤：依靠床头组件和尾座组件夹紧待抛光试样，启动控制装置中的数控指令，通过该数控指令启动摆臂上下旋转、来回滑动以及床头组件的转动，完成抛光组件对试样的均匀抛光作业。
[0021]具体地，当待抛光试样为棒状试样时，采用上述抛光装置进行抛光的方法包括如下步骤：将待抛光试样一段固定于卡盘上，另一端通过顶针夹紧，控制装置中输入摆臂抬起的高度、摆臂抬起的速度、摆臂摩擦抛光运动组件的平移速度、试样的圆弧半径、抽砂纸的速度、每次抽砂纸的行程、砂纸的直径卡盘的旋转速度和旋转角度，进而根据上述参数的设定获得摆臂摩擦抛光运动组件运动轨迹的数控指令，数控指令操控头组件、摆臂摩擦抛光运动组件运动，完成抛光作业。
[0022]当待抛光试样为平板状试样时，采用本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种低应力纵向抛光装置，其特征在于：该抛光装置包括用于夹持待抛光试样的床头组件和尾座组件，以及设于两者之间并可在两者之间来回滑动的摆臂摩擦抛光运动组件，该摆臂摩擦抛光运动组件包括垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂及设于该摆臂一侧、由砂带安装盘和砂带回收盘组合而成的抛光组件，所述床头组件驱动试样转动，抛光组件对其进行抛光。2.根据权利要求1所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：该抛光装置还包括用于支撑摆臂摩擦抛光运动组件、并可水平滑动的第一支撑座，用于支撑尾座组件、并可水平滑动的第二支撑座，所述第一支撑座和第二支撑座通过底端连接丝杆实现水平运动。3.根据权利要求2所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：床头组件包括用于夹持试样的卡盘及驱动该卡盘转动的电机，尾座组件包括转动设于所述第二支撑座上、与卡盘位于同一中轴线上的顶针，通过卡盘和顶针的配合以实现试样的稳固夹持。4.根据权利要求2所述的低应力纵向抛光装置，其特征在于：摆臂通过支撑架设于所述第一支撑...
【专利技术属性】
技术研发人员：支有冉，周玉华，马丽娟，
申请(专利权)人：南京利泽智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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