一种槽盖装置和槽式清洗设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种槽盖装置和槽式清洗设备，其中所述槽盖装置包括：槽盖板、固定架和可伸缩机构；固定架设置于清洗槽的槽壁外部，可伸缩机构设于固定架上；槽盖板设置于清洗槽上方，槽盖板的一端固定设有连杆组件，连杆组件分别与固定架和可伸缩机构的伸缩端铰接，可伸缩机构用于驱动连杆组件进行转动，以使槽盖板进行翻转打开或关闭清洗槽的槽口。本发明专利技术能够提高槽盖装置的装配灵活性，提高槽盖装置与清洗槽的密封性。

【技术实现步骤摘要】
一种槽盖装置和槽式清洗设备
本专利技术涉及半导体设备领域，更具体地，涉及一种槽盖装置和槽式清洗设备。
技术介绍
半导体行业槽式清洗设备中，槽式清洗工艺中部分槽体内化学液的温度在100-120℃。在一些槽内含水的药液因需要高温，通常会产生大量酸气。如不对酸气加以密封控制，则酸气会进入到设备的其余模块，从而影响设备总体的工艺效果。参考图1，为一种现有技术的槽盖，包括左槽盖装配体20和右槽盖装配体21，左槽盖装配体20为槽盖打开状态，右槽盖装配体21为槽盖关闭状态。此装置具有以下不足：1、须固定于设备本体框架上，因而此装置的固定受制于框架的宽度，不能满足不同的工艺槽体的尺寸结构，不利于与槽体尺寸配合。2、密封效果差，因左槽盖装配体20，右槽盖装配体21固定在本体框架上，并非直接与高温工艺槽体22相连，在机构闭合状态下与高温工艺槽体22上端会产生间隙，高温工艺过程中，酸气沿间隙挥发至相邻工艺模块。3、同步性差，此机构分为左槽盖装配体20，右槽盖装配体21左右两个结构，因受到气缸组件不同步因素的影响，导致开关动作不一致，可靠性低。因此，期待一种新的槽盖装置，能够解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提出一种槽盖装置和槽式清洗设备，能够提高槽盖装置的装配灵活性，提高槽盖装置与清洗槽的密封性。为了实现上述目的，本专利技术提供了一种槽盖装置，用于半导体槽式清洗设备，所述半导体槽式清洗设备包括用于进行清洗工艺的清洗槽，该槽盖装置包括：槽盖板、固定架和可伸缩机构；所述固定架设置于所述清洗槽的槽壁外部，所述可伸缩机构设于所述固定架上；所述槽盖板设置于所述清洗槽上方，所述槽盖板的一端固定设有连杆组件，所述连杆组件分别与所述固定架和所述可伸缩机构的伸缩端铰接，所述可伸缩机构用于驱动所述连杆组件进行转动，以使所述槽盖板进行翻转打开或关闭所述清洗槽的槽口。可选方案中，所述可伸缩机构包括至少一气缸组件，所述气缸组件包括气缸和支架，所述支架安装在所述固定架的下端，所述气缸的底部与所述支架铰接并可绕所述支架转动，所述气缸的活塞杆的伸缩端与所述连杆组件铰接。可选方案中，所述连杆组件包括公共连接部、第一连杆、第二连杆和第三连杆；其中，所述公共连接部的一侧面与所述槽盖板的一端固定；所述第一连杆、所述第二连杆和所述第三连杆平行设置；所述第一连杆的一端和所述第二连杆的一端分别与所述公共连接部的两端连接，所述第一连杆的另一端和所述第二连杆的另一端分别与所述固定架顶部的两端铰接；所述第三连杆的一端与所述公共连接部的中部连接，另一端与所述气缸的活塞杆的伸缩端铰接。可选方案中，所述槽盖板底面设有与所述清洗槽的顶部配合的凹槽，所述槽盖板处于关闭状态时，所述清洗槽的顶部与所述凹槽密封配合。可选方案中，所述固定架包括槽体固定板和运动部件支架，所述槽体固定板固定在所述清洗槽的侧壁上，所述运动部件支架固定在所述槽体固定板上，所述支架固定在所述运动部件支架的底端，所述连杆组件的第一连杆和第二连杆分别与所述运动部件支架顶端的两侧铰接。可选方案中，所述气缸的活塞杆的伸缩端与所述第三连杆通过双肘节接头铰接。可选方案中，所述气缸包括单杆双作用气缸。可选方案中，所述气缸组件还包括上调速阀和下调速阀，所述上调速阀与所述气缸的上腔体连接，所述下调速阀与所述气缸的下腔体连接，所述上调速阀和所述下调速阀用于控制所述气缸的活塞杆的伸缩速度。可选方案中，所述气缸组件还包括电磁阀，所述气缸具有第一进出气口和第二进出气口，所述电磁阀用于通过控制所述第一进出气口和所述第二进出气口的进气和排气状态，以使所述气缸的活塞杆进行伸出和缩回的运动。本专利技术还提供了一种槽式清洗设备，包括上述的槽盖装置。本专利技术的有益效果在于：本专利技术的固定架直接安装在清洗槽外壁上，无需借助设备框架即可实现槽盖板与清洗槽的配合，减小了设备结构的尺寸，增加了装配灵活性。另外，此结构不再受框架尺寸的限制，增加了与清洗槽体的配合度，提高了可靠性。可伸缩机构驱动连杆组件转动，连杆组件带动槽盖板进行翻转，以打开或关闭清洗槽的槽口，这样本专利技术由原来的左右分体结构改为一体式的机构，增加了运动一致性，解决了原结构左右运动不同步的缺陷，大幅度增加了设备在运行中的稳定性及可靠性。槽盖板与清洗槽采用凹槽结构配合，当槽盖装置处于闭合状态时，槽盖板与清洗槽之间不再有间隙，因而增加了槽盖装置与清洗槽的密封性，解决了现有结构密封不严的问题，避免酸气溢出，提高了设备内部微环境从而增加了清洗晶圆的工艺效果。本专利技术具有其它的特性和优点，这些特性和优点从并入本文中的附图和随后的具体实施方式中将是显而易见的，或者将在并入本文中的附图和随后的具体实施方式中进行详细陈述，这些附图和具体实施方式共同用于解释本专利技术的特定原理。附图说明通过结合附图对本专利技术示例性实施例进行更详细的描述，本专利技术的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显。图1示出了现有技术的槽式清洗设备的槽盖装置的结构示意图。图2示出了根据本专利技术一实施例的槽盖装置处于打开状态下清洗设备的结构图。图3示出了根据本专利技术一实施例的槽盖装置处于关闭状态下清洗设备的结构图。图4示出了根据本专利技术一实施例的槽盖装置的结构示意图。图5示出了根据本专利技术一实施例的固定架与清洗槽的装配示意图。图6示出了根据本专利技术一实施例的槽盖装置各部件细节示意图。图7示出了根据本专利技术一实施例的槽盖装置打开过程中各部件运动方向示意图。图8示出了根据本专利技术一实施例的槽盖板的凹槽与清洗槽槽壁密封配合的结构示意图。图9示出了根据本专利技术一实施例的气缸气动原理图。标号说明1-清洗槽；2-槽盖板；3-槽体固定板；4-可伸缩机构；5-运动部件支架；6-连杆转轴；7-连杆组件；8-第一进出气口；9-第二进出气口；10-支架轴；11-支架；12-双肘节接头旋转轴；13-双肘节接头；14-气缸活塞杆；15-气缸；16-下调速阀；17-上调速阀；18-电磁阀；20-左槽盖装配体；21-右槽盖装配体；22-高温工艺槽。具体实施方式下面将更详细地描述本专利技术。虽然本专利技术提供了优选的实施例，然而应该理解，可以以各种形式实现本专利技术而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了使本专利技术更加透彻和完整，并且能够将本专利技术的范围完整地传达给本领域的技术人员。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种槽盖装置，用于半导体槽式清洗设备，所述半导体槽式清洗设备包括用于进行清洗工艺的清洗槽，其特征在于，所述槽盖装置包括：/n槽盖板、固定架和可伸缩机构；/n所述固定架设置于所述清洗槽的槽壁外部，所述可伸缩机构设于所述固定架上；/n所述槽盖板设置于所述清洗槽上方，所述槽盖板的一端固定设有连杆组件，所述连杆组件分别与所述固定架和所述可伸缩机构的伸缩端铰接，所述可伸缩机构用于驱动所述连杆组件进行转动，以使所述槽盖板进行翻转打开或关闭所述清洗槽的槽口。/n

【技术特征摘要】
1.一种槽盖装置，用于半导体槽式清洗设备，所述半导体槽式清洗设备包括用于进行清洗工艺的清洗槽，其特征在于，所述槽盖装置包括：
槽盖板、固定架和可伸缩机构；
所述固定架设置于所述清洗槽的槽壁外部，所述可伸缩机构设于所述固定架上；
所述槽盖板设置于所述清洗槽上方，所述槽盖板的一端固定设有连杆组件，所述连杆组件分别与所述固定架和所述可伸缩机构的伸缩端铰接，所述可伸缩机构用于驱动所述连杆组件进行转动，以使所述槽盖板进行翻转打开或关闭所述清洗槽的槽口。


2.根据权利要求1所述的槽盖装置，其特征在于，所述可伸缩机构包括至少一气缸组件，所述气缸组件包括气缸和支架，所述支架安装在所述固定架的下端，所述气缸的底部与所述支架铰接并可绕所述支架转动，所述气缸的活塞杆的伸缩端与所述连杆组件铰接。


3.根据权利要求2所述的槽盖装置，其特征在于，所述连杆组件包括公共连接部、第一连杆、第二连杆和第三连杆；其中，
所述公共连接部的一侧面与所述槽盖板的一端固定；
所述第一连杆、所述第二连杆和所述第三连杆平行设置；
所述第一连杆的一端和所述第二连杆的一端分别与所述公共连接部的两端连接，所述第一连杆的另一端和所述第二连杆的另一端分别与所述固定架顶部的两端铰接；
所述第三连杆的一端与所述公共连接部的中部连接，另一端与所述气缸的活塞杆的伸缩端铰接。


4.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡睿凡，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11