掩膜支撑件及掩膜结构制造技术

本申请实施例提供的掩膜支撑件及掩膜结构，涉及显示技术领域。可以通过设置平衡部，平衡掩膜支撑件在其延伸方向两侧的配重，以使掩膜支撑件在张网过程中，不会因其延伸方向两侧的配重不均而导致掩膜支撑件偏位甚至翻转，进而可以确保采用包括上述掩膜支撑件的掩膜结构进行蒸镀得到的显示面板具有精度较高的异形区域。并且还可以避免因导致掩膜支撑件偏位或翻转而在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。

【技术实现步骤摘要】
掩膜支撑件及掩膜结构
本申请涉及显示
，具体而言，涉及一种掩膜支撑件及掩膜结构。
技术介绍
显示面板(比如，OLED显示面板)常预留异形区域(比如，刘海区域或水滴区域等)用于设置屏下器件(比如，前置摄像头、人脸识别传感器、距离传感器等)。在这种显示面板的制作工艺中，当蒸镀像素的有机发光材料层时，需要在掩膜支撑条上设计用于遮挡有机发光材料层的遮挡部以在显示面板上形成异形区域。专利技术人研究发现，在使用常规掩膜支撑条进行蒸镀时，容易存在蒸镀后形成的异形区域位置精度不高的问题，这会使原本应该位于异形区域下方的屏下器件可能并不完全位于异形区域下方，进而影响采用该显示面板的电子设备的性能。
技术实现思路
为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供一种掩膜支撑件及掩膜结构。本申请的第一方面，提供一种掩膜支撑件，所述掩膜支撑件包括：支撑条；至少一个遮挡部，所述至少一个遮挡部位于所述支撑条延伸方向的第一侧；至少一个平衡部，所述至少一个平衡部用于平衡所述支撑条延伸方向两侧的配重。基于上述结构，可以通过平衡部，平衡掩膜支撑件在其延伸方向两侧的配重，以使掩膜支撑件在张网过程中，不会因其延伸方向两侧的配重不均而导致掩膜支撑件偏位甚至翻转，进而可以确保采用包括上述掩膜支撑件的掩膜结构进行蒸镀得到的显示面板具有精度较高的异形区域。并且还可以避免因导致掩膜支撑件偏位或翻转而在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。在本申请的一种可能实施例中，所述至少一个平衡部位于所述支撑条延伸方向与所述第一侧相对的第二侧；其中，所述至少一个遮挡部从所述支撑条往远离所述第二侧的方向延伸，所述至少一个平衡部从所述支撑条往远离所述第一侧的方向延伸。在本申请的一种可能实施例中，所述平衡部与所述遮挡部的结构相同，所述平衡部与所述遮挡部以所述支撑条在其延伸方向上的中线为对称轴对称分布于所述支撑条相对的两侧。在本申请的一种可能实施例中，所述掩膜支撑件还包括位于所述第二侧且从所述支撑条往远离所述第一侧的方向延伸的多个边角遮挡区，所述遮挡部在所述支撑条上的正投影位于相邻两个所述边角遮挡区在所述支撑条上的正投影之间；所述平衡部位于所述边角遮挡区远离所述支撑条的一侧，且从边角遮挡区往远离所述第一侧的方向延伸。在本申请的一种可能实施例中，所述掩膜支撑件还包括位于所述支撑条延伸方向的相对两侧且从所述支撑条往远离其相对一侧的方向延伸的多个边角遮挡区，所述多个边角遮挡区以所述支撑条在其延伸方向上的中线为对称轴对称分布于所述支撑条相对的两侧；所述遮挡部在所述支撑条上的正投影位于相邻两个所述边角遮挡区在所述支撑条上的正投影之间；所述平衡部位于所述第二侧的边角遮挡区远离所述支撑条的一侧，且从边角遮挡区往远离所述第一侧的方向延伸。在本申请的一种可能实施例中，所述至少一个平衡部为所述遮挡部的减薄区，在垂直于所述遮挡部所在平面的方向上，所述减薄区的厚度小于所述支撑条的厚度。在本申请的一种可能实施例中，在垂直于所述遮挡部所在平面的方向上，所述减薄区的厚度为所述支撑条的厚度的20％～30％。本申请的第二方面，还提供一种掩膜支撑件，所述掩膜支撑件包括：支撑条；至少一个遮挡部，所述至少一个遮挡部位于所述支撑条延伸方向的第一侧，且往远离与所述第一侧相对的第二侧的方向延伸；所述遮挡部包括减薄区，在垂直于所述遮挡部所在平面的方向上，所述减薄区的厚度小于所述支撑条的厚度。本申请的第三方面，还提供一种掩膜结构，所述掩膜结构包括：支撑框架，所述支撑框架包括多个沿第一方向间隔排布的第一掩膜支撑件及多个沿所述第二方向间隔排布的第二掩膜支撑件，所述第一方向与所述第二方向相交，多个所述第一掩膜支撑件与多个所述第二掩膜支撑件限定出至少一个蒸镀区域，所述第一掩膜支撑件或所述第二掩膜支撑件为第一方面所述的掩膜支撑件；至少一个掩膜版单元，所述至少一个掩膜版单元固定在所述支撑框架上，每个所述掩膜版单元包括至少一个网格区域，每个所述蒸镀区域对应一所述网格区域。在本申请的一种可能实施例中，用于限定所述蒸镀区域的多个掩膜支撑件中存在至少一个掩膜支撑件的支撑条包括减薄区以及全厚区，所述减薄区设置于所述支撑件靠近所述蒸镀区域的边缘且位于所述掩膜支撑件朝向所述掩膜版单元的一侧，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述减薄区的厚度小于所述全厚区的厚度。在本申请的一种可能实施例中，所述第一掩膜支撑件在与所述第二掩膜支撑件的交叠位置处设置有朝向所述第二掩膜支撑件的第一凹槽；和/或，所述第二掩膜支撑件在与所述第一掩膜支撑件的交叠位置处设置有朝向所述第一掩膜支撑件的第二凹槽。相对于现有技术，本申请实施例提供的掩膜支撑件及掩膜结构。可以通过设置平衡部平衡掩膜支撑件在其延伸方向两侧的配重，以使掩膜支撑件在张网过程中，不会因其延伸方向两侧的配重不均而导致掩膜支撑件偏位甚至翻转，进而可以确保采用包括上述掩膜支撑件的掩膜结构进行蒸镀得到的显示面板具有精度较高的异形区域。并且还可以避免因导致掩膜支撑件偏位或翻转而在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之一；图2为申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之二；图3为本申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之三；图4为本申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之四；图5为本申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之五；图6为本申请实施例提供的掩膜结构的结构示意图；图7为本申请实施例提供第一掩膜支撑件与第二掩膜支撑件的交叠位置处的结构示意图。标号：1-掩膜结构；10-支撑框架；11-第一掩膜支撑件；12-第二掩膜支撑件；13-蒸镀区域；14-主框架；20-掩膜单元；21-网格区域；1201，11a-减薄区；11b-全厚区；111-第一凹槽；121-第二凹槽；100-掩膜支撑件；110-支撑条；120-遮挡部；130-平衡部；1101-第一侧；1102-第二侧。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜支撑件，其特征在于，所述掩膜支撑件包括：/n支撑条；/n至少一个遮挡部，所述至少一个遮挡部位于所述支撑条延伸方向的第一侧；/n至少一个平衡部，所述至少一个平衡部用于平衡所述支撑条延伸方向两侧的配重。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜支撑件，其特征在于，所述掩膜支撑件包括：
支撑条；
至少一个遮挡部，所述至少一个遮挡部位于所述支撑条延伸方向的第一侧；
至少一个平衡部，所述至少一个平衡部用于平衡所述支撑条延伸方向两侧的配重。


2.如权利要求1所述的掩膜支撑件，其特征在于，
所述至少一个平衡部位于所述支撑条延伸方向与所述第一侧相对的第二侧；
其中，所述至少一个遮挡部从所述支撑条往远离所述第二侧的方向延伸，所述至少一个平衡部从所述支撑条往远离所述第一侧的方向延伸。


3.如权利要求2所述的掩膜支撑件，其特征在于，所述平衡部与所述遮挡部的结构相同，所述平衡部与所述遮挡部以所述支撑条在其延伸方向上的中线为对称轴对称分布于所述支撑条相对的两侧。


4.如权利要求2所述的掩膜支撑件，其特征在于，所述掩膜支撑件还包括位于所述第二侧且从所述支撑条往远离所述第一侧的方向延伸的多个边角遮挡区，所述遮挡部在所述支撑条上的正投影位于相邻两个所述边角遮挡区在所述支撑条上的正投影之间；所述平衡部位于所述边角遮挡区远离所述支撑条的一侧，且从边角遮挡区往远离所述第一侧的方向延伸。


5.如权利要求2所述的掩膜支撑件，其特征在于，所述掩膜支撑件还包括位于所述支撑条延伸方向的相对两侧且从所述支撑条往远离其相对一侧的方向延伸的多个边角遮挡区，所述多个边角遮挡区以所述支撑条在其延伸方向上的中线为对称轴对称分布于所述支撑条相对的两侧；
所述遮挡部在所述支撑条上的正投影位于相邻两个所述边角遮挡区在所述支撑条上的正投影之间；
所述平衡部位于所述第二侧的边角遮挡区远离所述支撑条的一侧，且从边角遮挡区往远离所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：付佳，赵晶晶，刘明星，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32