用于光电器件的有机分子制造技术

技术编号:29598630 阅读:39 留言:0更新日期:2021-08-06 20:02
本发明专利技术涉及一种有机化合物,尤其用于光电器件的有机化合物。根据本发明专利技术,所述有机化合物具有式(I)的结构,其中n是0或1,m=1‑n,X为N或CR

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光电器件的有机分子
本专利技术涉及有机发光分子及其在有机发光二极管(OLED)和其它光电器件中的用途。
技术介绍

技术实现思路
本专利技术的目的在于提供适用于光电器件的分子。此目的通过本专利技术实现,本专利技术提供了一类新的有机分子。根据本专利技术,所述有机分子为纯有机分子,即与已知用于光电器件的金属配合物相比,它们不含任何金属离子。根据本专利技术,所述有机分子在蓝色、天蓝色或绿色光谱范围内表现出最大发射。特别地,所述有机分子在420nm至520nm之间、优选440nm至495nm之间、更优选450nm至470nm之间表现出最大发射。特别地,根据本专利技术的有机分子的光致发光量子产率为50%或更高。在光电器件例如有机发光二极管(OLED)中使用根据本专利技术的分子会导致器件更高的效率或更高的色纯度--以发射的半峰全宽(FWHM)表示。相应的OLED具有比具有已知发射体材料和相当颜色的OLED更高的稳定性。本专利技术的有机发光分子包含式I的结构或由式I的结构组成,其中n是0或1;m=1-n,即,只有n=0时RVII和RVIII才可能存在;X为N或CRII;V为N或CRXV。W选自由单键、Si(R3)2、C(R3)2和BR3组成的组。在本专利技术的某些实施例中,W表示单个键。因此,有机分子包含式II的结构或由式II的结构组成:适用以下定义:R1选自由以下各项组成的组:C1-C5烷基,其任选被一个或多个取代基R6所取代;C6-C60芳基,其任选被一个或多个取代基R6所取代;和C3-C57杂芳基,其任选被一个或多个取代基R6所取代。RI、RII、RIII、RVI、RVII、RVIII、RIX、RX、RXI、RXII、RXIII和RXVI彼此独立地选自由以下各项组成的组:氢;氘;N(R5)2;OR5;SR5;Si(R5)3;B(OR5)2;OSO2R5;CF3;CN;卤素;C1-C40烷基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C1-C40烷氧基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C1-C40硫代烷氧基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C2-C40烯基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C2-C40炔基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C6-C60芳基,其任选被一个或多个取代基R5所取代;和C3-C57杂芳基,其任选被一个或多个取代基R5所取代。RIV和RV可以一起形成单个键或彼此独立地选自由以下各项组成的组:氢;氘;N(R5)2;OR5;SR5;Si(R5)3;B(OR5)2;OSO2R5;CF3;CN;卤素,C1-C40烷基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C1-C40烷氧基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C1-C40硫代烷氧基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C2-C40烯基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C2-C40炔基,其任选被一个或多个取代基R5所取代并且其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;C6-C60芳基,其任选被一个或多个取代基R5所取代;和C3-C57杂芳基,其任选被一个或多个取代基R5所取代。R5在每次出现时彼此独立地选自由以下各项组成的组:氢;氘;OPh;SPh;CF3;CN;F;Si(C1-C5烷基)3;Si(Ph)3;C1-C5烷基,其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;C1-C5烷氧基,其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;C1-C5硫代烷氧基,其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;C2-C5烯基,其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;C2-C5炔基,其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;C6-C18芳基,其任选被一个或多个C1-C5烷基取代基所取代;C3-C17杂芳基,其任选被一个或多个C1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机分子,所述有机分子具有式I的结构,/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181228 EP 18001021.71.一种有机分子,所述有机分子具有式I的结构,



其中
n是0或1;
m=1-n;
X为N或CRII;
V为N或CRXV;
W选自由单键、Si(R3)2、C(R3)2和BR3组成的组;
R1选自由以下各项组成的组:
C1-C5烷基,
其任选被一个或多个取代基R6所取代;
C6-C60芳基,
其任选被一个或多个取代基R6所取代;和
C3-C57杂芳基,
其任选被一个或多个取代基R6所取代;
RI、RII、RIII、RVI、RVII、RVIII、RIX、RX、RXI、RXII、RXIII和RXVI彼此独立地选自由以下各项组成的组:氢;
氘;
N(R5)2;
OR5;
SR5;
Si(R5)3;
B(OR5)2;
OSO2R5;
CF3;
CN;
卤素;
C1-C40烷基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C1-C40烷氧基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C1-C40硫代烷氧基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C2-C40烯基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C2-C40炔基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C6-C60芳基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代;和
C3-C57杂芳基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代;
RIV和RV可以一起形成单个键或彼此独立地选自由以下各项组成的组:氢;
氘;
N(R5)2;
OR5;
SR5;
Si(R5)3;
B(OR5)2;
OSO2R5;
CF3;
CN;
卤素;
C1-C40烷基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C1-C40烷氧基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C1-C40硫代烷氧基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C2-C40烯基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C2-C40炔基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代并且
其中一个或多个不相邻的CH2-基团任选被R5C=CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5所取代;
C6-C60芳基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代;和
C3-C57杂芳基,
其任选被一个或多个取代基R5所取代;
R5在每次出现时彼此独立地选自由以下各项组成的组:氢;氘;
OPh;SPh;CF3;CN;F;Si(C1-C5烷基)3;Si(Ph)3;
C1-C5烷基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C1-C5烷氧基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C1-C5硫代烷氧基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C2-C5烯基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C2-C5炔基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C6-C18芳基,
其任选被一个或多个C1-C5烷基取代基所取代;
C3-C17杂芳基,
其任选被一个或多个C1-C5烷基取代基所取代;
N(C6-C18芳基)2;
N(C3-C17杂芳基)2;和
N(C3-C17杂芳基)(C6-C18芳基);
R6在每次出现时彼此独立地选自由以下各项组成的组:氢;氘;OPh;SPh;CF3;CN;F;Si(C1-C5烷基)3;Si(Ph)3;
C1-C5烷基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C1-C5烷氧基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C1-C5硫代烷氧基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C2-C5烯基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C2-C5炔基,
其中任选地一个或多个氢原子彼此独立地被氘、CN、CF3或F所取代;
C6-C18芳基,
其任选被一个或多个C1-C5烷基取代基所取代;
C3-C17杂芳基,
其任选被一个或多个C1-C5烷基取代基所取代;
N(C6-C18芳基)2;
N(C3-C17杂芳基)2;和
N(C3-C17杂芳基)(C6-C18芳基);
其中选自由R1、RI、RII、RIII、RVI、RVII、RVIII、RIX、RX、RXI、RXII、RXIII和RXVI组成的组的至少一个取代基任选形成单环或多环、脂肪族、芳香族和/或苯并稠合环系统,其具有一个或多个来自所述组的与所述至少一个取代基相邻定位的取代基。


2.根据权利要求1所述的有机分子,其中RIV和RV一起形成单个键或彼此独立地选自由以下各项组成的组:
氢;
氘;
卤素;
Me;

【专利技术属性】
技术研发人员:S·迪克
申请(专利权)人:辛诺拉有限公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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