一种半导体硅片抛光用下载暂存机构制造技术

一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，其特征在于，包括若干相邻而设的下载装置，所述下载装置具有：存有一定溶液并使溶液缓冲流动的下载放置组件；和用于支撑所述硅片并可上下移动的下载支撑组件；其中，置于所述下载放置组件内的溶液可完全与所述硅片抛光面接触；所述下载支撑组件贯穿所述下载放置组件设置；连接所述下载支撑组件中与所述硅片的接触点所围成图形的外接圆与所述硅片同径。本实用新型专利技术可稳定同步放置从抛光机上取出的多组抛光后的硅片，不仅可使硅片的抛光面完全处于水液环境中与空气隔绝，也同时对下载硅片的非抛光面上的抛光液和杂质进行清洗去除；结构设计简单且联动性好，工作效率高。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体硅片抛光用下载暂存机构
本技术属于硅片抛光设备
，尤其是涉及一种半导体硅片抛光用下载暂存机构。
技术介绍
在化学机械抛光过程中，对于如12寸、18寸及其以上的大尺寸硅片，因其硅片面积较大，对于单面抛光要求的硅片，不能再如小尺寸硅片抛光那样可以在同一抛光盘中多片抛光，需要对每一个硅片进行单独抛光。而单片抛光效率低，无法适应现有批量生产的要求；而对多片抛光的硅片，由于机组结构的特性，无法直接从抛光机盘上直接向空置的片篮中放置硅片，需要先将硅片从抛光机中移出到一个中转机构中暂存，再将硅片逐个放置到片篮中汇聚。在下载中转暂存过程中，必须要保证被抛光的硅片仍然处于水溶液的环境中保持湿润，同时还需要保证被抛光面不与空气接触，避免被污染或氧化，保证硅片抛光质量；同时还提高下载暂存放置机构与上下游工序配合的联动性。
技术实现思路
本技术提供一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，尤其适应多组硅片同步、独立抛光的抛光设备，解决了多组抛光后的硅片同步从抛光机下载暂存时完全处于水液环境中保持湿润、并使被抛光面与空气隔离的技术问题。为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，包括若干相邻而设的下载装置，所述下载装置具有：存有一定溶液并使溶液缓冲流动的下载放置组件；和用于支撑所述硅片并可上下移动的下载支撑组件；其中，置于所述下载放置组件内的溶液可完全与所述硅片抛光面接触；所述下载支撑组件贯穿所述下载放置组件设置；连接所述下载支撑组件中与所述硅片的接触点所围成图形的外接圆与所述硅片同径。进一步的，所述下载放置组件包括：下载盘；和至少在所述下载盘中心设置的下载溢流孔；其中，所述下载盘为双层结构，具有用于存储溶液的内层槽和与所述内层槽一体连接的外层槽；所述下载盘固设于所述下载支撑组件上且与所述下载支撑组件同轴设置。进一步的，所述外层槽与所述内层槽轮廓相适配；所述外层槽与所述内层槽的连接层的高度低于所述外层槽的外壁高度。进一步的，在所述外层槽中设有若干用于被所述下载支撑组件贯穿设置的凸耳，所述凸耳与所述外层槽一体连接设置。进一步的，在所述外层槽的外壁面的上端面设有若干凹槽，所述凹槽均匀设置。进一步的，所述凹槽均设置在相邻所述凸耳之间的所述外层槽上。进一步的，所述下载支撑组件包括：若干沿所述外层槽周缘设置的下载柱；用于固定所述下载柱的下载放置架；其中，所述下载柱穿过所述凸耳并与所述硅片的侧壁面接触并使所述硅片的抛光面靠近所述下载盘中一侧设置；所述下载放置架位于所述下载盘下方，且与所述下载柱的下端面连接设置。进一步的，所述下载柱的下段部位柱体，其上段部为圆锥体，且所述上段部的高度小于所述下段部的高度；所述上段部的母线夹角不大于45°。进一步的，所述下载放置架包括中心环形架和向外延伸且与所述环形架一体设置的T型架，所述环形架被置于所述下载盘中心处的所述下载溢流孔贯穿设置；所述T型架远离所述环形架的一端连接相邻所述下载柱。进一步的，所述下载支撑组件还包括用于驱动所述下载放置架升降移动的下载驱动源，所述下载驱动源置于位于所述下载放置架下方，并与所述下载放置架同轴设置。与现有技术相比，采用本技术设计的下载暂存机构，可稳定同步暂存放置从抛光机上取出的多组抛光后的硅片，并使下载硅片的抛光面完全处于水液环境中保持湿润，同时还需要保证被抛光面不与空气接触，保护被抛光面不被污染或氧化，保证硅片抛光质量，亦同时对下载硅片的非抛光面上的抛光液和杂质进行清洗去除；结构设计简单且联动性好，保护硅片表面质量，并使硅片在下载过程中可稳定地、精准地、持续地流转暂存，避免能源浪费，工作效率高。附图说明图1是本技术一实施例的一种硅片抛光用暂存放置系统的结构示意图；图2是本技术一实施例的一种硅片抛光用暂存放置系统的俯视图；图3是本技术一实施例的上载暂存机构的俯视图；图4是本技术一实施例的上载移动台的俯视图；图5是本技术一实施例的上载盘中弹性垫的俯视图；图6是本技术一实施例的上载盘中上载溢流孔分布的俯视图；图7是本技术一实施例的下载暂存机构的俯视图；图8是本技术一实施例的下载暂存机构的结构示意图；图9是本技术一实施例的下载盘的俯视图；图10是本技术一实施例的下载放置架的结构示意图；图11是本技术一实施例的驱动清洗机构的俯视图；图12是本技术一实施例的驱动盘的俯视图。图中：10、上载暂存机构11、上载支撑组件111、上载柱112、上载移动台12、上载溢流组件121、上载盘122、弹性垫1221、毛刷1222、毛刷组123、上载溢流孔20、下载暂存机构21、下载放置组件211、下载盘2111、内层槽2112、外层槽2113、凸耳2114、凹槽212、下载溢流孔22、下载支撑组件221、下载柱222、下载放置架2221、环形架2222、T型架30、驱动清洗机构31、驱动盘311、中心架312、放置架32、通液管33、驱动装置40、硅片具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细说明。本实施例提出一种硅片抛光用暂存放置系统，如图1和图2所示，包括用于放置待抛光硅片40的上载暂存机构10、用于放置抛光后硅片40的下载暂存机构20、以及用于驱动上载暂存机构10和下载暂存机构20旋转，并向置于上载暂存机构10或下载暂存机构20中的硅片40的非抛光面进行喷淋的驱动清洗机构30，上载暂存机构10和下载暂存机构20绕设于驱动清洗机构30设置。其中，上载暂存机构10可使硅片40的待抛光面被水溶液完全覆盖浸润，有利于下一步对硅片40抛光面的抛光，快速且精准地将表面上的杂质颗粒抛光掉，同时还可使待抛光面与空气隔绝，避免其被空气氧化，防止氧化后的硅片40抛光时抛光效果差。下载暂存机构20使硅片40的抛光面置于水溶液内并被水溶液保护亦可被水溶液清洗其表面的抛光掉的颗粒和粘附上的抛光液，同时完全被水溶液包围的硅片40与空气隔绝，不仅可保持被抛光面的湿润，同时还可防止被抛光面被杂质污染，保证硅片抛光面的表面质量。绕设于驱动清洗机构30设置的上载暂存机构10和下载暂存机构20可同步多组地对硅片进行操作，节约了中间操作步骤的时间，充分利用操作空间，提高设备的联动性，提高抛光效率。具体地，如图3所示，上载暂存机构10包括若干相邻而设的上载装置，在本实施例中，设有两组同侧设置的上载装置，每一个上载装置均具有：用于支撑硅片40的上载支撑组件11和用于浸润硅片40待抛光面的上载溢流组件12。其中，上载支撑组件11与硅片40的侧壁接触并使硅片40悬空设置在上载溢流组件12的上方，且上载支撑组件11可沿其自身高度方向本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，其特征在于，包括若干相邻而设的下载装置，所述下载装置具有：/n存有一定溶液并使溶液缓冲流动的下载放置组件；/n和用于支撑所述硅片并可上下移动的下载支撑组件；/n其中，置于所述下载放置组件内的溶液可完全与所述硅片抛光面接触；所述下载支撑组件贯穿所述下载放置组件设置；连接所述下载支撑组件中与所述硅片的接触点所围成图形的外接圆与所述硅片同径。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，其特征在于，包括若干相邻而设的下载装置，所述下载装置具有：
存有一定溶液并使溶液缓冲流动的下载放置组件；
和用于支撑所述硅片并可上下移动的下载支撑组件；
其中，置于所述下载放置组件内的溶液可完全与所述硅片抛光面接触；所述下载支撑组件贯穿所述下载放置组件设置；连接所述下载支撑组件中与所述硅片的接触点所围成图形的外接圆与所述硅片同径。


2.根据权利要求1所述的一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，其特征在于，所述下载放置组件包括：
下载盘；
和至少在所述下载盘中心设置的下载溢流孔；
其中，所述下载盘为双层结构，具有用于存储溶液的内层槽和与所述内层槽一体连接的外层槽；
所述下载盘固设于所述下载支撑组件上且与所述下载支撑组件同轴设置。


3.根据权利要求2所述的一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，其特征在于，所述外层槽与所述内层槽轮廓相适配；所述外层槽与所述内层槽的连接层的高度低于所述外层槽的外壁高度。


4.根据权利要求2或3所述的一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，其特征在于，在所述外层槽中设有若干用于被所述下载支撑组件贯穿设置的凸耳，所述凸耳与所述外层槽一体连接设置。


5.根据权利要求4所述的一种半导体硅片抛光用下载暂存机构，其特征在于，在所述外层槽的外壁面的上端面设有若干凹槽，所述凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁祥龙，刘园，武卫，刘建伟，由佰玲，孙晨光，王彦君，常雪岩，裴坤羽，祝斌，刘姣龙，张宏杰，谢艳，杨春雪，刘秒，吕莹，徐荣清，
申请(专利权)人：天津中环领先材料技术有限公司，中环领先半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12