图象的合成制造技术

以下列方式从一组图象样本值［ＳＶ］和几何参数［Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３］中建立一组图象样本［ＩＳ］。在初始化步骤［ＩＮＩＴ］中，从几何参数［Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３］中产生屏蔽［ＭＳＫ］。在映射步骤［ＭＡＰ］中，在一组图象样本［ＩＳ］上映射一组图象样本值［ＳＶ］。屏蔽［ＭＳＫ］在这个映射中干扰。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
在其中从一组图象样本值［ＳＶ］和几何参数［Ｖ］中建立一组图象样本［ＩＳ］的合成图象的方法，方法包括步骤在其中从几何参数［Ｖ］中生成屏蔽［ＭＳＫ］的初始化［ＩＮＩＴ］；在其中在一组图象样本［ＩＳ］上映射一组图象样本值［ＳＶ］的映射［Ｍ ＡＰ］，其中屏蔽［ＭＳＫ］在这个映射中干扰。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：A拉法格，L恩古芸福克，J塔拉伊萨特，J戈伯特，
申请(专利权)人：皇家菲利浦电子有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]