分析和修改轨迹的方法技术

本发明专利技术涉及一种用于在一个提供具有一分辨率的纹理元素的图形系统中根据由所述轨迹覆盖的固定数量的纹理元素修改一轨迹的方法，借此首先确定所述轨迹（１０４）的大小或形式。基于所述固定数量的纹理元素并基于所述固定大小或形式，确定（１１４）对应于所述轨迹的纹理元素的分辨率。接着确定所述图形系统是否提供具有所述确定分辨率的纹理元素。如果所述图形系统提供具有所述确定分辨率的纹理元素，那么保持所述轨迹。如果所述图形系统未提供具有所述确定分辨率的纹理元素，那么选择由所述图形系统所提供的具有相应分辨率的纹理元素，且减少所述轨迹的纹理元素，使得由所述具有减小尺寸的轨迹所覆盖的纹理元素的数量基本上等于或小于所述确定的数量。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般涉及一种用于在一由计算机控制的光栅显示器中显示图像的方法。本专利技术尤其涉及一种为重构、缩放、离散、存储图像或使其经受透视投影所要的各向异性过滤机构，目的是为了表示高质量的光栅显示器元素。下文将上述离散、存储图像称为纹理。本专利技术尤其涉及一种用于在一个提供具有一分辨率的纹理元素的图形系统中根据由所述轨迹接触的指定数量的纹理元素分析和修改一轨迹的方法。
技术介绍
“轨迹”为一个物体的一个图像元素(像素)在曲面上的透视投影。“轨迹”可为将一个物体的正方形图像元素(像素)的一个规则texel栅格(纹理元素栅格)上的透视投影的近似结果再现到一个曲面上的凸四边形表示。在使纹理与一个物体的图像元素(像素)相关联时，如OpenGL图形系统的已知图形系统以此方式操作，使得一个物体的像素轨迹具有一个或一个以上具有与其有关联的所要分辨率的纹理元素，所述轨迹近似于正方形。缺点是此处的近似值总是受一个太大或太小的正方形影响且没有考虑所述轨迹的形状。所要分辨率导致在轨迹下方的texel栅格中的texel尺寸。对于预定的texel尺寸而言，存在各种mipmap等级。如果所选分辨率导致不存在具有一个适当分辨率(等级)的mipmap的texel尺寸，那么必须以较高费用来计算所述纹理。
技术实现思路
从所述现有技术开始，本专利技术的目的是提供一种用于修改轨迹的改进的方法。通过如权利要求1所述的方法达到此目的。本专利技术提供一种用于在一个提供具有一分辨率的纹理元素的图形系统中根据由所述轨迹接触的指定数量的纹理元素修改一个轨迹的方法，其包含(a)确定轨迹的尺度或形状；(b)基于指定数量的纹理元素且基于步骤(a)中所确定的尺度或形状，指定与所述轨迹有关联的纹理元素的分辨率；和(c)确定图形系统是否提供具有步骤(b)中所指定的分辨率的纹理元素，(c.1)如果图形系统提供具有步骤(b)中所指定的分辨率的纹理元素，那么维持轨迹；和(c.2)如果图形系统未提供具有步骤(b)中所指定的分辨率的纹理元素，那么选择由所述图形系统提供并具有一各自分辨率的纹理元素，且减小所述轨迹的尺寸，使得由具有减小尺寸的轨迹所接触的纹理元素的数量基本等于或小于指定数量。与现有技术不同，依据现有技术进行也可称为各向同性过滤的过滤，与此不同，本专利技术教示以一最佳方式而非通过一个完全包围所述轨迹或完全包含在所述轨迹中之正方形的所述轨迹的“粗略”近似值，将许多具有指定分辨率且因此具有指定尺寸的可用的纹理元素分配到所述轨迹。此处，轨迹由所述纹理元素重叠，若需要，根据本专利技术对轨迹进行分析和修改以获得对轨迹的纹理元素的最佳分配。根据一个优选实施例，所述专利技术性方法用于提供具有不同分辨率的纹理元素、具有一个在步骤(c.2)中所选择的指定分辨率之下的分辨率的纹理元素的图形系统中。所述图形系统优选以具有不同等级的mipmap形式提供具有不同分辨率的纹理元素。根据另一优选实施例，为了确定所述分辨率，步骤(b)中指定了包围所述轨迹的矩形，轨迹的顶点位于矩形的边缘上。如果发现对于此矩形而言，不存在用于达到所要数量P的具有相关尺寸(即分辨率)的纹理元素，那么在上述实施例的优选发展中指定根据由所述图形系统所获得的分辨率且根据纹理元素的数量所定义的一个夹紧框或夹紧正方形。随后，通过将轨迹的顶点移动到夹紧框的边缘而减小所述轨迹的尺寸。优选地，基于轨迹的厚度(thickness)或延伸参数指定上述矩形和夹紧框，所述厚度参数再现了轨迹的纵向变形。根据另一优选实施例，在确定所述轨迹的尺度或形式的同时，进行关于轨迹边缘是否超出指定尺度的确定，且如果超出，那么减少轨迹的尺寸直到边缘的尺度小于或等于指定尺度。因此，所述专利技术性方法提供一种用于分析和修改轨迹的新颖方法，根据一个实施例，其也可以由用户来控制。为了重获离散纹理图像，必须读入由轨迹区域所重叠的规则texel栅格的所有正方形元素-texel，并通过一个处理单元来对其进行处理。所述专利技术性方法允许限制轨迹所接触的texel数量和轨迹边缘的长度。根据本专利技术，为此目的，提供一个额外控制输入信号，确切地说，即性能参数P。此参数P可由用户提供。通过定义最大边缘长度的另一参数Emax来确定轨迹边缘长度的限制。例如，这个参数Emax可为硬编码的。本专利技术的优点是通过设置控制输入信号P，可达到一方面重获/重构图像质量(大量使用的texel)与另一方面处理速度(少量使用的texel)之间的折衷。限制边界边缘的益处是可显著降低用于在随后处理中进一步处理轨迹所要的硬件消耗。所述随后处理包括如确定由轨迹重叠的texel和/或加重此等特定texel。通过夹紧边缘长度，可明显减少与此等处理步骤有关联的硬件消耗。一般地说，可向每个texel定向的光栅处理提供由所述专利技术性方法所产生的数据。根据本专利技术的一个优选实施例，如上文已描述，为与轨迹相关联的纹理提供具有不同分辨率的复数个所谓的图像映射，其中图像映射也称为mipmap。为了指定分辨率，根据轨迹的尺度或形状并根据待表示的轨迹的所要图像质量，确定在一个由所述轨迹所接触的texel栅格中的texel的尺寸。根据因此确定的texel尺寸，确定在复数个图像映射中是否存在一个有关的texel尺寸与已确定的texel尺寸匹配的图像映射。如果存在，那么采用个别图像映射来表示所述轨迹。然而，如果不存在此个别图像映射，那么如上所描述的，将减少轨迹的尺寸，所以根据轨迹的图像质量，选择具有一个在所要分辨率之下的分辨率并具有个别texel尺寸的可用图像映射，以用于表示所述轨迹。优选地，通过基本指示一个由所述轨迹所接触的texel栅格中的texel数量的性能参数C来指定图像质量。根据上述优选实施例，将基本描述两种限制用于表示轨迹的texel数量(根据性能参数P的设置)的方法和/或技术。如果具有低分辨率的纹理图像的预过滤型式(所谓的mipmap)是可用的，那么可在厚度信息的基础上计算一适当的mipmap等级。因此，接着以一种隐含的方式确定texel栅格中正方形texel的尺寸。此所述等级的计算基于轨迹的实际空间尺度和/或形状。如果没有可用的具有所要等级的预过滤图像映射(mipmap)，那么以一种选择性方式通过收缩所述轨迹的边界(边缘)来减少轨迹的面积。在最不利的情况下，在下一可用图像映射(mipmap)的形状、性能参数P和texel尺寸的基础上进行边缘收缩和/或面积减少，所述下一可用图像映射本身为原始基础映射。根据本专利技术的另一优选实施例，相对于其区域和/或其形状和/或其边缘的空间延伸最初分析由其四个顶点所定义的引入四边形轨迹。此分析包括以下步骤——确定可为顺时针或逆时针的轨迹的旋转方向；——计算一个描述轨迹的纵向变形范围的各向异性厚度参数； ——确定所述轨迹的边界框；——产生夹紧线性收缩型式的原始轨迹的夹紧框，以此方式使得任一边缘(收缩轨迹的)的等级宽度和垂直高度不会超过预定限度。基于上述边缘的最大长度值Emax指定这个预定限度。另外，夹紧框的尺度取决于厚度参数，并且对其进行设置使得由夹紧框重叠的texel数量不超过由性能参数P所指定的边界。一旦以上述方式分析所述引入的轨迹，随后评估因而获得和分析的信息，使得产生表示可能修改的轨迹以及相关mipmap等级和相关放大等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在一个提供具有一分辨率（ｍ）的纹理元素的图形系统中根据由所述轨迹接触的指定数量（Ｐ）的纹理元素修改一轨迹（２００）的方法，其包含：（ａ）确定（１０４）所述轨迹（２００）的一尺度或一形状；（ｂ）基于所述指定数量（Ｐ）的纹理 元素且基于步骤（ａ）中所确定的尺度或形状，指定（１１４）与所述轨迹有关联的纹理元素的分辨率（ｍｒｅｑ）；和（ｃ）确定（１１８）所述图形系统是否提供具有步骤（ｂ）中所指定的所述分辨率（ｍｒｅｑ）的纹理元素，（ｃ．１）如果图形系 统提供具有步骤（ｂ）中所指定的所述分辨率（ｍｒｅｑ）的纹理元素，（ｍ＝Ｍｒｅｑ），那么维持所述轨迹（２００）；和（ｃ．２）如果图形系统未提供具有步骤（ｂ）中所指定的所述分辨率（ｍｒｅｑ）的纹理元素，（ｍ≠ｍｒｅｑ），那么选择由所述图 形系统提供并具有一各自分辨率的纹理元素，且减小（１３６）所述轨迹（２００）的尺寸，使得由所述具有所述减小尺寸的轨迹所接触的纹理元素的数量基本等于或小于指定数量（Ｐ）。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯阿克尔，罗兰里克特，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]