一种用于衬底处理系统的衬底支撑件包含基座，该基座包含上表面和下表面。蒸气室被配置在该基座和基板之间，限定蒸气室腔并且包含布置于该蒸气室腔内的表面上的多个毛细结构。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于衬底处理系统的包含蒸气室的基座相关申请的交叉引用本申请要求于2018年11月28日申请的美国临时申请No.62/772,364的权益。上述引用的申请其全部公开内容都通过引用合并于此。
本公开涉及衬底处理系统，并且更具体地涉及用于衬底处理系统的基座温度控制系统。
技术介绍
这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。当前指定的专利技术人的工作在其在此
技术介绍
部分以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面中描述的范围内既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。衬底处理系统典型上包含具有基座的处理室。例如半导体晶片之类的衬底可以布置在基座上。例如在化学气相沉积(CVD)工艺中，可引入气体混合物到处理室中，以在衬底上沉积膜或蚀刻衬底。在某些情况下，可以使用等离子体。期望可以在处理期间控制基座及衬底的温度，以改善蚀刻或沉积的均匀性。为了提高温度均匀性，有些系统使用了多个加热器嵌入在基座的不同加热区域中。例如，加热器可布置在基座的不同半径处。热电耦可以用来监测加热区的温度。控制系统对供应至每个加热区的功率进行控制，以基于在不同区域的基座所测得的温度而产生温度均匀性。如果未能实时执行感测，不同类型的工艺就可能需要进行不同的加热器校准。用于加热器的控制系统可能是昂贵的，并且可能将故障点引入衬底处理系统。尽管使用了不同的加热区，但仍可能会出现局部温差。为了进一步提高温度均匀性，有些系统已经增加到多达30个加热器，以实现高水平的温度均匀性，由此却增加了成本和复杂性。这些系统可能仍无法实现所需程度的温度均匀性。
技术实现思路
一种用于衬底处理系统的衬底支撑件包含基座，基座包含上表面和下表面。蒸气室配置在所述基座和基板之间，限定蒸气室腔并且包含配置于所述蒸气室腔内的表面上的多个毛细结构。在其他特征中，所述基板包含与所述蒸气室的下表面热连通的流体通道。所述流体通道被布置成螺旋图案。盖布置在所述流体通道上方且与所述蒸气室的所述下表面相邻。工作流体位于所述蒸气室中，所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的所述下表面上，且进一步包含流体供应源，所述流体供应源被配置成供应具有比所述工作流体温度高的流体至所述流体通道，以使所述多个毛细结构上的所述工作流体蒸发并且凝结于所述蒸气室腔的较冷表面上。在其他特征中，工作流体位于所述蒸气室中，所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的上表面上，且来自所述基座的热能会使得所述多个毛细结构上的所述工作流体蒸发并凝结于所述蒸气室腔的较冷表面上。流体供应源被配置成供应具有比所述工作流体温度较低的流体至所述流体通道。所述多个毛细结构布置于所述蒸气室腔的下表面、上表面和侧壁中的至少一者上。在其他特征中，所述蒸气室执行加热，且所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的下表面上。在其他特征中，所述蒸气室执行冷却，且所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的上表面上。所述多个毛细结构利用毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含芯吸材料，所述芯吸材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含织物，所述织物通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含烧结粉末材料，所述烧结粉末材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含沟槽式材料，所述沟槽式材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。一种用于衬底处理系统的衬底支撑件的蒸气室包含：主体，其包含限定蒸气室腔的上表面、下表面和侧壁。多个毛细结构布置于所述蒸气室腔内的上表面、下表面和侧壁中的至少一者上。所述蒸气室被配置成布置于所述衬底支撑件的基座与基板之间。在其他特征中，工作流体位于所述蒸气室中。所述蒸气室供应热能至所述基座。所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的下表面上，以使所述工作流体蒸发并使所述工作流体凝结于所述蒸气室腔内的较冷表面上。在其他特征中，工作流体位于所述蒸气室中，所述蒸气室执行对所述基座的冷却，以及所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的上表面上，以使所述工作流体蒸发并使所述工作流体凝结于所述蒸气室腔内的较冷表面上。在其他特征中，所述多个毛细结构包含芯吸材料，所述芯吸材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含织物，所述织物通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含烧结粉末材料，所述烧结粉末材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含沟槽式材料，所述沟槽式材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。一种用于制造衬底处理系统的衬底支撑件的方法包含：限定位于蒸气室主体内的蒸气室腔；将多个毛细结构布置于所述蒸气室腔内的表面上；以及将所述蒸气室主体布置于基座与基板之间。在其他特征中，所述方法包含限定位于所述基板中的流体通道，其中所述流体通道与所述蒸气室主体的下表面热连通。所述方法包含将所述流体通道布置成螺旋图案。所述方法包含将盖布置在所述流体通道上方且与所述蒸气室的所述下表面相邻。在其他特征中，所述方法包含：将所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的下表面上；以及在所述蒸气室主体内供应工作流体。所述方法包含：将所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的上表面上；以及在所述蒸气室主体内供应工作流体。在其他特征中，所述多个毛细结构包含芯吸材料，所述芯吸材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含织物，所述织物通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含烧结粉末材料，所述烧结粉末材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。所述多个毛细结构包含沟槽式材料，所述沟槽式材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。根据详细描述、权利要求和附图，本公开内容的适用性的进一步的范围将变得显而易见。详细描述和具体示例仅用于说明的目的，并非意在限制本公开的范围。附图说明根据详细描述和附图将更充分地理解本公开，其中：图1是根据本公开内容的包含蒸气室的基座的部分透视图；图2是根据本公开内容的包含蒸气室的基座的横截面图；以及图3是根据本公开内容的包含蒸气室的基座的部分横截面图。在附图中，可以重复使用附图标记来标识相似和/或相同的元件。具体实施方式根据本公开内容，使用布置在基座下方的蒸气室来控制基座的温度。现在参考图1、2和3，基座温度控制系统10包含基座12以及布置成控制基座12温度的蒸气室14。在一些示例中，基座12包含具有电镀的外表面的陶瓷基础材料。在一些示例中，该陶瓷材料包含铝氮化物(AlN)，但也可以使用其他材料。在一些示例中，基座可以是静电卡盘，其在衬底处理期间使用静电电荷将衬底保持在适当的位置，但可以使用机械式或其他类型的卡盘。在一些示例中，蒸气室14限定了蒸气室腔15，蒸气室腔15为盘状或扁平柱状腔的形式。蒸气室14的蒸气室腔15是由上表面20、下表面22以及围绕在扁平柱状开口的外周布置的侧壁24本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于衬底处理系统的衬底支撑件，其包含：/n基座，其包含上表面和下表面；/n基板；以及/n配置在所述基座和所述基板之间的蒸气室，其限定蒸气室腔并且包含配置于所述蒸气室腔内的表面上的多个毛细结构。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181128 US 62/772,3641.一种用于衬底处理系统的衬底支撑件，其包含：
基座，其包含上表面和下表面；
基板；以及
配置在所述基座和所述基板之间的蒸气室，其限定蒸气室腔并且包含配置于所述蒸气室腔内的表面上的多个毛细结构。
2.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述基板包含与所述蒸气室的下表面热连通的流体通道。
3.根据权利要求2所述的衬底支撑件，其中所述流体通道被布置成螺旋图案。
4.根据权利要求3所述的衬底支撑件，其还包含布置在所述流体通道上方的与所述蒸气室的所述下表面相邻的盖。
5.根据权利要求2所述的衬底支撑件，其中工作流体位于所述蒸气室中，所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的所述下表面上，且进一步包含流体供应源，所述流体供应源被配置成供应具有比所述工作流体温度高的流体至所述流体通道，以使所述多个毛细结构上的所述工作流体蒸发并且凝结于所述蒸气室腔的较冷表面上。
6.根据权利要求2所述的衬底支撑件，其中工作流体位于所述蒸气室中，所述多个毛细结构布置于所述蒸气室的上表面上，且来自所述基座的热能会使得所述多个毛细结构上的所述工作流体蒸发并凝结于所述蒸气室腔的较冷表面上。
7.根据权利要求6所述的衬底支撑件，其还包含流体供应源，所述流体供应源被配置成供应具有比所述工作流体温度较低的流体至所述流体通道。
8.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述多个毛细结构布置于所述蒸气室腔的下表面、上表面和侧壁中的至少一者上。
9.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述蒸气室执行加热，且所述多个毛细结构布置于所述蒸气室腔的下表面上。
10.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述蒸气室执行冷却，且所述多个毛细结构布置于所述蒸气室腔的上表面上。
11.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述多个毛细结构利用毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。
12.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述多个毛细结构包含芯吸材料，所述芯吸材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。
13.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述多个毛细结构包含织物，所述织物通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。
14.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述多个毛细结构包含烧结粉末材料，所述烧结粉末材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。
15.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述多个毛细结构包含沟槽式材料，所述沟槽式材料通过毛细作用使所述蒸气室腔中的工作流体移动。
16.一种用于衬底处理系统的衬底支撑件的蒸气室，其包含：
主体，其包含限定蒸气室腔的上表面、下表面和侧壁；以及
多个毛细结构，其布置于所述蒸气室腔内的上表面、下表面和侧壁中的至少一者上，
其中所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·维蒂格，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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