【技术实现步骤摘要】
一种清洗装置
本专利技术涉及毫针清洗
,尤其是涉及一种清洗装置。
技术介绍
毫针是常用的医疗器械,并且在使用时直接与病人人体进行接触。因此,每次使用后,都需要对毫针进行清洗,避免出现交叉感染等情况发生。专利一、中国专利号为CN211802551U公布了一种中医神经内科用毫针批量自动清理装置,包括外壳、储液槽、加热芯、紫外线射灯和电机,所述外壳的上表面开设有内腔,且外壳的内部分别开设有输送道和储液槽,所述储液槽的内部固定设置有加热芯,且储液槽的内表面和外壳的外表面被活塞贯穿,所述外壳的右侧表面被抽拉柜贯穿,且外壳的内部固定设置有紫外线射灯,所述外壳的右侧表面开设有入风孔。该中医神经内科用毫针批量自动清理装置,可通过将大量的毫针塞入到置物块上,通过第一锥形齿轮与第二锥形齿轮的啮合,使得第二锥形齿轮带动置物块进行旋转,使得植物块上的毫针在重力的作用下一根根从通孔滑入到输送道中,达到批量自动清理的效果。该专利在实际使用中还存在很多不足之处,毫针一般分为三个部分,尾部连接处,中部手持处以及前端的针灸处,而且从前到后尺寸都在增大,因此,上述专利中的转动离心清理等方法对毫针的清理效果都很差,此外,由于毫针过于细小,在这样的转动清理过程中容易出现弯折等情况,对毫针造成损伤。专利二、中国专利号为CN208772016U公布了一种采用涮洗方式进行清洁的针灸针清洗装置,包括清洗桶、带有多个针灸针插孔的安装盘、洗涤液供给机构和冲洗机构;所述清洗桶上端为开口结构,所述安装盘通过开口进入清洗桶内并通过动力机构带动在 ...
【技术保护点】
1.一种清洗装置,其特征在于:包括下料机构(1)、输送机构(2)、刷洗机构(3)和承接池(4),所述下料机构(1)包括下料外壳(11)、调节组件(12)、下料组件(13)和限制组件(14),所述调节组件(12)安装在下料外壳(11)的下部,所述下料组件(13)安装在调节组件(12)上,所述限制组件(14)设置在下料外壳(11)内部的两端,所述输送机构(2)的一端位于下料外壳(11)的下方,所述刷洗机构(3)包括驱动组件(31)、刷洗组件(32)和传动组件(33),所述刷洗组件(32)安装在输送机构(2)的上端,所述驱动组件(31)与刷洗组件(32)传动连接,所述传动组件(33)安装在刷洗组件(32)上,所述承接池(4)设置在输送机构(2)的末端,且承接池(4)和输送机构(2)之间设有倾斜设置的防漏板(5)。/n
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置,其特征在于:包括下料机构(1)、输送机构(2)、刷洗机构(3)和承接池(4),所述下料机构(1)包括下料外壳(11)、调节组件(12)、下料组件(13)和限制组件(14),所述调节组件(12)安装在下料外壳(11)的下部,所述下料组件(13)安装在调节组件(12)上,所述限制组件(14)设置在下料外壳(11)内部的两端,所述输送机构(2)的一端位于下料外壳(11)的下方,所述刷洗机构(3)包括驱动组件(31)、刷洗组件(32)和传动组件(33),所述刷洗组件(32)安装在输送机构(2)的上端,所述驱动组件(31)与刷洗组件(32)传动连接,所述传动组件(33)安装在刷洗组件(32)上,所述承接池(4)设置在输送机构(2)的末端,且承接池(4)和输送机构(2)之间设有倾斜设置的防漏板(5)。
2.根据权利要求1所述的一种清洗装置,其特征在于:所述下料外壳(11)的上端设有盛放腔(111),所述下料外壳(11)的中部设有安装腔(112),所述盛放腔(111)和安装腔(112)之间设有用于连通两者的出料口(113),所述下料外壳(11)下端的两侧均设有用于安装输送机构(2)的侧板(114)。
3.根据权利要求2所述的一种清洗装置,其特征在于:所述调节组件(12)设有两个,两个所述调节组件(12)对称设置在安装腔(112)的两侧,每个所述调节组件(12)均包括调节架(121)、调节电动推杆(122)、调节导杆(123)、调节电机(124)、调节轴(125)和两个调节滑块(126),所述调节电动推杆(122)安装在下料外壳(11)的外部且调节电动推杆(122)的输出端延伸至安装腔(112)内,所述调节架(121)的一侧与调节电动推杆(122)的输出端固定连接,所述调节导杆(123)的一端与调节架(121)固定连接,所述调节导杆(123)的另一端贯穿下料外壳(11)并延伸至外部,所述调节轴(125)安装在调节架(121)上且调节轴(125)的一端与调节电机(124)的输出端固定连接,所述调节轴(125)上设有螺旋方向相反的第一螺纹和第二螺纹,两个所述调节滑块(126)分别与第一螺纹和第二螺纹螺纹配合。
4.根据权利要求3所述的一种清洗装置,其特征在于:所述下料组件(13)设置有两个,两个所述下料组件(13)对称设置且两个下料组件(13)分别安装在两个调节组件(12)上,每个所述下料组件(13)均包括第一下料输送带(131)和第二下料输送带(132),所述第一下料输送带(131)和第二下料输送带(132)分别设置在两个调节滑块(126)上,所述第一下料输送带(131)和第二下料输送带(132)上均设有若干个等间距分布的输送槽(133),两个所述下料组件(13)中的两个第一下料输送带(131)之间的间距大于两个第二下料输送带(132)之间的间距。
5.根据权利要求3所述的一种清洗装置,其特征在于:所述限制组件(14)包括限制电机(141)、限制轴(142)和两个限制板(143),所述限制轴(142)水平设置在下料外壳(11)的上部,所述限制电机(14...
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