一种微波高压反应釜制造技术

本发明专利技术实施例公开了一种微波高压反应釜，包括釜体与釜盖；连接于釜盖上的搅拌装置；以及通过连接法兰固定于釜盖上的微波馈能装置；微波馈能装置包括微波发生器以及与微波发生器的出口端连接的微波介质窗；微波介质窗包括具有容纳腔的外壳，外壳包括有盖体以及与盖体连接固定的介质容器，盖体和介质容器之间形成容纳腔；微波介质窗还包括固定在容纳腔内的承压介质；盖体包括与微波发生器的出口端对应设置的第一通孔；介质容器包括与第一通孔对应的第二通孔；连接法兰的顶部端口与介质容器连接固定；连接法兰的底部端口延伸至釜盖内侧。本发明专利技术所提供反应釜承压能力更强，耐温性以及微波匹配性更好。

【技术实现步骤摘要】
一种微波高压反应釜
本专利技术涉及微波
更具体地，涉及一种微波高压反应釜。
技术介绍
微波是指频率在300MHz～300GHz范围内的电磁波，目前科研、生产都对微波反应装置有了更高的实用性需求，特别是在大功率、高压力、高温度等方面对传统的微波反应装置提出新的挑战。微波高温高压反应装置不仅需要考虑到微波激励问题，还需要考虑高压环境下的承压问题，现有技术中的微波馈能装置多数通过采用矩形云母片或者矩形聚四氟乙烯片来隔离水汽，该形状和材质的隔离片的承压能力较弱，不能保证微波馈能部分在高压环境下的抗压性能，容易造成隔离片的破裂从而导致微波设备内部气体的泄漏，同时扩散的气体容易冲击微波源(即微波发生器)，导致微波源的功能失效，损坏设备，存在极大的安全风险。此外，现有技术中还有采用钢化玻璃作为隔离片的材质的微波馈能装置，可有所提升隔离片的承压能力，但是同样存在微波损耗较大，导致隔离片温度升高而容易损坏，同时也存在微波匹配性能较差等缺点。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种微波高压反应釜，该反应釜承压能力强，耐温性好，微波匹配性好，且微波馈能装置作为反应釜的一个组合部件，外部安装于反应釜，便于检修维护。为达到上述目的，本专利技术采用下述技术方案：根据本专利技术的至少一个方面，本专利技术提供一种微波高压反应釜，所述反应釜包括：顶部开口的釜体；与釜体的顶部开口密封连接的釜盖；连接于釜盖上的搅拌装置；以及位于釜盖外侧的且通过连接法兰固定于所述釜盖上的微波馈能装置；所述微波馈能装置包括微波发生器以及与所述微波发生器的出口端连接的微波介质窗；所述微波介质窗包括具有容纳腔的外壳，所述外壳包括有靠近所述微波发生器一侧的盖体以及与所述盖体连接固定的介质容器，所述盖体和介质容器之间形成容纳腔；所述微波介质窗还包括固定在容纳腔内的承压介质；所述盖体包括与所述微波发生器的出口端对应设置的第一通孔；所述介质容器包括与第一通孔对应的第二通孔；所述连接法兰包括有贯穿连接法兰两侧表面的通腔；所述连接法兰的顶部端口与所述介质容器连接固定；所述通腔与所述第二通孔对应配置；所述连接法兰的底部端口延伸至所述釜盖内侧。此外，优选地方案是，所述搅拌装置包括：位于所述釜盖外侧的磁力搅拌器；连接于所述磁力搅拌器下部的搅拌轴，所述搅拌轴位于所述反应釜内部；以及安装于所述磁力搅拌器上部的电机；所述搅拌轴上包括有多层搅拌叶。此外，优选地方案是，所述介质容器的内壁上包括有用以固定承压介质的凹槽，所述凹槽由所述介质容器的内壁向内凹陷形成，所述凹槽的表面车制有密纹水线。此外，优选地方案是，所述微波介质窗包括设置在所述介质容器的凹槽表面与所述承压介质的外侧壁之间的圆形密封垫片；所述圆形密封垫片材质为聚四氟乙烯材料。此外，优选地方案是，所述微波发生器包括有磁控管、一端与所述磁控管连通的激励腔和波导，所述激励腔的另一端与所述波导的一端连接固定，所述波导的另一端结合固定在所述盖体的第一通孔边缘。此外，优选地方案是，所述波导的长度为100-300mm。此外，优选地方案是，所述承压介质的材质为陶瓷、石英玻璃、钢化玻璃、聚四氟乙烯或者PEEK。此外，优选地方案是，所述微波馈能装置包括设置在盖体与所述介质容器之间的环形密封垫片。此外，优选地方案是，所述环形密封垫片的材质为聚四氟乙烯材料。此外，优选地方案是，所述介质容器靠近所述盖体的一侧表面向内凹陷形成有第一放置槽，所述第一放置槽用于放置第一微波屏蔽条；所述介质容器背离所述盖体的一侧表面分别向内凹陷形成有第二放置槽和第三放置槽；所述第二放置槽用于放置第二微波屏蔽条；所述第三放置槽用于放置密封圈。本专利技术的有益效果如下：本申请提供的微波高压反应釜通过将微波馈能装置外置，微波馈能装置作为反应釜的一个组合部件，可外部安装于反应釜，避免占用反应釜的内部空间，而且微波介质窗作为模块化组件易于现场替换，节约设备维修成本。此外，在本专利技术所提供反应釜采用的微波馈能装置结构中，通过设置微波介质窗，可有效保证该微波馈能装置在高压环境下的抗压性能，防止气流泄漏，确保反应釜内部的压力稳定以及微波发生器不受干扰，提高该微波馈能装置的可靠性，可将该微波馈能装置的使用压力提高至更高的压力，扩展了该微波馈能装置的使用范围，从而实现该微波馈能装置可在高温高压环境下正常工作，如在2.5MPa，200℃的工况下正常工作。附图说明下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的说明。图1示出本专利技术所提供反应釜的结构示意图。图2示出本专利技术所提供反应釜结构中微波馈能装置的结构剖面图。图3示出本专利技术所提供反应釜结构中微波馈能装置的主视图。图4示出本专利技术所提供反应釜结构中微波馈能装置的侧视图。具体实施方式为了更清楚地说明本专利技术，下面结合优选实施例和附图对本专利技术做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本专利技术的保护范围。在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。还需要说明的是，在本申请的描述中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。针对现有技术中存在的技术问题，本申请的一个实施例提供一种微波高压反应釜，如图1至图4所示，具体地，所述反应釜包括：顶部开口的釜体1；与釜体1的顶部开口密封连接的釜盖2；连接于釜盖2上的搅拌装置；以及位于釜盖2外侧的且通过连接法兰20固定于所述釜盖2上的微波馈能装置10；所述连接法兰20包括有贯穿连接法兰两侧表面的通腔。可选地，所述微波馈能装置可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微波高压反应釜，其特征在于，所述反应釜包括：/n顶部开口的釜体；/n与釜体的顶部开口密封连接的釜盖；/n连接于釜盖上的搅拌装置；以及/n位于釜盖外侧的且通过连接法兰固定于所述釜盖上的微波馈能装置；/n所述微波馈能装置包括微波发生器以及与所述微波发生器的出口端连接的微波介质窗；/n所述微波介质窗包括具有容纳腔的外壳，所述外壳包括有靠近所述微波发生器一侧的盖体以及与所述盖体连接固定的介质容器，所述盖体和介质容器之间形成容纳腔；/n所述微波介质窗还包括固定在容纳腔内的承压介质；/n所述盖体包括与所述微波发生器的出口端对应设置的第一通孔；/n所述介质容器包括与第一通孔对应的第二通孔；/n所述连接法兰包括有贯穿连接法兰两侧表面的通腔；/n所述连接法兰的顶部端口与所述介质容器连接固定；所述通腔与所述第二通孔对应配置；/n所述连接法兰的底部端口延伸至所述釜盖内侧。/n

【技术特征摘要】
1.一种微波高压反应釜，其特征在于，所述反应釜包括：
顶部开口的釜体；
与釜体的顶部开口密封连接的釜盖；
连接于釜盖上的搅拌装置；以及
位于釜盖外侧的且通过连接法兰固定于所述釜盖上的微波馈能装置；
所述微波馈能装置包括微波发生器以及与所述微波发生器的出口端连接的微波介质窗；
所述微波介质窗包括具有容纳腔的外壳，所述外壳包括有靠近所述微波发生器一侧的盖体以及与所述盖体连接固定的介质容器，所述盖体和介质容器之间形成容纳腔；
所述微波介质窗还包括固定在容纳腔内的承压介质；
所述盖体包括与所述微波发生器的出口端对应设置的第一通孔；
所述介质容器包括与第一通孔对应的第二通孔；
所述连接法兰包括有贯穿连接法兰两侧表面的通腔；
所述连接法兰的顶部端口与所述介质容器连接固定；所述通腔与所述第二通孔对应配置；
所述连接法兰的底部端口延伸至所述釜盖内侧。


2.根据权利要求1所述的微波高压反应釜，其特征在于，所述搅拌装置包括：
位于所述釜盖外侧的磁力搅拌器；
连接于所述磁力搅拌器下部的搅拌轴，所述搅拌轴位于所述反应釜内部；以及
安装于所述磁力搅拌器上部的电机；
所述搅拌轴上包括有多层搅拌叶。


3.根据权利要求1所述的微波高压反应釜，其特征在于，
所述介质容器的内壁上包括有用以固定承压介质的凹槽，所述凹槽由所述介质容器的内壁向内凹陷形成，所述凹槽的表面车制有密纹水线。

【专利技术属性】
技术研发人员：王顺，王辉，杨明华，甄洁，毕广龙，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第十二研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11