湿制程清洗设备及湿制程清洗方法技术

一种湿制程清洗设备及湿制程清洗方法，所述湿制程清洗设备包含移载装置、至少一传动装置、至少一第一喷头单元及控制单元。所述移载装置包括第一驱动单元及悬臂，所述悬臂可被所述第一驱动单元带动而沿第一方向移动。所述传动装置设置于所述悬臂且包括滑移座、第二驱动单元及升降座组。所述第二驱动单元驱动所述滑移座沿第二方向移动。所述升降座组具有升降座及驱动所述升降座移动的第三驱动单元。所述第一喷头单元设置于所述升降座且包括数个喷头。所述控制单元用来控制所述第一、所述第二及所述第三驱动单元，且选择地性开关所述喷头。

【技术实现步骤摘要】
湿制程清洗设备及湿制程清洗方法
本专利技术涉及一种半导体设备，特别是涉及一种湿制程清洗设备及湿制程清洗方法。
技术介绍
在半导体制程中最常重复使用的为清洗制程，为了去除半导体制程中所产生的残留物或微粒，大都会采用湿式清洁法来清洗晶圆表面，以提升制程良率。如图1所示，一种现有的晶圆清洗设备，将欲清洗的晶圆10放置在一旋转台11，所述旋转台11以自身轴线为中心持续地转动，并通过位于所述晶圆10上方且逐步移动的一喷头12将清洗液喷洒于所述晶圆10的表面，再配合所述旋转台11带动所述晶圆10转动时的离心力，使清洗液由所述晶圆10中心朝外旋出，以清洗所述晶圆10上的残留物或微粒，而达到清洁的作用。但上述的晶圆清洗设备在清洗所述晶圆10时，为了克服在所述晶圆10中心附近的清洗液停留时间过短而来不及清洗完全的问题，便以增加清洗液的用量来克服，但这会导致清洗液的耗材成本过高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可节省耗材成本并提高清洁效果的湿制程清洗设备。本专利技术所述的湿制程清洗设备，包含承载面、移载装置、至少一传动装置、至少一第一喷头单元，及控制单元。所述移载装置包括一对沿第一方向延伸的第一导轨、设置于其中一所述第一导轨的第一驱动单元，及沿第二方向跨设于所述第一导轨的悬臂，所述第二方向实质上垂直于所述第一方向，所述第一导轨在所述第二方向上相间隔并将所述承载面包围于内侧，所述悬臂可被所述第一驱动单元带动而相对于所述承载面沿所述第一方向移动，所述悬臂包括沿所述第二方向延伸的第二轨道。所述传动装置设置于所述悬臂，所述传动装置包括滑移座、第二驱动单元及升降座组。所述滑移座可移动地设置于所述第二轨道。所述第二驱动单元用来驱动所述滑移座沿所述第二方向移动。所述升降座组设置于所述滑移座且随着所述滑移座移动，所述升降座组具有设置于所述滑移座并形成有一第三轨道的本体、可移动地设置于所述第三轨道的升降座，及用来驱动所述升降座沿第三方向移动的第三驱动单元，所述第三方向、所述第一方向与所述第二方向实质上互相垂直。所述第一喷头单元的数量对应于所述传动装置，所述第一喷头单元可卸离地设置于所述升降座且包括数个沿所述第一方向间隔设置的喷头，所述喷头被所述升降座带动而能沿所述第三方向移动。所述控制单元用来控制所述第一驱动单元、所述第二驱动单元及所述第三驱动单元，所述控制单元还可选择地开关所述喷头。所述控制单元驱动所述第二驱动单元并使所述滑移座在所述第二方向每移动一个行程位移量后，所述控制单元会驱动所述第一驱动单元并使所述悬臂沿所述第一方向依一个短距位移量来回移动预定次数。本专利技术所述的湿制程清洗设备，所述喷头等距地设置，所述短距位移量不大于相邻的两所述喷头间距的四倍，且不小于相邻的两所述喷头间距的0.25倍。本专利技术所述的湿制程清洗设备，所述湿制程清洗设备包含两个在所述第二方向相间隔的所述传动装置，及两个分别设置于所述传动装置的所述第一喷头单元，所述传动装置分别用来带动所述第一喷头单元，每一所述传动装置可独立地移动。本专利技术所述的湿制程清洗设备，所述第一喷头单元的所述喷头朝向彼此倾斜或朝向同一侧倾斜。本专利技术所述的湿制程清洗设备，所述湿制程清洗设备还包含至少一第二喷头单元，所述第二喷头单元可在所述第一喷头单元自所述升降座卸离后安装于所述升降座，所述第二喷头单元与所述第一喷头单元的其中一者用来喷洒液体，所述第二喷头单元与所述第一喷头单元的另一者用来吹出气体。本专利技术所述的湿制程清洗设备，每一所述喷头用来供流体通过并形成扇形喷洒区域，每一所述扇形喷洒区域形成有底边长，所述升降座带动所述喷头沿所述第三方向朝所述承载面的方向靠近，且每两相邻的所述扇形喷洒区域的底边长部分重叠，重叠比例大于0％但不大于50％。本专利技术所述的湿制程清洗设备，所述升降座具有交换盘，所述第一喷头单元还包括供所述喷头设置的安装座，所述安装座具有可卸离地接合于所述交换盘的结合部。本专利技术所述的湿制程清洗设备，每一所述喷头的喷洒角度介于30°至50°。本专利技术的另一目的，在提供一种可节省耗材成本并提高清洁效果的湿制程清洗方法。本专利技术所述的湿制程清洗方法，适用于将流体喷洒于一基材并清洁所述基材，所述湿制程清洗方法包含以下步骤：步骤A，提供湿制程清洗设备，所述湿制程清洗设备具有数个间隔设置的喷头，及用来开关所述喷头的控制单元。步骤B，依所述基材的至少一物理参数决定开启所述喷头的数量。步骤C，所述喷头沿第二方向移动一个行程位移量后，所述喷头再沿第一方向以一个短距位移量来回移动预定次数，所述行程位移量、所述短距位移量及所述预定次数根据所述基材的至少一物理参数决定。步骤D，重复所述步骤C。本专利技术所述的湿制程清洗方法，所述步骤A中的所述喷头用来喷洒液体，所述湿制程清洗方法还包含在步骤D之后的步骤E，更换所述喷头为另一组用来吹出气体的喷头，并重复步骤C直到吹干所述基材。本专利技术所述的湿制程清洗方法，所述喷头等距地设置，所述短距位移量不大于相邻的两所述喷头间距的四倍且不小于相邻的两所述喷头间距的0.25倍。本专利技术所述的湿制程清洗方法，所述湿制程清洗设备还包含两个可独立地移动的传动装置及两个分别设置于所述传动装置的第一喷头单元，所述第一喷头单元分别供所述喷头设置。本专利技术所述的湿制程清洗方法，所述第一喷头单元进行所述步骤C时为同时移动。本专利技术所述的湿制程清洗方法，每一所述喷头的喷洒角度介于30°至50°。本专利技术的有益效果在于：本专利技术湿制程清洗设备的所述第二驱动单元带动所述滑移座在所述第二方向每移动所述行程位移量后，所述第一驱动单元便会带动所述悬臂沿所述第一方向依所述短距位移量来回移动所述预定次数，使本专利技术湿制程清洗方法能通过将所述喷头先沿所述第二方向移动一小段距离后，便会沿所述第一方向短距离地左右来回数次的清洗方式，可增加流体与所述基材接触的时间，并减少清洗液的用量且提高清洁效果。附图说明本专利技术的其他的特征及功效，将于参照附图的实施方式中清楚地呈现，其中：图1是一种现有的晶圆清洗设备的示意图；图2是本专利技术湿制程清洗设备的第一实施例用来清洗一基材的示意图；图3是所述第一实施例的立体示意图；图4是所述第一实施例的电路方块图；图5是所述第一实施例的不完整的后视图；图6是不完整的侧视图，说明所述第一实施例的两个传动装置以一行程位移量间歇移动；图7是俯视示意图，说明所述第一实施例的一移载装置的一悬臂以一短距位移量来回移动；图8是立体示意图，说明所述第一实施例的两个第一喷头单元与两个第二喷头单元可交换使用；图9是所述第一实施例的另一电路方块图；图10是本专利技术湿制程清洗方法的流程图；图11是立体示意图，说明利用本专利技术湿制程清洗设备的第一实施例对所述基材进行湿制程清洗；图12是侧视示意图，说明所述第一喷头单元的数个喷嘴喷洒清洗液，且每一所述喷嘴会形成一扇形喷洒区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿制程清洗设备，其特征在于：包含：/n承载面；/n移载装置，包括一对沿第一方向延伸的第一导轨、设置于其中一所述第一导轨的第一驱动单元，及沿第二方向跨设于所述第一导轨的悬臂，所述第二方向实质上垂直于所述第一方向，所述第一导轨在所述第二方向上相间隔并将所述承载面包围于内侧，所述悬臂可被所述第一驱动单元带动而相对于所述承载面沿所述第一方向移动，所述悬臂包括沿所述第二方向延伸的第二轨道；/n至少一传动装置，设置于所述悬臂，所述传动装置包括：/n滑移座，可移动地设置于所述第二轨道，/n第二驱动单元，用来驱动所述滑移座沿所述第二方向移动，及/n升降座组，设置于所述滑移座且随着所述滑移座移动，所述升降座组具有设置于所述滑移座并形成有第三轨道的本体、可移动地设置于所述第三轨道的升降座，及用来驱动所述升降座沿第三方向移动的第三驱动单元，所述第三方向、所述第一方向与所述第二方向实质上互相垂直；/n至少一第一喷头单元，数量对应于所述传动装置，所述第一喷头单元可卸离地设置于所述升降座且包括数个沿所述第一方向间隔设置的喷头，所述喷头被所述升降座带动而能沿所述第三方向移动；及/n控制单元，用来控制所述第一驱动单元、所述第二驱动单元及所述第三驱动单元，所述控制单元还可选择地开关所述喷头，所述控制单元驱动所述第二驱动单元并使所述滑移座在所述第二方向每移动一个行程位移量后，所述控制单元会驱动所述第一驱动单元并使所述悬臂沿所述第一方向依一个短距位移量来回移动预定次数。/n...

【技术特征摘要】
1.一种湿制程清洗设备，其特征在于：包含：
承载面；
移载装置，包括一对沿第一方向延伸的第一导轨、设置于其中一所述第一导轨的第一驱动单元，及沿第二方向跨设于所述第一导轨的悬臂，所述第二方向实质上垂直于所述第一方向，所述第一导轨在所述第二方向上相间隔并将所述承载面包围于内侧，所述悬臂可被所述第一驱动单元带动而相对于所述承载面沿所述第一方向移动，所述悬臂包括沿所述第二方向延伸的第二轨道；
至少一传动装置，设置于所述悬臂，所述传动装置包括：
滑移座，可移动地设置于所述第二轨道，
第二驱动单元，用来驱动所述滑移座沿所述第二方向移动，及
升降座组，设置于所述滑移座且随着所述滑移座移动，所述升降座组具有设置于所述滑移座并形成有第三轨道的本体、可移动地设置于所述第三轨道的升降座，及用来驱动所述升降座沿第三方向移动的第三驱动单元，所述第三方向、所述第一方向与所述第二方向实质上互相垂直；
至少一第一喷头单元，数量对应于所述传动装置，所述第一喷头单元可卸离地设置于所述升降座且包括数个沿所述第一方向间隔设置的喷头，所述喷头被所述升降座带动而能沿所述第三方向移动；及
控制单元，用来控制所述第一驱动单元、所述第二驱动单元及所述第三驱动单元，所述控制单元还可选择地开关所述喷头，所述控制单元驱动所述第二驱动单元并使所述滑移座在所述第二方向每移动一个行程位移量后，所述控制单元会驱动所述第一驱动单元并使所述悬臂沿所述第一方向依一个短距位移量来回移动预定次数。


2.根据权利要求1所述的湿制程清洗设备，其特征在于：所述喷头等距地设置，所述短距位移量不大于相邻的两所述喷头间距的四倍，且不小于相邻的两所述喷头间距的0.25倍。


3.根据权利要求1所述的湿制程清洗设备，其特征在于：所述湿制程清洗设备包含两个在所述第二方向相间隔的所述传动装置，及两个分别设置于所述传动装置的所述第一喷头单元，所述传动装置分别用来带动所述第一喷头单元，每一所述传动装置可独立地移动。


4.根据权利要求3所述的湿制程清洗设备，其特征在于：所述第一喷头单元的所述喷头朝向彼此倾斜或朝向同一侧倾斜。


5.根据权利要求1所述的湿制程清洗设备，其特征在于：所述湿制程清洗设备还包含至少一第二喷头单元，所述第二喷头单元可在所述第一喷头单元自所述升降座卸离后安装于所述升降座，所述第二喷头单元与所述第一喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨智仁，施国彰，张范青，
申请(专利权)人：杨智仁，施国彰，张范青，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71