一种蒸镀产线的挡板机构制造技术

本发明专利技术公开了一种蒸镀产线的挡板机构，蒸镀产线包括多个蒸镀腔和流转卡夹，蒸镀腔内设置有蒸发组件及蒸镀通道，流转卡夹承载基片依次经过蒸镀通道上方进行蒸镀工作，挡板机构包括多个挡板组件，挡板组件对应所述蒸镀通道设置，所述挡板组件动态遮挡其所对应的所述蒸镀通道形成工作通道，所述工作通道与所述基片在蒸镀通道的暴露部分相匹配。本发明专利技术通过挡板组件形成工作通道，防止蒸镀腔中的蒸发源泄露出去，本发明专利技术可以有效的阻止在蒸镀的过程中材料从一个功能腔体到另一个功能腔体去，造成交叉污染。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀产线的挡板机构
本专利技术属于镀膜
，具体涉及一种蒸镀产线的挡板机构。
技术介绍
有机薄膜电致发光显示器件(OLED)，是有机半导体材料在电场作用下发光的一项新兴技术，近年来得到了迅速发展。OLED照明产品的低能耗、环保、超薄、高色彩饱和度、面光源等优点，使其成为未来照明产品发展的主流趋势之一。现如今OLED照明器件主要通过蒸发镀膜的方法制备，在实际生产中，因为其要在高真空条件下生产，并且具有多道蒸镀工艺，产线方案主要是采用团簇式(Cluster)结构及线性传递结构(Inline)，团簇式结构即多个八角腔体相连，每个八角腔体的各个边上安装不同功能的蒸镀腔体，处于中间的八角腔体作为传输用，内部安装有传输用机械手，所蒸镀的产品(玻璃基片)依次通过每个八角腔体。现如今八角腔体作为传递腔体，其主要靠真空机械手完成基片从一个功能腔体到另外一个功能腔，对于大型蒸镀生产线来说，真空机械手价格昂贵，而且传递的重量较轻，一般是传递玻璃基片，这就导致每个功能的蒸镀腔体都需对位装置，效率较低，价格昂贵，而且此传递方式导致，蒸发源只能为点源，无法实现线蒸发源方式蒸发，效率低，材料利用率低等问题。而线性结构主要是多个功能腔体连接在一起，基片和掩膜板在对位腔体中完成对位，流转卡夹载着对位后的基片和掩膜板一起在蒸镀腔体导轨上运动，实现有机材料的沉积。线性结构采用线性蒸发源，其效率及材料利用率较高，但2个功能腔体蒸镀不同材料，材料容易从一个功能腔体到另一个功能腔体，造成交叉污染。
技术实现思路
为此，本专利技术所要解决的技术问题在于克服现有技术中的材料容易从一个功能腔体到另一个功能腔体，造成交叉污染的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种蒸镀产线的挡板机构，所述蒸镀产线包括多个蒸镀腔和流转卡夹，所述蒸镀腔内设置有蒸发组件及蒸镀通道，所述流转卡夹承载基片依次经过所述蒸镀通道上方进行蒸镀工作，所述挡板机构包括多个挡板组件，所述挡板组件对应所述蒸镀通道设置，所述挡板组件动态遮挡其所对应的所述蒸镀通道形成工作通道，所述工作通道与所述基片在蒸镀通道的暴露部分相匹配。进一步的，所述挡板组件包括第一挡板及第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板沿与所述基片运动方向相同的方向运动以调节所述工作通道的大小和位置，所述第一挡板和所述第二挡板沿与所述基片运动方向相反的方向运动以回到初始位置。进一步的，所述挡板机构还包括用于带动所述第一挡板运动的第一驱动组件和用于带动所述第二挡板运动的第二驱动组件，所述第一驱动组件包括第一电机和第一传动装置，所述第二驱动组件包括第二电机和第二传动装置。进一步的，所述挡板机构还包括用于导向所述第一挡板运动的第一挡板导向装置和用于导向所述第二挡板运动的第二挡板导向装置。进一步的，所述第一挡板与所述第二挡板错层设置，避免相邻挡板组件干扰。进一步的，所述蒸镀腔内设置有多个蒸发组件及多个蒸镀通道。进一步的，所述蒸发组件为线性蒸发源。进一步的，所述挡板机构还包括用于检测所述基片位置的传感器。进一步的，所述传感器为光电开关。本专利技术还提供另外一个技术方案：一种蒸镀产线，包括如上所述的挡板机构。由于上述技术方案运用，本专利技术与现有技术相比具有下列优点：1)本专利技术提供的蒸镀产线的挡板机构中，通过为每个蒸镀腔配置一个挡板组件，挡板组件形成与基片匹配的工作通道，防止蒸镀腔中的蒸发源泄露出去，本专利技术可以有效的阻止在蒸镀的过程中材料从一个功能腔体到另一个功能腔体去，造成交叉污染；2)本专利技术提供的蒸镀产线的挡板机构中，每个挡板组件的第二挡板和第一挡板可与流转卡夹同步运动，进而实现每个蒸镀腔的蒸镀通道始终被基片、第一挡板以及第二挡板中的至少一者所封堵；3)本专利技术提供的蒸镀产线的挡板机构中，每块第一挡板和每块第二挡板各自设置独立的驱动组件，可实现第一挡板和第二挡板的独立控制；4)本专利技术提供的蒸镀产线的挡板机构中，通过设置第一挡板导向装置和第二挡板导向装置，可保证第一挡板和第二挡板按照精确的轨道移动；5)本专利技术提供的蒸镀产线的挡板机构中，第一挡板与第二挡板错层设置，避免相邻挡板组件干扰，可以节省整个蒸镀产线沿基片运动方向的尺寸；6)本专利技术提供的蒸镀产线的挡板机构中，采用线性蒸发源，线性蒸发源的效率及材料利用率较高；7)本专利技术提供的蒸镀产线的挡板机构中，根据检测到的基片的位置实时控制第一挡板和第二挡板。附图说明构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。图1为本专利技术中蒸镀产线的外部示意图；图2为本专利技术中蒸镀产线的内部示意图；图3为本专利技术中相邻两个挡板组件均为第一工作状态时的示意图；图4为本专利技术中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图一；图5为本专利技术中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图二；图6为本专利技术中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图三；图7为本专利技术中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图一；图8为本专利技术中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图二；图9为本专利技术中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图一；图10为本专利技术中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图二；图11为本专利技术中前一个挡板组件的第二挡板到达终点位置，第一挡板回到起点位置，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图；图12为本专利技术中前一个挡板组件的第二挡板和第一挡板均回到起点位置，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图。其中，10、蒸镀腔；11、蒸镀通道；20、流转卡夹；30、基片；40、挡板组件；41、第一挡板；42、第二挡板；43、第一电机；44、第二电机；45、第一挡板导向装置；46、第二挡板导向装置。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供作为进一步改进说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属
的普通技术人员通常理解的相同含义。需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。在本公开中，术语如“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“侧”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，只是为了便于叙述本公开各部件或本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀产线的挡板机构，所述蒸镀产线包括：/n多个蒸镀腔，所述蒸镀腔内设置有蒸发组件及蒸镀通道；/n流转卡夹，所述流转卡夹承载基片依次经过所述蒸镀通道上方进行蒸镀工作；/n其特征在于，所述挡板机构包括挡板组件，所述挡板组件对应所述蒸镀通道设置，所述挡板组件动态遮挡所述蒸镀通道形成工作通道，所述工作通道与所述基片在蒸镀通道的暴露部分相匹配。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀产线的挡板机构，所述蒸镀产线包括：
多个蒸镀腔，所述蒸镀腔内设置有蒸发组件及蒸镀通道；
流转卡夹，所述流转卡夹承载基片依次经过所述蒸镀通道上方进行蒸镀工作；
其特征在于，所述挡板机构包括挡板组件，所述挡板组件对应所述蒸镀通道设置，所述挡板组件动态遮挡所述蒸镀通道形成工作通道，所述工作通道与所述基片在蒸镀通道的暴露部分相匹配。


2.如权利要求1所述的蒸镀产线的挡板机构，其特征在于，所述挡板组件包括第一挡板及第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板沿与所述基片运动方向相同的方向运动以调节所述工作通道的大小和位置，所述第一挡板和所述第二挡板沿与所述基片运动方向相反的方向运动以回到初始位置。


3.如权利要求2所述的蒸镀产线的挡板机构，其特征在于，所述挡板机构还包括用于带动所述第一挡板运动的第一驱动组件和用于带动所述第二挡板运动的第二驱动组件，所述第一驱动组件包括第一电机和第一传动装置，所述第二驱动组件包括第二电机和第二传...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄稳，廖良生，赵平，赵鹏鹏，胡淳，高永喜，顾婉莹，张敬娣，武启飞，
申请(专利权)人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32