一种掩膜板组件制造技术

本发明专利技术涉及显示技术领域，公开了一种掩膜板组件，该掩膜板组件包括：支撑框架和覆盖于支撑框架上的掩膜层，掩膜层包括多个间隔分布的掩膜条；支撑框架包括：外框、以及设于外框上的多个间隔分布的遮挡条；遮挡条的延伸方向与掩膜条的延伸方向相同，遮挡条的排列方向与掩膜条的排列方向相同，每个掩膜条搭接于相邻的两个遮挡条上；遮挡条包括遮挡层和位于遮挡层远离掩膜层一侧的第一支撑层；第一支撑层在掩膜层上的正投影位于遮挡层在掩膜层上的正投影内；第一支撑层的材料的磁性小于遮挡层的材料的磁性。该掩膜板组件中，掩膜条在搭接区域和搭接区域附近所受的压力差距较小，使掩膜条吸附更平整，提高蒸镀的均匀性，降低蒸镀过程中的混色风险。中的混色风险。中的混色风险。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板组件


[0001]本专利技术涉及显示
，特别涉及一种掩膜板组件。

技术介绍

[0002]OLED是当下显示器件研究热门领域之一，应用范围也越来越广泛，在制备OLED显示面板的过程中，需要采用真空蒸镀技术制备有机发光材料层，蒸镀过程设置永磁体构件和掩膜板，掩膜板设置在框架上，其中掩膜板中多个掩膜条，相邻的掩膜条之间设置有遮挡条，遮挡条既可以遮挡也可以起到支撑作用，但是，目前现有的掩膜板中，遮挡条与永磁体构件之间的磁力较大，使得遮挡条与掩膜条搭接区域的磁力与掩膜条蒸镀区域的磁力相差较大，掩膜条与遮挡条的搭接区域的部分吸附不平整，在蒸镀时容易产生蒸镀不良。

技术实现思路

[0003]本专利技术公开了一种掩膜板组件，该掩膜板组件中，遮挡条具有遮挡层和第一支撑层，既可以对两个相邻的掩膜条之间的间隙起到很好的遮挡作用，还可以对掩膜条起到良好的支撑作用，有效减小掩膜条在搭接区域和搭接区域附近所受的压力差距，是掩膜条吸附更为平整，提高蒸镀图案的均匀性，降低蒸镀过程中的混色风险，提高蒸镀质量，并且还可以有效减轻显示面板上的隔垫层损伤。
[0004]为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0005]一种掩膜板组件，包括：支撑框架和覆盖于所述支撑框架上的掩膜层，所述掩膜层包括多个间隔分布的掩膜条；
[0006]所述支撑框架包括：外框、以及设于所述外框上的多个间隔分布的遮挡条；所述遮挡条的延伸方向与所述掩膜条的延伸方向相同，且所述遮挡条的排列方向与所述掩膜条的排列方向相同，每个所述掩膜条搭接于相邻的两个所述遮挡条上，所述遮挡条用于遮挡相邻的两个所述掩膜条之间的间隙；
[0007]其中，所述遮挡条包括遮挡层和位于所述遮挡层远离所述掩膜层一侧的第一支撑层；所述第一支撑层在所述掩膜层上的正投影位于所述遮挡层在所述掩膜层上的正投影内；所述第一支撑层的材料的磁性小于所述遮挡层的材料的磁性。
[0008]上述掩膜板组件中，具有支撑框架，掩膜层安装在支撑框架上，覆盖支撑框架，其中，掩膜层包括多个间隔分布的掩膜条，掩膜条为精细金属掩膜板，多个掩膜条依次间隔的排列；支撑框架包括有外框，外框上设置有多个间隔分布的遮挡条，多个遮挡条依次间隔的排列，遮挡条的延伸方向与掩膜条的延伸方向相同，且遮挡条的排列方向与掩膜条的排列方向相同，每个掩膜条搭接在相邻的两个遮挡条上，每个掩膜条位于两个遮挡条之间，掩膜条的蒸镀区域与对应的两个相邻的遮挡条之间的间隔对应，掩膜条的两侧边的边缘部分别搭接在两个相邻的遮挡条的边缘部，由于是多个掩膜条依次排列，所以，相邻的两个掩膜条会搭在同一个遮挡条上，遮挡条可以遮挡住相邻的两个掩膜条之间的间隙，以便于蒸镀作业，其中，遮挡条也可以对掩膜条起到支撑作用，具体地，遮挡条包括有遮挡层和第一支撑
层，第一支撑层位于遮挡层远离掩膜层的一侧，遮挡层可以完全把对应的相邻两个掩膜条之间的间隙完全遮住，且掩膜条的边缘部搭接在遮挡层的边缘部，掩膜条与遮挡层之间形成搭接区域，第一支撑层在遮挡层远离掩膜条的一侧，沿遮挡条的排列方向，第一支撑层的尺寸小于遮挡层的尺寸，第一支撑层在掩膜层上的正投影位于遮挡层在掩膜层上的正投影之内，不会影响蒸镀，可以起到更好的支撑作用，上述遮挡条整体既可以起到很好的遮挡作用，可以具有良好的支撑作用，其中，第一支撑层的材料的磁性小于遮挡层的材料的磁性，第一支撑层的材料可以选择弱磁性材料，当掩膜板组件与显示面板以及磁性部件组装在一起时，相对于现有技术，在不改变遮挡条的厚度设计的基础上，可以有效的减小遮挡条对掩膜条的压力，使遮挡条对掩膜条的压力不会过大，对于遮挡条与掩膜条的搭接区域，可以有效减小掩膜条在搭接区域和搭接区域附近的部分受到的压力差距，可以使掩膜板吸附更平整，提高蒸镀图案的均匀性，降低蒸镀过程中的混色风险，有效提高蒸镀质量，并且使遮挡条对掩膜条的压力适当减小，蒸镀时，还可以有效避免显示面板上的隔垫层损伤。
[0009]需要说明的是，上述对于第一支撑层的材料的磁性小于遮挡层的材料的磁性，这里的磁性是指材料被磁性吸引的性能，第一支撑层的材料的磁性小于遮挡层的材料的磁性，也就是，在相同条件下，在同一磁性部件的吸引下，第一支撑层与磁性部件之间的吸引能力小于遮挡层与磁性部件之间的吸引能力。
[0010]因此，上述掩膜板组件中，遮挡条具有遮挡层和第一支撑层，既可以对两个相邻的掩膜条之间的间隙起到很好的遮挡作用，还可以对掩膜条起到良好的支撑作用，有效减小掩膜条在搭接区域和搭接区域附近所受的压力差距，是掩膜条吸附更为平整，提高蒸镀图案的均匀性，降低蒸镀过程中的混色风险，提高蒸镀质量，并且还可以有效减轻显示面板上的隔垫层损伤。
[0011]可选地，所述遮挡层的材料与所述掩膜条的材料相同。
[0012]可选地，沿垂直于所述掩膜层的方向，所述遮挡层的尺寸与所述掩膜条的尺寸相同。
[0013]可选地，在相互对应的遮挡条和相邻的两个所述掩膜条之间的间隙中，所述第一支撑层在所述掩膜层上的正投影位于所述间隙内。
[0014]可选地，在相互对应的遮挡条和相邻的两个所述掩膜条之间的间隙中，沿垂直于所述遮挡条的排列方向，所述第一支撑层的尺寸小于所述间隙的尺寸。
[0015]可选地，所述第一支撑层为形成在所述遮挡层上的电铸层，以与所述遮挡层形成一体式结构。
[0016]可选地，所述第一支撑层与所述遮挡层为分体式结构。
[0017]可选地，所述支撑框架还包括设于所述外框上的多个间隔分布的支撑条，所述多个支撑条与所述多个遮挡条相交设置。
[0018]可选地，所述支撑条包括第二支撑层和位于所述第二支撑层远离所述掩膜层一侧的第三支撑层；沿所述支撑条的排列方向，所述第三支撑层的尺寸小于所述第二支撑层的尺寸；所述第三支撑层的材料的磁性小于所述第二支撑层的材料的磁性。
[0019]可选地，所述第二支撑层的材料与所述掩膜条的材料相同。
[0020]可选地，沿垂直于所述掩膜层的方向，所述第二支撑层的尺寸与所述掩膜条的尺寸相同。
附图说明
[0021]图1为本专利技术实施例提供的一种掩膜板组件的俯视图；
[0022]图2为本专利技术实施例提供的一种掩膜板组件的结构示意图；
[0023]图3为本专利技术实施例提供的一种遮挡条和支撑条的分布结构示意图；
[0024]图4为本专利技术实施例提供的一种掩膜条与遮挡条和支撑条配合的结构示意图；
[0025]图5为图4中A处的局部放大结构示意图；
[0026]图6为图5中沿B
‑
B向的截面示意图；
[0027]图标：1
‑
支撑框架；2
‑
掩膜层；11
‑
外框；12
‑
遮挡条；13
‑
支撑条；21
‑
掩膜条；121
‑
遮挡层；122
‑
第一支撑层。
具体实施方式
[0028]下面将结合本专利技术实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：支撑框架和覆盖于所述支撑框架上的掩膜层，所述掩膜层包括多个间隔分布的掩膜条；所述支撑框架包括：外框、以及设于所述外框上的多个间隔分布的遮挡条；所述遮挡条的延伸方向与所述掩膜条的延伸方向相同，且所述遮挡条的排列方向与所述掩膜条的排列方向相同，每个所述掩膜条搭接于相邻的两个所述遮挡条上，所述遮挡条用于遮挡相邻的两个所述掩膜条之间的间隙；其中，所述遮挡条包括遮挡层和位于所述遮挡层远离所述掩膜层一侧的第一支撑层；所述第一支撑层在所述掩膜层上的正投影位于所述遮挡层在所述掩膜层上的正投影内；所述第一支撑层的材料的磁性小于所述遮挡层的材料的磁性。2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述遮挡层的材料与所述掩膜条的材料相同。3.根据权利要求2所述的掩膜板组件，其特征在于，沿垂直于所述掩膜层的方向，所述遮挡层的尺寸与所述掩膜条的尺寸相同。4.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，在相互对应的遮挡条和相邻的两个所述掩膜条之间的间隙中，所述第一支撑层在所述掩膜层上的正投影位于所述间隙内。5.根据权利要求4所述的掩膜板组件，其特征在于，在相互对应的遮挡条和相邻的两...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘佳宁，白珊珊，毕娜，刘华猛，关新兴，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：