掩模板及其制作方法、有机发光装置制造方法及图纸

公开了一种掩模板(100)及其制作方法、有机发光装置(200)的制备方法，该掩模板(100)包括基板(1)和形成于所述基板(1)上的第一开口部(2)和第二开口部(3)，所述第一开口部(2)包括直线延伸的第一侧边(4)和第二侧边(5)，所述第一侧边(4)的延伸线和所述第二侧边(5)的延伸线相交于第一顶点(6)，以构成所述第一开口部(2)的第一顶角，所述第二开口部(3)位于所述第一顶角处且向外凸出，所述第二开口部(3)的边缘与所述第一侧边(4)和所述第二侧边(5)相交，由此与所述第一开口部(2)相通，所述第一开口部(2)和所述第二开口部(3)用于对有机发光装置(200)的显示区进行蒸镀，所述第二开口部(3)用于对所述显示区的顶角蒸镀补偿。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】掩模板及其制作方法、有机发光装置
本公开的实施例涉及一种掩模板及其制作方法、有机发光装置(organiclight-emittingdevice,OLED)。
技术介绍
有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此成为一种重要的显示技术。有机发光显示装置可以采用喷墨打印、蒸镀等方法进行制备。蒸镀方法具有操作简单、膜厚容易控制以及易于实现掺杂等优点。在使用薄膜蒸镀制备有机发光显示装置的过程中，为了在像素区域等特定位置蒸镀特定的材料，需要使用掩模板。掩模板上通常包括掩模图案，在蒸镀时以该掩模图案作为掩模，可在待蒸镀的基板上形成相应的薄膜图案。
技术实现思路
本公开的至少一实施例提供一种掩模板的制作方法，该方法包括：提供基板；采用刻蚀方法，在所述基板中形成第一开口部和第二开口部，所述第一开口部包括直线延伸的第一侧边和第二侧边，所述第一侧边的延伸线和所述第二侧边的延伸线相交于第一顶点，以构成所述第一开口部的第一顶角，所述第二开口部为位于所述第一顶角处且向外凸出，所述第二开口部的边缘与所述第一侧边和所述第二侧边相交，由此与所述第一开口部相通；所述第一开口部和所述第二开口部用于对有机发光装置的显示区进行蒸镀，所述第二开口部用于对所述显示区的顶角蒸镀补偿。在一些示例中，所述刻蚀方法为湿法刻蚀，所述第二开口部还配置为对所述第一顶角进行刻蚀补偿。在一些示例中，所述第二开口部的边缘到所述第一侧边的延伸线的最大垂直距离约等于40～60微米，在一些示例中，所述第二开口部的边缘到所述第二侧边的延伸线的最大垂直距离约等于40～60微米。在一些示例中，所述第一侧边的延伸线和所述第二侧边的延伸线大致垂直相交。在一些示例中，所述第二开口部的边缘与第一侧边相交于第一交点且与所述第二侧边相交于第二交点，所述第一交点和所述第二交点到所述第一顶点的距离大致相等。在一些示例中，所述刻蚀方法包括使用光刻掩模板进行曝光，所述光刻掩模板包括用于形成所述第一开口部的第一图案和用于形成所述第二开口部的第二图案。在一些示例中，所述第二图案的形状为圆形、规则多边形或非规则多边形的一部分。在一些示例中，所述圆形以所述第一顶点为圆心。本公开的至少一实施例提供一种掩模板，包括：基板和形成于所述基板上的第一开口部和第二开口部，所述第一开口部包括直线延伸的第一侧边和第二侧边，所述第一侧边的延伸线和所述第二侧边的延伸线相交于第一顶点，以构成所述第一开口部的第一顶角，所述第二开口部位于所述第一顶角处且向外凸出，所述第二开口部的边缘与所述第一侧边和所述第二侧边相交，由此与所述第一开口部相通，所述第一开口部和所述第二开口部用于对有机发光装置的显示区进行蒸镀，所述第二开口部用于对所述显示区的顶角蒸镀补偿。在一些示例中，所述第二开口部的边缘到所述第一侧边的最大垂直距离约等于40～60微米，所述第二开口部的边缘到所述第二侧边的最大垂直距离约等于40～60微米。在一些示例中，所述第一侧边的延伸线和所述第二侧边的延伸线大致垂直相交。在一些示例中，所述第二开口部的边缘与第一侧边相交于第一交点且与所述第二侧边相交于第二交点，所述第一交点和所述第二交点到所述第一顶点的距离大致相等。本公开的至少一实施例提供一种有机发光装置，包括：显示区和周边区，其中，所述显示区包括功能层，所述功能层具有对应于上述掩模板的所述第一开口部和所述第二开口部的形状，且具有所述第二开口部的顶角边界。在一些示例中，所述功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、封盖层或公共电极层中的至少一种。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。图1示出了光刻工艺产生圆角问题的示意图；图2A至图2D分别示出了当顶角边距不足时各个像素(白光、红光、绿光、蓝光)的实际发光过程的示意图；图3示出了根据本公开至少一实施例的掩模板的正面视图；图4示出了图3所示的掩模板的局部放大图；图5示出了根据本公开至少一实施例的光刻掩模板的局部放大图；图6示出了根据本公开另一实施例的光刻掩模板的局部放大图；图7示出了根据本公开又一实施例的光刻掩模板的局部放大图；图8示出了根据本公开再一实施例的光刻掩模板的局部放大图；图9至图12示出了根据图3中的B-B线截取的剖面的掩模板的制作方法；图13示出了根据本公开至少一实施例的有机发光装置的制备方法的示意图。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。蒸镀方法是薄膜沉积常用的方法之一，在薄膜蒸镀过程中，为了形成具有一定图案的薄膜层，将会使用掩模板。有机发光二极管显示面板由于具有自主发光、功耗低、显示亮度高、宽视角、响应速度快等一系列的优点，越来越受到市场的欢迎。有机发光二极管显示面板中的有机发光层和功能层，例如通常可以通过蒸镀方法形成。由于掩模板的对位精度和蒸镀阴影(EVshadow)等的影响，所述掩模板在设计时需要预留一定的边距(margin)，边距的设计满足以下关系：边距＝对位精度+蒸镀阴影。在待制备的显示面板的显示区域的形状例如为矩形的情况下，其对应的掩模板的开口部分也为矩形。该掩模板可以使用金属板通过光刻工艺制成，例如通过湿法刻蚀。但是，湿法刻蚀由于其各向同性的特性会在矩形区域的顶角位置形成圆角，使得相比于矩形区域的直线段，在顶角位置处的边距会明显减小。通常而言，当掩模板的厚度为100微米时，刻蚀造成的圆角半径R＝150微米左右，当掩模板的厚度为150微米时，刻蚀造成的圆角半径R＝200微米左右，当掩模板的厚度为200微米时，刻蚀造成的圆角半径R＝250微米左右。刻蚀圆角对边距的影响如图1所示，当直线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板的制作方法，包括：/n提供基板；/n采用刻蚀方法，在所述基板中形成第一开口部和第二开口部，/n其中，所述第一开口部包括直线延伸的第一侧边和第二侧边，所述第一侧边的延伸线和所述第二侧边的延伸线相交于第一顶点，以构成所述第一开口部的第一顶角，/n所述第二开口部为位于所述第一顶角处且向外凸出，所述第二开口部的边缘与所述第一侧边和所述第二侧边相交，由此与所述第一开口部相通；/n所述第一开口部和所述第二开口部用于对有机发光装置的显示区进行蒸镀，所述第二开口部用于对所述显示区的顶角蒸镀补偿。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种掩模板的制作方法，包括：
提供基板；
采用刻蚀方法，在所述基板中形成第一开口部和第二开口部，
其中，所述第一开口部包括直线延伸的第一侧边和第二侧边，所述第一侧边的延伸线和所述第二侧边的延伸线相交于第一顶点，以构成所述第一开口部的第一顶角，
所述第二开口部为位于所述第一顶角处且向外凸出，所述第二开口部的边缘与所述第一侧边和所述第二侧边相交，由此与所述第一开口部相通；
所述第一开口部和所述第二开口部用于对有机发光装置的显示区进行蒸镀，所述第二开口部用于对所述显示区的顶角蒸镀补偿。


如权利要求1所述的方法，其中，所述刻蚀方法为湿法刻蚀，所述第二开口部还配置为对所述第一顶角进行刻蚀补偿。


如权利要求1或2所述的方法，其中，所述第二开口部的边缘到所述第一侧边的延伸线的最大垂直距离约等于40～60微米。


如权利要求1-3任一所述的方法，其中，所述第二开口部的边缘到所述第二侧边的延伸线的最大垂直距离约等于40～60微米。


如权利要求1-4任一所述的方法，其中，所述第一侧边的延伸线和所述第二侧边的延伸线大致垂直相交。


如权利要求1-5任一所述的方法，其中，所述第二开口部的边缘与第一侧边相交于第一交点且与所述第二侧边相交于第二交点，所述第一交点和所述第二交点到所述第一顶点的距离大致相等。


如权利要求1所述的方法，其中，所述刻蚀方法包括使用光刻掩模板进行曝光，
所述光刻掩模板包括用于形成所述第一开口部的第一图案和用于形成所述第二开口部的第二图案。


如权利要求6所述的方法，其中，所述第二图案的形状为圆形、规则多边形或非规则...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐鹏，邓江涛，嵇凤丽，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11