显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

一种显示基板，包括：柔性透光基底；设置在所述柔性透光基底一侧的遮光层；以及，设置在所述遮光层远离所述柔性透光基底一侧的多个子像素。所述柔性透光基底的一侧具有多个凹槽。所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上。各子像素包括像素驱动电路和发光器件。其中，所述像素驱动电路包括多个晶体管，一个晶体管的有源层位于一个凹槽内；相对于所述柔性透光基底，所述有源层靠近所述柔性透光基底的一侧表面，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置
本公开涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
随着科学技术的发展，透明显示技术愈发引起人们的关注。透明显示屏既能够显示图像，又能够具有一定的光线透过率，透过透明显示屏，能够看到另外一侧的景象。透明显示屏可以广泛应用于建筑物外墙、展示橱窗、展会展板、机场、酒店或舞台等场合。
技术实现思路
一方面，提供一种显示基板。所述显示基板包括：柔性透光基底；设置在所述柔性透光基底一侧的遮光层；以及，设置在所述遮光层远离所述柔性透光基底一侧的多个子像素。所述柔性透光基底的一侧具有多个凹槽。所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上。各子像素包括像素驱动电路和发光器件。其中，所述像素驱动电路包括多个晶体管，一个晶体管的有源层位于一个凹槽内；相对于所述柔性透光基底，所述有源层靠近所述柔性透光基底的一侧表面，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。在一些实施例中，相对于所述柔性透光基底，所述有源层远离所述柔性透光基底的一侧表面，与所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面持平，或者，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。在一些实施例中，一个凹槽内设置有多个有源层。所述多个有源层属于至少一个像素驱动电路中的晶体管。在一些实施例中，所述第一子遮光图案和所述第二子遮光图案之间的夹角大于或等于90°。在一些实施例中，所述显示基板，还包括：设置在所述柔性透光基底和所述多个子像素之间的阻隔层。所述阻隔层具有多个开口，所述多个开口暴露所述多个凹槽。所述第一子遮光图案在所述柔性透光基底上的正投影，与所述阻隔层在所述柔性透光基底上的正投影相切或部分重叠。在一些实施例中，所述遮光层包括金属层。所述遮光层接地设置。在一些实施例中，所述显示基板，还包括：设置在所述遮光图案和所述有源层之间的缓冲层。所述缓冲层覆盖所述第一子遮光图案和所述第二子遮光图案。沿平行于所述柔性透光基底的方向，所述第一子遮光图案和所述有源层之间具有间距。在一些实施例中，所述晶体管的栅极位于所述晶体管的有源层远离所述柔性透光基底的一侧。另一方面，提供一种显示基板的制备方法。所述显示基板的制备方法包括：提供柔性透光薄膜；对所述柔性透光薄膜进行图案化处理，形成多个凹槽，得到柔性透光基底；在所述柔性透光基底的一侧形成遮光层；在所述遮光层远离所述柔性透光基底的一侧形成多个子像素。所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上。各子像素包括像素驱动电路和发光器件。其中，所述像素驱动电路包括多个晶体管，一个晶体管的有源层位于一个凹槽内；相对于所述柔性透光基底，所述有源层靠近所述柔性透光基底的一侧表面，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。在一些实施例中，所述对所述柔性透光薄膜进行图案化处理，形成多个凹槽，包括：在所述柔性透光薄膜的一侧形成阻隔薄膜；在所述阻隔薄膜远离所述柔性透光薄膜的一侧形成第一光刻胶层；对所述第一光刻胶层进行图案化，以图案化后的第一光刻胶层为掩膜，对所述阻隔薄膜进行图案化，形成多个开口，得到阻隔层；以所述阻隔层为掩膜，对所述柔性透光薄膜进行图案化，形成多个凹槽，得到所述柔性透光基底。在一些实施例中，所述对所述柔性透光薄膜进行图案化处理，形成多个凹槽，包括：在所述柔性透光薄膜的一侧形成阻隔薄膜；在所述阻隔薄膜远离所述柔性透光薄膜的一侧形成第二光刻胶层；对所述第二光刻胶层进行图案化，以图案化后的第二光刻胶层为掩膜，对所述阻隔薄膜进行图案化，形成多个开口，得到阻隔层，并对所述柔性透光薄膜进行图案化，形成多个凹槽，得到所述柔性透光基底。在一些实施例中，所述在所述柔性透光基底的一侧形成遮光层，包括：在所述柔性透光基底的形成有所述多个凹槽的一侧形成遮光薄膜；在所述遮光薄膜远离所述柔性透光基底的一侧形成第三光刻胶层；对所述第三光刻胶层进行图案化，以图案化后的第三光刻胶层为掩膜，对所述遮光薄膜进行图案化，形成位于凹槽内的遮光图案，得到所述遮光层。在一些实施例中，所述提供柔性透光薄膜，包括：提供刚性衬底；在所述刚性衬底上形成柔性透光薄膜。所述显示基板的制备方法还包括：在形成所述多个子像素之后，去除所述刚性衬底。在一些实施例中，所述在所述遮光层远离所述柔性透光基底的一侧形成多个子像素，包括：在所述遮光层远离所述柔性透光基底的一侧形成有源薄膜；在所述有源薄膜远离所述柔性透光基底的一侧形成第四光刻胶层；对所述第四光刻胶层进行图案化，以图案化后的第四光刻胶层为掩膜，对所述有源薄膜进行图案化，得到位于各凹槽内的有源层。在一些实施例中，所述在所述遮光层远离所述柔性透光基底的一侧形成多个子像素，还包括：在位于各凹槽内的有源层远离所述柔性透光基底的一侧形成相应晶体管的栅极。又一方面，提供一种显示装置。所述显示装置，包括：如上述任一实施例中所述的显示基板。附图说明为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程等的限制。图1为根据本公开一些实施例中的一种显示基板的结构图；图2为根据本公开一些实施例中的一种子像素的结构图；图3为根据本公开一些实施例中的一种柔性透光基底、遮光层及有源层的结构图；图4为图3所示结构的沿M-M＇向的一种剖视图；图5为图3所示结构的沿M-M＇向的另一种剖视图；图6为根据本公开一些实施例中的另一种柔性透光基底、遮光层及有源层的结构图；图7为根据本公开一些实施例中的另一种显示基板的结构图；图8为根据本公开一些实施例中的又一种显示基板的结构图；图9为根据本公开一些实施例中的一种显示基板的制备方法的流程图；图10为图9所示流程图中S100的一种流程图；图11为图9所示流程图中S200的一种流程图；图12为图9所示流程图中S200的另一种流程图；图13为图9所示流程图中S300的一种流程图；图14为图9所示流程图中S400的一种流程图；图15a～图15n为根据本公开一些实施例中的一种显示基板的制备步骤图；图16a～图16c为根据本公开一些实施例中的一种遮光层的制备步骤图；图17为根据本公开一些实施例中的一种显示装置的结构图。具体实施方式下面将结合附图，对本公开一些实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：/n柔性透光基底；所述柔性透光基底的一侧具有多个凹槽；/n设置在所述柔性透光基底一侧的遮光层；所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上；以及，/n设置在所述遮光层远离所述柔性透光基底一侧的多个子像素；各子像素包括像素驱动电路和发光器件；/n其中，所述像素驱动电路包括多个晶体管，一个晶体管的有源层位于一个凹槽内；相对于所述柔性透光基底，所述有源层靠近所述柔性透光基底的一侧表面，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：
柔性透光基底；所述柔性透光基底的一侧具有多个凹槽；
设置在所述柔性透光基底一侧的遮光层；所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上；以及，
设置在所述遮光层远离所述柔性透光基底一侧的多个子像素；各子像素包括像素驱动电路和发光器件；
其中，所述像素驱动电路包括多个晶体管，一个晶体管的有源层位于一个凹槽内；相对于所述柔性透光基底，所述有源层靠近所述柔性透光基底的一侧表面，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，相对于所述柔性透光基底，所述有源层远离所述柔性透光基底的一侧表面，与所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面持平，或者，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。


3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，一个凹槽内设置有多个有源层；
所述多个有源层属于至少一个像素驱动电路中的晶体管。


4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一子遮光图案和所述第二子遮光图案之间的夹角大于或等于90°。


5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述柔性透光基底和所述多个子像素之间的阻隔层；
所述阻隔层具有多个开口，所述多个开口暴露所述多个凹槽；
所述第一子遮光图案在所述柔性透光基底上的正投影，与所述阻隔层在所述柔性透光基底上的正投影相切或部分重叠。


6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层包括金属层；
所述遮光层接地设置。


7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述遮光图案和所述有源层之间的缓冲层；
所述缓冲层覆盖所述第一子遮光图案和所述第二子遮光图案；
沿平行于所述柔性透光基底的方向，所述第一子遮光图案和所述有源层之间具有间距。


8.根据权利要求1～7中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述晶体管的栅极位于所述晶体管的有源层远离所述柔性透光基底的一侧。


9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供柔性透光薄膜；
对所述柔性透光薄膜进行图案化处理，形成多个凹槽，得到柔性透光基底；
在所述柔性透光基底的一侧形成遮光层；所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上；
在所述遮光层远离所述柔性透光基底的一侧形成多个子像素；各子像素包括像素...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏维，王彦强，郭远征，韩永占，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11