一种自动检测装置以及自动检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及图像数据处理技术领域，提供一种自动检测装置以及自动检测方法，其中自动检测装置包括：架体；滑轨，滑轨设于架体的上方并与架体连接；载物台，载物台设于滑轨的上方并与滑轨滑动连接，载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；多个光学检测工位，多个光学检测工位沿滑轨来料方向依次设置，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个光学检测工位用于对纳米晶导磁片上的膜层的至少一个待检测区域进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整。本发明专利技术提高了产品良率，并提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种自动检测装置以及自动检测方法
本专利技术涉及图像数据处理
，具体涉及一种自动检测装置以及自动检测方法。
技术介绍
随着科技的发展，手机、平板电脑等电子产品具备了无线充电的功能，无线充电是利用电磁感应原理进行无线缆的充电，无线充电模组通常采用纳米晶作为磁屏蔽物质，纳米晶导磁片是具有低损耗、高磁导率等优点，可以有效降低无线充电过程中的能量损耗，减小发热以及对周围环境的电磁干扰，是目前国际上应用在无线充电模组最先进、最优异的磁性材料。其纳米晶导磁片在制备的过程中，纳米晶导磁片的上部具有多个层膜，其各个层膜存在较多的缺陷，现有技术中检测各个膜层存在缺陷的方式是通过人工进行检测，其不仅工作效率低下，而且无法有效的确保产品质量。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种自动检测装置以及自动检测方法，以解决现有技术中检测各个膜层存在缺陷的方式是通过人工进行检测，其不仅工作效率低下，而且无法有效的确保产品质量的技术问题。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一方面，本专利技术提供一种自动检测装置，包括：架体；滑轨，滑轨设于架体的上方并与架体连接；载物台，载物台设于滑轨的上方并与滑轨滑动连接，载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；多个光学检测工位，多个光学检测工位沿滑轨来料方向依次设置，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个光学检测工位用于对纳米晶导磁片上的膜层的至少一个待检测区域进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整。根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第一光学检测工位，第一光学检测工位用于对蓝膜区域和/或二维码区域进行检测，第一光学检测工位包括：第一支架，第一支架设于架体上并与架体连接；第一拍摄设备，第一拍摄设备设于第一支架上并与第一支架连接，且第一拍摄设备可相对第一支架移动，第一拍摄设备包括第一相机，第一相机为面阵相机；第一光源，第一光源设于第一拍摄设备的下方，且第一光源和第一拍摄设备位于同一轴线并与滑轨垂直，第一光源为白环光；第一光源支架，第一光源支架设于第一支架上并与第一支架连接，第一光源设于第一光源支架上，且第一光源支架用于调节第一光源的位置。根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第二光学检测工位，第二光学检测工位用于对纳米晶区域和/或铜箔区域进行检测，第二光学检测工位包括：第二支架，第二支架设于架体上并与架体连接；第二拍摄设备，第二拍摄设备设于第二支架上并与第二支架连接，且第二拍摄设备可相对第二支架转动，第二拍摄设备与滑轨形成第一夹角，第一夹角的范围值为50°~70°，第二拍摄设备包括第二相机，第二相机为线阵相机；第二光源，第二光源为白条光；第二光源支架，第二光源支架设于架体上并与架体连接，第二光源设于第二光源支架上，且第二光源支架用于调节第二光源的位置。根据上述的自动检测装置，第二支架上设有第二连接件，第二连接件包括转动连接部和设于转动连接部两侧的转动限位部，第二拍摄设备与转动连接部连接，转动连接部与转动限位部转动连接，转动限位部与第二支架连接；和/或，第二光源支架包括L型支撑部和第一平板状支撑部，L型支撑部与架体连接，L型支撑部与第一平板状支撑部连接，第一平板状支撑部与第二光源连接。根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第三光学检测工位，第三光学检测工位用于对石墨区域进行检测，第三光学检测工位包括：第三支架，第三支架设于架体上并与架体连接；第三拍摄设备，第三拍摄设备设于第三支架上并与第三支架连接，且第三拍摄设备可相对第三支架转动，第三拍摄设备与滑轨形成第二夹角，第二夹角的范围值为70°~90°，第三拍摄设备包括第三相机，第三相机为线阵相机；第三光源，第三光源为白条光；第三光源支架，第三光源支架设于架体上并与架体连接，第三光源设于第三光源支架上，且第三光源支架用于调节第三光源的位置。根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第四光学检测工位，第四光学检测工位用于对纳米晶区域和/或石墨区域和/或铜箔区域进行检测，第四光学检测工位包括：第四支架，第四支架设于架体上并与架体连接；第四拍摄设备，第四拍摄设备设于第四支架上并与第四支架连接，且第四拍摄设备可相对第四支架移动，第四拍摄设备包括第四相机，第四相机为面阵相机；第四光源，第四光源设于第四拍摄设备的下方，且第四光源和第四拍摄设备位于同一轴线并与滑轨垂直，第四光源为蓝环光；第四光源支架，第四光源支架设于第四支架上并与第四支架连接，第四光源设于第四光源支架上，且第四光源支架用于调节第四光源的位置。根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第五光学检测工位，第五光学检测工位用于对纳米晶区域和/或石墨区域和/或蓝膜区域进行检测，第五光学检测工位包括：第五支架，第五支架设于架体上并与架体连接；第五拍摄设备，第五拍摄设备设于第五支架上并与第五支架连接，且第五拍摄设备可相对第五支架移动，第五拍摄设备包括第五相机，第五相机为面阵相机；第五光源，第五光源设于第五拍摄设备的下方，第五光源和第五拍摄设备位于同一轴线并与滑轨垂直，第五光源为白同轴光；第五光源支架，第五光源支架设于第五支架上并与第五支架连接，第五光源设于第五光源支架上，且第五光源支架用于调节第五光源的位置。根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第六光学检测工位，第六光学检测工位用于对纳米晶区域进行检测，第六光学检测工位包括：第六支架，第六支架设于架体上并与架体连接；第六拍摄设备，第六拍摄设备设于第六支架上并与第六支架连接，且第六拍摄设备可相对第六支架移动，第六拍摄设备包括第六相机，第六相机为面阵相机；第六光源，第六光源为红条光；第六光源支架，第六光源支架设于第六支架上并与第六支架连接，第六光源设于第六光源支架上，且第六光源支架用于调节第六光源的位置。根据上述的自动检测装置，载物台包括：载物底座，载物底座设于滑轨的上方并与滑轨可滑动连接；载物支撑板，载物支撑板设于载物底座的上方并与载物底座可转动连接。另一方面，本专利技术还提供一种自动检测方法，应用于自动检测装置，自动检测装置包括：架体；滑轨，滑轨设于架体的上方并与架体连接；载物台，载物台设于滑轨的上方并与滑轨滑动连接，载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；沿滑轨来料方向依次设置的第一光学检测工位、第二光学检测工位、第三光学检测工位、第四光学检测工位、第五光学检测工位以及第六光学检测工位，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自动检测装置，其特征在于，包括：/n架体；/n滑轨，所述滑轨设于所述架体的上方并与所述架体连接；/n载物台，所述载物台设于所述滑轨的上方并与所述滑轨滑动连接，所述载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，所述纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，所述待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；/n多个光学检测工位，多个所述光学检测工位沿所述滑轨来料方向依次设置，可对所述滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个所述光学检测工位用于对所述纳米晶导磁片上的膜层的至少一个所述待检测区域进行检测，且每个所述光学检测工位的位置可相对其检测的所述待检测区域进行调整。/n

【技术特征摘要】
1.一种自动检测装置，其特征在于，包括：
架体；
滑轨，所述滑轨设于所述架体的上方并与所述架体连接；
载物台，所述载物台设于所述滑轨的上方并与所述滑轨滑动连接，所述载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，所述纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，所述待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；
多个光学检测工位，多个所述光学检测工位沿所述滑轨来料方向依次设置，可对所述滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个所述光学检测工位用于对所述纳米晶导磁片上的膜层的至少一个所述待检测区域进行检测，且每个所述光学检测工位的位置可相对其检测的所述待检测区域进行调整。


2.根据权利要求1所述的自动检测装置，其特征在于，所述自动检测装置包括第一光学检测工位，所述第一光学检测工位用于对所述蓝膜区域和/或所述二维码区域进行检测，所述第一光学检测工位包括：
第一支架，所述第一支架设于所述架体上并与所述架体连接；
第一拍摄设备，所述第一拍摄设备设于所述第一支架上并与所述第一支架连接，且所述第一拍摄设备可相对所述第一支架移动，所述第一拍摄设备包括第一相机，所述第一相机为面阵相机；
第一光源，所述第一光源设于所述第一拍摄设备的下方，且所述第一光源和所述第一拍摄设备位于同一轴线并与所述滑轨垂直，所述第一光源为白环光；
第一光源支架，所述第一光源支架设于所述第一支架上并与所述第一支架连接，所述第一光源设于所述第一光源支架上，且所述第一光源支架用于调节第一光源的位置。


3.根据权利要求1所述的自动检测装置，其特征在于，所述自动检测装置包括第二光学检测工位，所述第二光学检测工位用于对所述纳米晶区域和/或所述铜箔区域进行检测，所述第二光学检测工位包括：
第二支架，所述第二支架设于所述架体上并与所述架体连接；
第二拍摄设备，所述第二拍摄设备设于所述第二支架上并与所述第二支架连接，且所述第二拍摄设备可相对所述第二支架转动，所述第二拍摄设备与所述滑轨形成第一夹角，所述第一夹角的范围值为50°~70°，所述第二拍摄设备包括第二相机，所述第二相机为线阵相机；
第二光源，所述第二光源为白条光；
第二光源支架，所述第二光源支架设于架体上并与所述架体连接，所述第二光源设于第二光源支架上，且所述第二光源支架用于调节第二光源的位置。


4.根据权利要求3所述的自动检测装置，其特征在于，所述第二支架上设有第二连接件，所述第二连接件包括转动连接部和设于转动连接部两侧的转动限位部，所述第二拍摄设备与所述转动连接部连接，所述转动连接部与所述转动限位部转动连接，所述转动限位部与所述第二支架连接；
和/或，所述第二光源支架包括L型支撑部和第一平板状支撑部，所述L型支撑部与所述架体连接，所述L型支撑部与所述第一平板状支撑部连接，所述第一平板状支撑部与所述第二光源连接。


5.根据权利要求1所述的自动检测装置，其特征在于，所述自动检测装置包括第三光学检测工位，所述第三光学检测工位用于对所述石墨区域进行检测，所述第三光学检测工位包括：
第三支架，所述第三支架设于所述架体上并与所述架体连接；
第三拍摄设备，所述第三拍摄设备设于所述第三支架上并与所述第三支架连接，且所述第三拍摄设备可相对所述第三支架转动，所述第三拍摄设备与所述滑轨形成第二夹角，所述第二夹角的范围值为70°~90°，所述第三拍摄设备包括第三相机，所述第三相机为线阵相机；
第三光源，所述第三光源为白条光；
第三光源支架，所述第三光源支架设于架体上并与所述架体连接，所述第三光源设于第三光源支架上，且所述第三光源支架用于调节第三光源的位置。


6.根据权利要求1所述的自动检测装置，其特征在于，所述自动检测装置包括第四光学检测工位，所述第四光学检测工位用于对所述纳米晶区域和/或所述石墨区域和/或所述铜箔区域进行检测，所述第四光学检测工位包括：
第四支架，所述第四支架设于所述架体上并与所述架体连接；
第四拍摄设备，所述第四拍摄设备设于所述第四支架上并与所述第四支架连接，且所述第四拍摄设备可相对所述第四支架移动，所述第四拍摄设备包括第四相机，所述第四相机为面阵相机；
第四光源，...

【专利技术属性】
技术研发人员：余太平，胡彦潮，许朋飞，
申请(专利权)人：深圳市罗博威视科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44