管道清洁装置及管道清洁方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种管道清洁装置及管道清洁方法，本发明专利技术中，管道清洁装置，包括：目标管道，以及与目标管道相连接的至少一条进气管道；目标管道的一端与反应腔室相连接；进气管道用于向目标管道输送清洁气体以清洁目标管道；目标管道内设置有挡流装置，挡流装置的挡流面面对进气管道的出气口。通过与目标管道相连的进气管道向目标管道通入清洁气体，并通过挡流装置扰动气流使清洁气体充分地接触目标管道管壁，能够对目标管道进行彻底地清洁，避免目标管道中的残余物污染反应腔室中的样品。

【技术实现步骤摘要】
管道清洁装置及管道清洁方法
本专利技术涉及半导体
，特别涉及一种管道清洁装置及管道清洁方法。
技术介绍
化学气相沉积法是沉积薄膜的主要方法之一。采用目前的化学气相沉积设备沉积薄膜过程中，通常会通过前级管道和真空泵把残余反应物抽走，避免残余反应物造成产品缺陷，如避免残余反应物掉落在晶圆上造成产品污染。然而本专利技术的专利技术人发现，随着工艺次数的积累，前级管道里面的残余反应物也会越积越多，影响到反应腔室内产品的缺陷指标，常常在产品靠近抽气端位置形成产品污染缺陷。现亟需提供一种管道清洁装置，能够对管道进行充分地清洁。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供一种管道清洁装置及管道清洁方法，能够对目标管道进行充分地清洁，避免目标管道中的残余物污染反应腔室中的样品。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供了一种管道清洁装置，包括：目标管道，以及与目标管道相连接的至少一条进气管道；目标管道的一端与反应腔室相连接；进气管道用于向目标管道输送清洁气体以清洁目标管道；目标管道内设置有挡流装置，挡流装置的挡流面面对进气管道的出气口。另外，挡流装置可伸缩地设置在目标管道的管壁上，适于通过目标管道的管壁伸入目标管道或从目标管道抽出。在对目标管道进行清洁时挡流装置伸出，改变清洁气体流动方向以使清洁气体与目标管道的管壁充分接触；在反应腔室进行工艺或清洁反应腔室时，挡流装置可以从目标管道抽出，避免影响目标管道的气流。另外，还包括第一控制器，用于控制挡流装置通过目标管道的管壁伸入目标管道或从目标管道抽出。能够实现挡流装置的伸缩自动化。另外，挡流装置上设有旋转轴，旋转轴与挡流面平行；挡流装置适于围绕旋转轴转动。挡流装置转动对气流的影响更大，能够使清洁气体与目标管道的管壁接触更加充分，清洁效果更佳。另外，还包括第二控制器，用于控制挡流装置围绕旋转轴转动。能够实现挡流装置转动自动化。另外，目标管道包括主管道、第一子管道和第二子管道；第一子管道的一端与第一反应腔室相连接，第二子管道的一端与第二反应腔室相连接；第一子管道和第二子管道的另一端交汇至主管道的一端；进气管道有多条，第一子管道与第二子管道分别与至少一条进气管道相连。适用于多个反应腔室的前级管道清洁，本方法应用场景广泛。另外，进气管道的进气口与清洁气体制备装置相连接，清洁气体制备装置用于向进气管道输送清洁气体。另外，进气管道上设置有质量流量控制器。能够控制清洁气体的流量，从而控制目标管道内清洁气体的浓度，以达到最大的清洁效率。另外，清洁气体制备装置用于制备等离子态的清洁气体。采用等离子体清洁目标管道，能量更大，清洁更彻底。本专利技术的实施例还提供了一种管道清洁方法，应用于上述管道清洁装置，包括：通过进气管道向目标管道通入清洁气体对目标管道进行清洁。另外，在通过进气管道向目标管道通入清洁气体对目标管道进行清洁之前，还包括：控制挡流装置从目标管道的管壁伸入目标管道。在对目标管道进行清洁时挡流装置能够自动伸出，改变清洁气体流动方向以使清洁气体与目标管道的管壁充分接触；在反应腔室进行工艺或清洁反应腔室时，挡流装置可以自动从目标管道抽出，避免影响目标管道的气流。另外，在通过进气管道向目标管道通入清洁气体对目标管道进行清洁之前，还包括：控制挡流装置围绕挡流装置上与挡流面平行的旋转轴转动。挡流装置转动对气流的影响更大，能够使清洁气体与目标管道的管壁接触更加充分，清洁效果更佳。另外，在通过进气管道向目标管道通入清洁气体对目标管道进行清洁的过程中，还包括：控制清洁气体的流量范围为200sccm至2000sccm。清洁气体的流速在200sccm至2000sccm范围内时，清洁气体与目标管道上的残余物能够充分反应，清洁效果最好。另外，清洁气体包括氟离子。本专利技术实施例相对于现有技术而言，通过与目标管道相连的进气管道向目标管道通入清洁气体，并通过挡流装置扰动气流使清洁气体充分地接触目标管道管壁，能够对目标管道进行充分地清洁，避免目标管道中的残余物污染反应腔室中的样品。附图说明一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。图1是本专利技术第一实施例提供的管道清洁装置结构示意图；图2是本专利技术第一实施例提供的管道清洁装置局部结构示意图；图3是本专利技术第二实施例提供的管道清洁装置局部结构示意图；图4是本专利技术第三实施例提供的一种管道清洁装置结构示意图；图5是本专利技术第三实施例提供的另一种管道清洁装置结构示意图；图6是本专利技术第四实施例提供的管道清洁方法流程图。具体实施方式由
技术介绍
可知，现亟需提供一种管道清洁装置，能够对前级管道进行充分地清洁。可以理解，本专利技术所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件，但这些元件不受这些术语的限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分。举例来说，在不脱离本专利技术的范围的情况下，可以将第一子管道称为第二子管道，且类似地，可将第二子管道称为第一子管道。第一子管道和第二子管道两者都是子管道，但其不是同一子管道。为解决上述问题，本专利技术的实施例提供了一种管道清洁装置，包括：目标管道，以及与目标管道相连接的至少一条进气管道；目标管道的一端与反应腔室相连接；进气管道用于向目标管道输送清洁气体以清洁目标管道；目标管道内设置有挡流装置，挡流装置的挡流面面对进气管道的出气口。通过与目标管道相连的进气管道向目标管道通入清洁气体，并通过挡流装置扰动气流使清洁气体充分地对目标管道进行清洁，能够对目标管道进行充分地清洁，避免目标管道中的残余物污染反应腔室中的样品。为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的各实施例进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本专利技术各实施例中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施例的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。图1为本专利技术第一实施例提供的一种管道清洁装置的结构示意图，如图所示，包括：目标管道1，以及与目标管道1相连接的至少一条进气管道2；目标管道1的一端与反应腔室3相连接；进气管道2用于向目标管道1输送清洁气体以清洁目标管道1；目标管道1内设置有挡流装置4，挡流装置4的挡流面面对进气管道2的出气口。具体地说，本实施例中，挡流装置4为长方体的板状结构，挡流装置4的上表面即为挡流面，挡流面为长方形。实际应用中挡流面还可以设置为圆形或其他任意形状，对应的挡流装置也可以为其他任意形状，本实施例不做限制。目标管道1即为待清洁的管道，在对目标管道1进行清洁时，通过进气管道2向目标管道1内通入清洁气体，清洁气体流入目标管道1时，受到挡流装置4挡流面的阻挡，从而改变清洁气体的流动方向，使清洁气体在目标管道1内均匀扩散，充分地与目标管道1的管壁接触，一方面可以通过清洁气本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种管道清洁装置，其特征在于，包括：目标管道，以及与所述目标管道相连接的至少一条进气管道；/n所述目标管道的一端与反应腔室相连接；/n所述进气管道用于向所述目标管道输送清洁气体以清洁所述目标管道；/n所述目标管道内设置有挡流装置，所述挡流装置的挡流面面对所述进气管道的出气口。/n

【技术特征摘要】
1.一种管道清洁装置，其特征在于，包括：目标管道，以及与所述目标管道相连接的至少一条进气管道；
所述目标管道的一端与反应腔室相连接；
所述进气管道用于向所述目标管道输送清洁气体以清洁所述目标管道；
所述目标管道内设置有挡流装置，所述挡流装置的挡流面面对所述进气管道的出气口。


2.根据权利要求1所述的管道清洁装置，其特征在于，所述挡流装置可伸缩地设置在所述目标管道的管壁上，适于通过所述目标管道的管壁伸入所述目标管道或从所述目标管道抽出。


3.根据权利要求2所述的管道清洁装置，其特征在于，还包括第一控制器，用于控制所述挡流装置通过所述目标管道的管壁伸入所述目标管道或从所述目标管道抽出。


4.根据权利要求1所述的管道清洁装置，其特征在于，所述挡流装置上设有旋转轴，所述旋转轴与所述挡流面平行；所述挡流装置适于围绕所述旋转轴转动。


5.根据权利要求4所述的管道清洁装置，其特征在于，还包括第二控制器，用于控制所述挡流装置围绕所述旋转轴转动。


6.根据权利要求1所述的管道清洁装置，其特征在于，所述目标管道包括主管道、第一子管道和第二子管道；
所述第一子管道的一端与第一反应腔室相连接，所述第二子管道的一端与第二反应腔室相连接；所述第一子管道和所述第二子管道的另一端交汇至所述主管道的一端；
所述进气管道有多条，所述第一子管道与所述第二子管道分别与至少一条所述进气管道相连。


7.根据权利要求1所述的管道清洁装置，其特征在于，所述进气管道的进气口与清洁气体...

【专利技术属性】
技术研发人员：张传洋，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34