一种异地加工的镜面玻璃及其制备方法技术

技术编号:28860471 阅读:30 留言:0更新日期:2021-06-15 22:48
本发明专利技术提供了一种异地加工的镜面玻璃及其制备方法,包括玻璃基底和设置于玻璃基底锡液面一侧的锡液面镀层,锡液面镀层包括由玻璃基底表面向外依次层叠的至少两层锡液面介质层,锡液面介质层材料的折射率由玻璃基底表面向外依次递减。镜面玻璃还包括设置于玻璃基底空气面一侧的空气面镀层,空气面镀层包括由玻璃基底表面向外依次层叠的第一空气面介质层、第二空气面介质层、金属层和第三空气面介质层。本发明专利技术中提供的异地加工的镜面玻璃在热处理前可以满足较高室外可见光反射率,在热处理后同样可以满足较高室外面可见光反射率,其反射率能够达到72%的同时依然可以保持中性色。

【技术实现步骤摘要】
一种异地加工的镜面玻璃及其制备方法
本专利技术属于玻璃制作
,涉及玻璃表面镀膜,尤其涉及一种异地加工的镜面镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
镜面玻璃在生活中使用十分广泛,目前常用的镜子生产方式有两种,一种是化学镀银法和真空蒸镀法。前者是使用最为广泛的生产工艺。利用一系列化学反应在玻璃表面镀制一层银膜,使镀制后的玻璃具有高反射可见光的效果,一般可见光反射率高达90%以上。但是,这种方法制备出的产品如没有保护层的保护,银层在空气中直接暴露,一周之内银层就会氧化,从而导致镜面效果失效。另外,市场上还有铝镜和铬镜,虽然其可见光反射率没有银镜这么高,但是其化学稳定性要优于银镜,但是同样无法在异地加工,也就是说无法在镀制完功能膜层(Ag,Cu,Al,Cr等)后再进行热处理。高室外可见光反射率和可异地加工就成了两难的问题。CN105776893A公开了一种低辐射镀膜玻璃及其制作工艺,所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基底和设置于玻璃基底表面的镀层,所述镀层包括金属钨层,所述金属钨层的厚度为2~7nm,所述镀层的厚度为180~220nm。所述低辐射镀膜玻璃采用溅射工艺制备得到。CN202242181U公开了一种大面积可钢化镀膜玻璃,在浮法玻璃基片上依次设有氮化硅(SiNx)层、金属镍铬(NiCr)层、金属银(Ag)层、金属镍铬(NiCr)层、氮化硅(SiNx)层。浮法玻璃基片上面第一层氮化硅层厚度为10~50nm,第二层金属镍铬层厚度为3~11nm,第三层金属银层的厚度为3~10nm,第四层金属镍铬层厚度为3~11nm,第五层氮化硅层厚度为30~55nm。CN208632388U公开了一种可钢化单向透视玻璃,包括玻璃基板,还包括依次叠加设置在所述玻璃基板一表面的用于降低光线从玻璃基板射向金属反射层的照度的第一电介质层;将从第一电介质层射来的光反射的金属反射层;用于降低光的透过,实现透视效果的第二电介质层;用于对第二电介质层起到保护作用的介质保护层;第一电介质层的材料选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中任一层;所述金属反射层为NiCr层、NiCrOx层、NiCrNx层、Cr层、CrNx层、SST层中任一层;第二电介质层的材料选自Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中任一层;所述介质保护层为Si3N4层、SiOx层、SiOxNx层、TiO2层、ZrO2层、ZnSnO3层中任一层。以上报道的玻璃镀膜中为得到高室外可见光反射率,在玻璃基底镀有银层,但若没有保护层,若银层直接暴露在空气中,会发生氧化现象,从而导致玻璃镜面的失效。且由于上述专利中为了不破坏镀膜,只能在镀制功能层之前进行加热处理,因此无法实现玻璃的异地加工。因此,如何通过在玻璃基底表面镀膜来提高玻璃的室外可见光反射率,同时解决无法在镀制完功能层后再进行加热的问题,即实现可异地加工制作成为了亟待解决的问题。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本专利技术的目的在于提供一种异地加工的镜面玻璃及其制备方法,能够满足镀膜后再进行热处理,且热处理后镀制的膜层不发生氧化,不脱膜可正常使用,同时,保证热处理后玻璃的室外可见光反射率保持较高的水平。为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:第一方面,本专利技术提供了一种异地加工的镜面玻璃,所述的镜面玻璃包括玻璃基底和设置于玻璃基底锡液面一侧的锡液面镀层,所述的锡液面镀层包括由所述玻璃基底表面向外依次层叠的至少两层锡液面介质层,所述的锡液面介质层材料的折射率由所述玻璃基底表面向外依次递减。本专利技术提供的一种异地加工的镜面玻璃,在玻璃基底上锡液面镀制至少两层的介质层,使得玻璃在热处理前可以满足较高室外可见光反射率,在热处理后同样可以满足较高室外面可见光反射率,其反射率能够达到72%以上同时,依然可以保持中性色。需要说明的是,本专利技术中玻璃基底是采用浮法进行成型过程中,熔融玻璃从池窑中连续流入并漂浮在相对密度大的锡液表面上,在重力和表面张力的作用下,玻璃液在锡液面上铺开、摊平、形成上下表面平整、硬化、冷却后制得。本专利技术中玻璃基底锡液面是指在玻璃成型过程中熔融玻璃与锡液接触并成型的一面。作为本专利技术一种优选的技术方案,所述的锡液面介质层包括由所述玻璃基底表面向外依次层叠的第一锡液面介质层和第二锡液面介质层,所述的第一锡液面介质层的折射率高于所述第二锡液面介质层。优选地,所述第一锡液面介质层的材料包括ZnSnOx、SiNx、TiOx或ZrOx中的任意一种或至少两种的组合。优选地,所述第一锡液面介质层的材料为SiNx或ZrOx。优选地,所述第二锡液面介质层的材料包括SiOx、AlOx或MgAl2O4中的任意一种或至少两种的组合。优选地,所述第二锡液面介质层的材料为SiOx。优选地,所述第一锡液面介质层的厚度为40~60nm,进一步优选为45~55nm,例如可以是40nm、41nm、42nm、43nm、44nm、45nm、46nm、47nm、48nm、49nm、50nm、51nm、52nm、53nm、54nm、55nm、56nm、57nm、58nm、59nm或60nm,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。优选地,所述第二锡液面介质层的厚度为40~60nm,进一步优选为40~50nm,例如可以是40nm、41nm、42nm、43nm、44nm、45nm、46nm、47nm、48nm、49nm、50nm、51nm、52nm、53nm、54nm、55nm、56nm、57nm、58nm、59nm或60nm,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。作为本专利技术一种优选的技术方案,所述的镜面玻璃还包括设置于所述玻璃基底空气面一侧的空气面镀层,所述的空气面镀层包括由玻璃基底表面向外依次层叠的第一空气面介质层、第二空气面介质层、金属层和第三空气面介质层,所述的空气面介质层材料的折射率由所述玻璃基底表面向外依次递减。需要说明的是,本专利技术中玻璃基底是采用浮法进行成型过程中,熔融玻璃从池窑中连续流入并漂浮在相对密度大的锡液表面上,在重力和表面张力的作用下,玻璃液在锡液面上铺开、摊平、形成上下表面平整、硬化、冷却后制得。本专利技术中玻璃基底空气面是指在玻璃成型过程中熔融玻璃未与锡液接触并成型的一面,即锡液面的对立面。作为本专利技术一种优选的技术方案,所述的第一空气面介质层的材料包括ZnSnOx、SiNx、TiOx或ZrOx中的任意一种或至少两种的组合。优选地,所述第一空气面介质层的材料为SiNx或ZrOx。优选地,所述第二空气面介质层的材料包括SiOx、AlOx或MgAl2O4中的任意一种或至少两种的组合,进一步优选为SiOx。优选地,所述第三空气面介质层的材料包括ZnSnOx、SiNx、TiOx或ZrOx中的任意一种或至少两种的组合,进一步优选为SiNx或ZrOx。优选地,所述第一空气面介质层的本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种异地加工的镜面玻璃,其特征在于,所述的镜面玻璃包括玻璃基底和设置于玻璃基底锡液面一侧的锡液面镀层,所述的锡液面镀层包括由所述玻璃基底表面向外依次层叠的至少两层锡液面介质层,所述的锡液面介质层材料的折射率由所述玻璃基底表面向外依次递减。/n

【技术特征摘要】
1.一种异地加工的镜面玻璃,其特征在于,所述的镜面玻璃包括玻璃基底和设置于玻璃基底锡液面一侧的锡液面镀层,所述的锡液面镀层包括由所述玻璃基底表面向外依次层叠的至少两层锡液面介质层,所述的锡液面介质层材料的折射率由所述玻璃基底表面向外依次递减。


2.根据权利要求1所述的镜面玻璃,其特征在于,所述的锡液面介质层包括由所述玻璃基底表面向外依次层叠的第一锡液面介质层和第二锡液面介质层,所述的第一锡液面介质层的折射率高于所述第二锡液面介质层;
优选地,所述第一锡液面介质层的材料包括ZnSnOx、SiNx、TiOx或ZrOx中的任意一种或至少两种的组合;
优选地,所述第一锡液面介质层的材料为SiNx或ZrOx;
优选地,所述第二锡液面介质层的材料包括SiOx、AlOx或MgAl2O4中的任意一种或至少两种的组合;
优选地,所述第二锡液面介质层的材料为SiOx;
优选地,所述第一锡液面介质层的厚度为40~60nm,进一步优选为45~55nm;
优选地,所述第二锡液面介质层的厚度为40~60nm,进一步优选为40~50nm。


3.根据权利要求1所述的镜面玻璃,其特征在于,所述的镜面玻璃还包括设置于所述玻璃基底空气面一侧的空气面镀层,所述的空气面镀层包括由玻璃基底表面向外依次层叠的第一空气面介质层、第二空气面介质层、金属层和第三空气面介质层。


4.根据权利要求3所述的镜面玻璃,其特征在于,所述的第一空气面介质层的材料包括ZnSnOx、SiNx、TiOx或ZrOx中的任意一种或至少两种的组合;
优选地,所述第一空气面介质层的材料为SiNx或ZrOx;
优选地,所述第二空气面介质层的材料包括SiOx、AlOx或MgAl2O4中的任意一种或至少两种的组合,进一步优选为SiOx;
优选地,所述第三空气面介质层的材料包括ZnSnOx、SiNx、TiOx或ZrOx中的任意一种或至少两种的组合,进一步优选为SiNx或ZrOx;
优选地,所述第一空气面介质层的厚度为45~75nm,进一步优选为55~65nm;
优选地,所述第二空气面介质层的厚度为60~80nm,进一步优选为70~80nm;
优选地,所述第三空气面介质层的厚度为110~130nm,进一步优选为110~120nm。


5.根据权利要求3所述的镜面玻璃,其特征在于,所述金属层的材料包括NiCr、Ti、Cr或Zr中的任意一种或至少两种的组合;
优选的,所述金属层的材料为NiCr;
优选地,所述金属层的厚度为55~70nm,进一步优选为60~70nm。


6.一种权利要求1-5之一所述的镜面玻璃的制备方法,其特征在于,所述的制备方法包括:
采用溅射工艺在玻璃基底的锡液面一侧依次溅射形成第一锡液面介质层和第二锡液面介质层,在玻璃基底的空气面一侧依次溅射形成第一空气面介质层、第二空气面介质层、金属层和第三空气面介质层。


7.根据权利要求6所述的镜面玻璃的制备方法,其特征在于,所述的第一锡液面介质层的溅射过程包括:采用第一锡液面靶位在玻璃基底锡液面一侧的表面溅射形成第一锡液面介质层;
优选地,所述的第一锡液面靶位为交流圆靶;
优选地,所述第一锡液面介质层的溅射过程在氩气和氮气的混合气氛下进行;
优选地,所述的第一锡液面介质层的溅射过程中氩气和氮气的体积比为(0.7~1):1;
优选地,所述的第一锡液面靶位的溅射在气压为1.05×10-3~1.25×10-3mbar下进行;
优选地,所述的第一锡液面靶位的溅射厚度为40~60nm;
优选地,所述的第二锡液面介质层的溅射过程包括:依次通过第二锡液面靶位和第三锡液面靶位在第一锡液面介质层的表面溅射形成第二锡液面介质层;
优选地,所述的第二锡液面靶位和第三锡液面靶位均为交流圆靶;
优选地,所述的第二锡液面介质层的溅射过程在氩气和氧气的混合气氛下进行;
优选地,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:庄宇陈波
申请(专利权)人:上海耀皮工程玻璃有限公司上海耀皮玻璃集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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