一种硅片传输设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种硅片传输设备，所述的硅片传输设备包括多个平行设置的纵向硅片传输机构、至少一个横向硅片传输机构，所述的横向硅片传输机构包括横向传输组件、用于驱动所述的横向传输组件升降的升降组件，所述的横向传输组件包括两个相互平行设置的横向传输导轨，所述的纵向硅片传输机构包括相互平行设置的两个纵向传送导轨，所述的纵向传送导轨包括纵向导轨安装架，所述的纵向导轨安装架上设置有至少一组开口朝上的避让槽，所述的横向硅片传输机构的横向传输导轨能够穿过所述的避让槽。本实用新型专利技术的硅片传输设备，通过多个纵向硅片传输机构和多个横向硅片传输机构相互配合，提高了硅片的传输效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片传输设备
本技术涉及硅片生产领域，具体涉及一种硅片传输设备。
技术介绍
硅片是太阳能电池片的载体，硅片质量的好坏直接决定了太阳能电池片转换效率的高低，太阳能电池需要一个大面积的PN结以实现光能到电能的转换，而扩散炉即为制造太阳能电池PN结的专用设备。管式扩散炉主要由石英舟的上下载部分、废气室、炉体部分和气柜部分等四大部分组成。扩散一般用三氯氧磷液态源作为扩散源。把P型硅片放在管式扩散炉的石英容器内，在850---900摄氏度高温下使用氮气将三氯氧磷带入石英容器，通过三氯氧磷和硅片进行反应，得到磷原子。经过一定时间，磷原子从四周进入硅片的表面层，并且通过硅原子之间的空隙向硅片内部渗透扩散，形成了N型半导体和P型半导体的交界面，也就是PN结。在硅片的生产过程中，需要将硅片从一个工位传送至另一个工位，而现有技术中，硅片的传输效率较低。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种硅片传输设备。为了解决上述技术问题，本技术提供了一种硅片传输设备，所述的硅片传输设备包括多个平行设置的纵向硅片传输机构、至少一个横向硅片传输机构，所述的横向硅片传输机构包括横向传输组件、用于驱动所述的横向传输组件升降的升降组件，所述的横向传输组件包括两个相互平行设置的横向传输导轨，所述的纵向硅片传输机构包括相互平行设置的两个纵向传送导轨，所述的纵向传送导轨包括纵向导轨安装架，所述的纵向导轨安装架上设置有至少一组开口朝上的避让槽，所述的横向硅片传输机构的横向传输导轨能够穿过所述的避让槽。优选地，所述的横向传输导轨包括传送轮安装框架、横向传送带，所述的传送轮安装框架包括上下平行设置的上安装架和下安装架，所述的上安装架和下安装架之间形成能够供硅片通过的间隙，所述的上安装架的两端设置有上传送轮，所述的下安装架的两端设置的下传送轮，所述的横向传送带绕过所述的上传送轮和下传送轮。优选地，所述的横向传输组件还包括用于驱动所述的横向传送带移动的横向驱动电机，所述的横向传送带绕过被所述的横向驱动电机驱动的动轮。优选地，所述的上安装架上还设置有一支撑条，当所述的横向传送带受力时，能够支撑于所述的支撑条上。优选地，所述的横向传输组件还包括横向导轨安装架，所述的横向传输导轨及横向驱动电机安装在所述的横向导轨安装架上。优选地，所述的升降组件包括顶升气缸、用于安装顶升气缸的顶升气缸安装板、固定在所述的顶升气缸安装板上的滑轨、能够沿所述的滑轨上下滑动的升降件，所述的顶升气缸的活塞顶部及升降件的顶部均固定连接至所述的导轨安装架上。优选地，所述的纵向导轨安装架上设置有多个随动轮和一个驱动轮，所述的纵向传送导轨还包括纵向传送带，所述的纵向传送带绕过所述的随动轮和驱动轮，所述的驱动轮设置在所述的纵向传送带的外侧。优选地，多个所述的随动轮包括设于避让槽下侧的第一随动轮，所述的纵向传送带从所述的第一随动轮的底部绕过。本技术的硅片传输设备，通过多个纵向硅片传输机构和多个横向硅片传输机构相互配合，提高了硅片的传输效率。附图说明图1是本申请的一种硅片传输设备的结构示意图；图2是本申请的横向硅片传输机构的结构示意图；图3是本申请的横向硅片传输机构的正视结构示意图；图4是图3的局部放大示意图；图5是本申请的升降组件的结构示意图；图6是本申请的纵向硅片传送机构的正视结构示意图；图7是本申请的纵向硅片传送机构的结构示意图。其中：100、横向硅片传输机构；200、纵向硅片传输机构；300、硅片；10、升降组件；20、横向传输组件；2、横向传输导轨；21、上安装架；22、下安装架；23、支撑条；24、间隙；25、上传送轮；26、下传送轮；27、横向传送带；11、顶升气缸；12、顶升气缸安装板；13、滑轨；14、升降件；31、纵向导轨安装架；32、第一避让槽；33、第二避让槽；34、纵向传送带；35、驱动轮；36、第一随动轮；37、第二随动轮；3、纵向传送导轨。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本技术的限定。如图1所示，为本申请的硅片传输设备，所述的硅片传输设备包括多个平行设置的纵向硅片传输机构200、至少一个横向硅片传输机构100。如图2～3所示，为本申请的横向硅片传输机构100，所述的横向硅片传输机构100包括横向传输组件20、用于驱动所述的横向传输组件20升降的升降组件10。所述的横向传输组件20包括两个相互平行设置的横向传输导轨2，所述的横向传输导轨2包括传送轮安装框架、横向传送带27，所述的传送轮安装框架包括上下平行设置的上安装架21和下安装架22，所述的上安装架21和下安装架22之间形成能够供硅片通过的间隙24，所述的上安装架21的两端设置有上传送轮25，所述的下安装架22的两端设置的下传送轮26，所述的横向传送带27绕过所述的上传送轮25和下传送轮26。所述的横向传输组件20还包括用于驱动所述的横向传送带27移动的横向驱动电机，所述的横向传送带27绕过被所述的横向驱动电机驱动的动轮。所述的上安装架21上还设置有一支撑条23，当所述的横向传送带27受力时，能够支撑于所述的支撑条23上。所述的横向传输组件20还包括横向导轨安装架，所述的横向传输导轨2及横向驱动电机安装在所述的横向导轨安装架上。如图5所示，为本申请的升降组件10，所述的升降组件10包括顶升气缸11、用于安装顶升气缸11的顶升气缸11安装板、固定在所述的顶升气缸11安装板上的滑轨13、能够沿所述的滑轨13上下滑动的升降件14，所述的顶升气缸11的活塞顶部及升降件14的顶部均固定连接至所述的导轨安装架上。如图6所示，为本申请的纵向硅片传输机构200，所述的纵向硅片传输机构200包括相互平行设置的两个纵向传送导轨，所述的纵向传送导轨包括纵向导轨安装架31，所述的纵向导轨安装架31上设置有至少一组开口朝上的避让槽，所述的纵向导轨安装架31上设置有多个随动轮和一个驱动轮35，所述的纵向传送导轨还包括纵向传送带34，所述的纵向传送带34绕过所述的随动轮和驱动轮35，其中，所述的驱动轮35设置在所述的纵向传送带34的外侧。由于驱动轮35设于纵向传送带34的外侧，因此具有如下有益效果，1.更换速度快，避免了拆除大量机构而更换皮带，节约了大量时间；2.节约人力，跟换的皮带较多，需要大量的的人力拆除相关的机构，此结构只需单人即可；3.提高了生产效率，由于节约的人力和大量时间，从而提高了生产效率，提高了产量。多个所述的随动轮包括设于避让槽下侧的第一随动轮36，所述的纵向传送带34从所述的第一随动轮36的底部绕过。在一种优选实施方案中，所述的纵向导轨安装架31上设有两组避让槽，分别为第一避让槽32和第二避让槽33。如图1所示，所述的横向硅片传本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片传输设备，其特征在于，所述的硅片传输设备包括多个平行设置的纵向硅片传输机构、至少一个横向硅片传输机构，/n所述的横向硅片传输机构包括横向传输组件、用于驱动所述的横向传输组件升降的升降组件，所述的横向传输组件包括两个相互平行设置的横向传输导轨，/n所述的纵向硅片传输机构包括相互平行设置的两个纵向传送导轨，所述的纵向传送导轨包括纵向导轨安装架，所述的纵向导轨安装架上设置有至少一组开口朝上的避让槽，/n所述的横向硅片传输机构的横向传输导轨能够穿过所述的避让槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片传输设备，其特征在于，所述的硅片传输设备包括多个平行设置的纵向硅片传输机构、至少一个横向硅片传输机构，
所述的横向硅片传输机构包括横向传输组件、用于驱动所述的横向传输组件升降的升降组件，所述的横向传输组件包括两个相互平行设置的横向传输导轨，
所述的纵向硅片传输机构包括相互平行设置的两个纵向传送导轨，所述的纵向传送导轨包括纵向导轨安装架，所述的纵向导轨安装架上设置有至少一组开口朝上的避让槽，
所述的横向硅片传输机构的横向传输导轨能够穿过所述的避让槽。


2.如权利要求1所述的硅片传输设备，其特征在于，所述的横向传输导轨包括传送轮安装框架、横向传送带，所述的传送轮安装框架包括上下平行设置的上安装架和下安装架，所述的上安装架和下安装架之间形成能够供硅片通过的间隙，所述的上安装架的两端设置有上传送轮，所述的下安装架的两端设置的下传送轮，所述的横向传送带绕过所述的上传送轮和下传送轮。


3.如权利要求2所述的硅片传输设备，其特征在于，所述的横向传输组件还包括用于驱动所述的横向传送带移动的横向驱动电机，所述的横向传送带绕过被所述的横向驱动电机驱动的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴廷斌，张学强，张建伟，罗银兵，朱方松，
申请(专利权)人：罗博特科智能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32