立式抛光机的磨头移动机构制造技术

本实用新型专利技术涉及抛光设备技术领域，特别涉及一种立式抛光机的磨头移动机构包括磨头本体、基座、缓冲板、缓冲装置和气缸；所述缓冲板通过缓冲装置连接于基座，所述气缸的缸体固定于缓冲板，所述磨头本体连接于气缸的活塞杆。缓冲板通过缓冲装置连接于基座，气缸的缸体固定于缓冲板，上述缓冲装置可以是气弹簧和油压缓冲器，当磨头由气缸带动下移动而接触被抛光工件时，能够起到缓冲作用，使公件防冲击，速度可控，使抛光工件表面平整光亮。使抛光工件表面平整光亮。使抛光工件表面平整光亮。

【技术实现步骤摘要】
立式抛光机的磨头移动机构


[0001]本技术涉及抛光设备
，特别涉及一种立式抛光机的磨头移动机构。

技术介绍

[0002]随着社会和经济的飞速发展，企业之间的竞争也越来越激烈，各种生产设备越来越朝向使用方便、节省能源、减员增效、节约空间、安全高效、一机多能等特点的方向发展。抛光机作为企业经常使用到的设备也不例外。
[0003]抛光机具有品种多样、功能和用途各异的一种设备，通常的抛光机，主要由两大部分组成，一个是磨头部分，另外一个是载样盘组成，其中磨头移动到被抛光物动力结构设计多样，有电机作为驱动，简单也有手动，也有由气缸作为驱动，传统气缸驱动，由于气源不稳定，磨头移动容易产生不平稳现象，速度不易控制，容易对被抛光物产生冲击。即使加了调速阀，效果也不明显。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是：提供一种立式抛光机的磨头移动机构，磨头移动平稳，速度可控。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：
[0006]一种立式抛光机的磨头移动机构，包括磨头本体、基座、缓冲板、缓冲装置和气缸；
[0007]所述缓冲板通过缓冲装置连接于基座，所述气缸的缸体固定于缓冲板，所述磨头本体连接于气缸的活塞杆。
[0008]其中，所述缓冲装置包括油压缓冲器，所述油压缓冲器的轴向与气缸的轴向平行。
[0009]其中，所述缓冲装置包括气弹簧，所述气弹簧的轴向与气缸的轴向平行。
[0010]其中，所述气缸的轴向为竖直方向。
[0011]其中，所述气缸的轴向为竖直方向，所述缓冲装置包括油压缓冲器和气弹簧，所述气弹簧的轴向为竖直方向，所述油压缓冲器的轴向为竖直方向，所述气缸位于油压缓冲器和气弹簧之间。
[0012]本技术的有益效果在于：立式抛光机的磨头移动机构中，缓冲板通过缓冲装置连接于基座，气缸的缸体固定于缓冲板，上述缓冲装置可以是气弹簧和油压缓冲器，当磨头由气缸带动下移动而接触被抛光工件时，能够起到缓冲作用，使公件防冲击，速度可控，使抛光工件表面平整光亮。
附图说明
[0013]图1为本技术具体实施方式的一种立式抛光机的磨头移动机构的结构示意图；
[0014]标号说明：
[0015]1、基座；2、气缸；3、磨头；4、气弹簧；5、油压缓冲器。
具体实施方式
[0016]为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
[0017]请参照图1，本技术涉及一种立式抛光机的磨头移动机构，包括磨头3本体、基座1、缓冲板、缓冲装置和气缸2；
[0018]所述缓冲板通过缓冲装置连接于基座1，所述气缸2的缸体固定于缓冲板，所述磨头3本体连接于气缸2的活塞杆。
[0019]上述立式抛光机的磨头移动机构中，缓冲板通过缓冲装置连接于基座1，气缸2的缸体固定于缓冲板，上述缓冲装置可以是气弹簧4和油压缓冲器5，当磨头3由气缸2带动下移动而接触被抛光工件时，能够起到缓冲作用，使公件防冲击，速度可控，使抛光工件表面平整光亮。
[0020]进一步的，上述立式抛光机的磨头移动机构中，所述缓冲装置包括油压缓冲器5，所述油压缓冲器5的轴向与气缸2的轴向平行。
[0021]进一步的，上述立式抛光机的磨头移动机构中，所述缓冲装置包括气弹簧4，所述气弹簧4的轴向与气缸2的轴向平行。
[0022]气弹簧4速度相对缓慢，动态力变化不大，容易控制，气弹簧4不随气缸2行程变化而造成弹簧力变化影响气缸2压力，只起着缓冲、制动等作用。
[0023]进一步的，上述立式抛光机的磨头移动机构中，所述气缸2的轴向为竖直方向。
[0024]进一步的，上述立式抛光机的磨头移动机构中，所述气缸2的轴向为竖直方向，所述缓冲装置包括油压缓冲器5和气弹簧4，所述气弹簧4的轴向为竖直方向，所述油压缓冲器5的轴向为竖直方向，所述气缸2位于油压缓冲器5和气弹簧4之间。
[0025]实施例1
[0026]一种立式抛光机的磨头移动机构，包括磨头3本体、基座1、缓冲板、缓冲装置和气缸2；所述缓冲板通过缓冲装置连接于基座1，所述气缸2的缸体固定于缓冲板，所述磨头3本体连接于气缸2的活塞杆。所述气缸2的轴向为竖直方向，所述缓冲装置包括油压缓冲器5和气弹簧4，所述气弹簧4的轴向为竖直方向，所述油压缓冲器5的轴向为竖直方向，所述气缸2位于油压缓冲器5和气弹簧4之间。
[0027]综上所述，本技术提供的立式抛光机的磨头移动机构中，缓冲板通过缓冲装置连接于基座，气缸的缸体固定于缓冲板，上述缓冲装置可以是气弹簧和油压缓冲器，当磨头由气缸带动下移动而接触被抛光工件时，能够起到缓冲作用，使公件防冲击，速度可控，使抛光工件表面平整光亮。
[0028]以上所述仅为本技术的实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的
，均同理包括在本技术的专利保护范围内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.立式抛光机的磨头移动机构，其特征在于，包括磨头本体、基座、缓冲板、缓冲装置和气缸；所述缓冲板通过缓冲装置连接于基座，所述气缸的缸体固定于缓冲板，所述磨头本体连接于气缸的活塞杆。2.根据权利要求1所述的立式抛光机的磨头移动机构，其特征在于，所述缓冲装置包括油压缓冲器，所述油压缓冲器的轴向与气缸的轴向平行。3.根据权利要求1所述的立式抛光机的磨头移动机构，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：林承鑫，张炳森，
申请(专利权)人：福建东亚机械有限公司，
类型：新型
国别省市：