一种全息防伪复合膜制造技术

技术编号:28750574 阅读:21 留言:0更新日期:2021-06-09 10:14
本发明专利技术公开了一种全息防伪复合膜,包括从上到下依次设置的基膜层、UV成像层、隔离层、第一介质层、热压成像层、第二介质层和背胶层,其中所述UV成像层采用凹版滚涂印刷的方式,光固化到所述基膜层上。本发明专利技术在热压成像层的上下层形成不同的图案,然后分别通过第一介质层和第二介质层增亮后,在自然光的照射下会形成互相干涉的特殊摩尔纹,具有唯一性和不可复制性,难以仿冒。同时隔离层有利于UV成像信息层和下层的分离,使得UV成像信息层被保留在基膜层上从而达到反复使用的目的。层上从而达到反复使用的目的。层上从而达到反复使用的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种全息防伪复合膜


[0001]本专利技术属于防伪材料领域,具体涉及一种全息防伪复合膜

技术介绍

[0002]目前市场上假冒伪劣产品泛滥,不仅损害了企业的利益也扰乱了正常的市场经济秩序。为了便于区分正规商品和假冒伪劣产品,厂家需要在产品上粘贴防伪商标。防伪商标是指能够粘贴、印刷、转移在在标的物表面,或标的物包装上,或标的物附属物上,具有防伪作用的标识。防伪商标的防伪特征以及识别的方法是防伪商标的灵魂。其中光学防伪技术是一种主要利用物理光学对产品进行防伪的手段。其基本原理是利用光在各种承载介质中传播时,所产生的透射、折射、衍射等各种光学特性会使形成的防伪产品在观察时获得相应的光学效果,并且该防伪方式能够具有独特性与唯一性,不易仿造。
[0003]中国专利CN101930691B公开了一种全息复合膜,包括依次层叠设置的基材、第一信息层和第二信息层;所述第一信息层上,第一信息层与第二信息层接触的面为信息面;所述第二信息层上,与信息面相对的面为外表面;所述信息面具有信息面图案,外表面具有外表面图案,外表面图案与信息面图案不同;所述第一信息层为油溶性涂层,第二信息层为水溶性涂层。并且该专利还公开了一种防伪薄膜,包括依次层叠的离型纸层、压敏胶层和上述全息复合膜,压敏胶层与全息复合膜的基材接触。然而该全息复合膜的无法反复使用。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是针对现有技术存在的问题,提供一种可反复使用的全息防伪复合膜。
[0005]为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:
[0006]一种全息防伪复合膜,包括从上到下依次设置的基膜层、UV成像层、隔离层、第一介质层、热压成像层、第二介质层和背胶层,其中所述UV成像层采用凹版滚涂印刷的方式,光固化到所述基膜层上。其中UV成像层采用UV油墨,凹版滚涂印刷后利用紫外线照射固化,从而在基膜层上形成了特殊的凹凸微结构,即为UV成像层,UV成像层的凹凸微结构可在热压成像层的上层形成特殊的图案,然后在热压成像层的下层利用模压形成另一种不同的图案,两层不同的图案分别通过第一介质层和第二介质层进行增亮后,在自然光的照射下会形成互相干涉的特殊摩尔纹,视觉效果好,具有唯一性和不可复制性,难以仿冒。背胶层可使成像后的全息防伪复合膜直接粘附于目标物体上,而隔离层可在成像后断裂,从而将UV成像层与下层分离,因此剥离下的基膜层上仍保留有特殊凹凸微结构的UV成像层,可再次喷涂隔离层、第一介质层、热压成像层,利用模压在热压成像层的下层形成另一种图案,然后喷涂第二介质层和背胶层,即可再次得到所述全息防伪复合膜。该方案实现了UV成像层的重复使用,使用方便快速。
[0007]优选地,所述第一介质层和第二介质层为100~500nm的二氧化硅膜。二氧化硅膜作为增透膜,可以增加热压成像层上下两层图案的亮度,使两层不同的图案形成互相干涉
的特殊摩尔纹。同时隔离层断裂后,第一介质在最外层可对成像图案起到隔离防护的作用,避免水等物质影响成像图案。
[0008]优选地,所述隔离层的成分为纳米蜡或树脂,且所述隔离层的厚度为10~50nm。纳米蜡或树脂脆性大、易断裂,因此隔离层断裂后可将基膜层、UV成像信息层与下层分离,从而可将基膜层和UV成像信息层进行回收并反复使用。其中隔离层太薄会导致加工难度大;而隔离层太厚会难以断裂,导致PET基层、UV成像信息层与下层的铝层和背胶层分离不完全,因此综合考虑加工的简易性和剥离效果,将隔离层的厚度选择为10~50nm。
[0009]优选地,所述隔离层的厚度为30nm。
[0010]优选地,所述热压成像层为溶剂型树脂,且厚度为30~50μm。热压成像层的厚度过厚会影响加工导致难以成像,太薄会导致双层全息图案的干涉成像效果不好。
[0011]优选地,所述溶剂型树脂为丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、聚氨树脂中的一种或多种。
[0012]优选地,所述背胶层由水性环保热转印胶制成。背胶层可使带有全息防伪图案的复合膜直接粘附于目标物体上。
[0013]优选地,所述基膜层为聚合物薄膜,且所述基膜层的厚度为35~110μm。基膜层太薄,会导致在反复使用过程中折损;基膜层太厚会影响其光学性能,导致透明度差。
[0014]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:
[0015](1)在热压成像层的上下层形成不同的图案,然后分别通过第一介质层和第二介质层增亮后,在自然光的照射下会形成互相干涉的特殊摩尔纹,视觉效果好,具有唯一性和不可复制性,难以仿冒。
[0016](2)在UV成像信息层和第一介质层之间设置有隔离层,便于UV成像信息层和下层的分离,使得UV成像信息层被保留在基膜层上从而达到反复使用的目的。
附图说明
[0017]图1为本专利技术实施例1的结构示意图;
[0018]图中:1、基膜层;2、UV成像信息层;3、隔离层;4、第一介质层;5、热压成像层;6、第二介质层;7、背胶层。
具体实施方式
[0019]下面将结合本专利技术中的实施例,对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动条件下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0020]实施例1
[0021]本实施例提供了一种全息防伪复合膜,如附体1所示,其中基膜层1为PET且厚度为60μm,然后采用凹版滚涂印刷的方式,利用UV油墨在基膜层1上形成凹凸微结构,然后用紫外光照射固化,得到了UV成像层2,然后将纳米蜡用甲苯溶解后喷涂至UV成像信息层2,得到了30nm的隔离层3。采用PVD镀膜的方式在隔离层3下方镀上二氧化硅膜并使其厚度为300nm,即为第一介质层4。然后在第一介质层下方涂布40μm的聚氨酯树脂形成热压成像层5。其中热压成像层5的上方由于UV成像层2的凹凸微结构而在固化时形成一层图案,然后利
用模压在热压成像层5的下方形成另一种不同的图案。然后在热压成像层5采用PVD镀膜的方式镀上300nm的二氧化硅膜,形成第二介质层6,最后在第二介质层6下方涂布水性环保热转印胶的背胶层7。
[0022]其中热压成像层5的上下层分别形成了不同的图案,然后通过第一介质层4和第二介质层6增亮后,在自然光的照射下会形成互相干涉的特殊摩尔纹,即形成了全息防伪图案,该图案的视觉效果好,具有唯一性和不可复制性,难以仿冒。通过热转印的方法,该全息防伪图案在背胶层7的作用下直接粘附于目标物体上,此时隔离层断裂,使得UV成像层与下层分离,因此剥离下的基膜层1上仍保留有特殊凹凸微结构的UV成像层2,可再次喷涂隔离层3、第一介质层4、热压成像层5,利用模压在热压成像层5的下层形成另一种图案,然后喷涂第二介质层6和背胶层7,即可再次得到所述全息防伪复合膜。该方案实现了UV成像层的重复使用,使用方便快速。
[0023]实施例2
[0024]本实施例与实施例1的不同之处在于:其中基膜层1为聚丙烯,且厚度为3本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全息防伪复合膜,其特征在于,包括从上到下依次设置的基膜层、UV成像层、隔离层、第一介质层、热压成像层、第二介质层和背胶层,其中所述UV成像层采用凹版滚涂印刷的方式,光固化到所述基膜层上。2.根据权利要求1所述的一种全息防伪复合膜,其特征在于,所述第一介质层和第二介质层为厚度100~500nm的二氧化硅膜。3.根据权利要求1所述的一种全息防伪复合膜,其特征在于,所述隔离层的成分为纳米蜡或树脂,且所述隔离层的厚度为10~50nm。4.根据权利要求3所述的一种全息防伪复合膜,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:贾英策
申请(专利权)人:湖北银琅兴科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:

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