用于运行家用烹饪器具的方法和家用烹饪器具技术

本发明专利技术涉及一种方法（S1

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于运行家用烹饪器具的方法和家用烹饪器具


[0001]本专利技术涉及一种用于运行家用烹饪器具的方法，所述家用烹饪器具具有烹饪室、至少一个用于用多种参数配置对处于烹饪室中的烹饪物进行处理的烹饪物处理装置以及至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物的表面特性的分布的传感器，其中通过所述至少两种参数配置能够对所述烹饪物进行局部不同的处理，其中在所述方法中在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间（Δt）里用第q个参数配置S
q
（其中q≤p）来运行烹饪物处理装置，以用于处理处于烹饪室中的烹饪物并且紧接在所述持续时间Δt结束之后借助于所述至少一个传感器来确定所述烹饪物的表面特性的第p个分布<V
p
>。本专利技术也涉及一种用于执行所述方法的家用烹饪器具。本专利技术尤其能够有利地运用到微波器具上。

技术介绍

[0002]US 2018/0098381 A1和US 2017/0290095 A1公开了一种用计算机实现的方法，该方法用于将电子炉的烹饪室中的物品朝目标状态进行加热。所述方法包括在所述炉处于特定的配置中时用一组相对于烹饪室的能量应用方案对物品进行加热这个步骤。所述组的能量应用方案以及所述配置定义所述室中的相应组的可变的能量分布。所述方法也包括对传感器数据进行采集的步骤，所述传感器数据定义所述烹饪物的、对所述组的能量应用方案所作出的、相应组的应答。所述方法也包括生成用于对所述室中的物品进行加热的计划的步骤。所述计划由炉的控制系统来产生并且使用所述传感器数据。
[0003]WO 2012/109634 A1公开了一种用于用HF能量对物体进行处理的装置。所述装置能够包括显示器，以用于向使用者显示有待加工的物体的图像，其中所述图像包括所述物品的至少一个第一部分和第二部分。所述装置也能够包括输入单元和至少一个处理器，所述处理器被配置用于：接收基于在所述输入单元上所提供的输入的信息并且用于产生处理信息，所述处理信息用于基于所接收的信息在对物体进行加工时使用，以用于在所述物体的第一区段中获得第一处理结果并且在所述物体的第二区段中获得第二处理结果。

技术实现思路

[0004]本专利技术的任务是，至少部分地克服现有技术的缺点并且尤其提供一种能够特别容易地实现的和有效的可行方案，以用于将烹饪物自动地处理到所期望的表面特性。
[0005]该任务按照独立权利要求的特征来解决。有利的实施方式是从属权利要求、说明书和附图的主题。
[0006]该任务通过一种用于运行家用烹饪器具的方法来解决，所述家用烹饪器具具有：
‑
烹饪室；
‑
至少一个用于用多种参数配置对处于烹饪室中的烹饪物进行处理的烹饪物处理装置，其中通过至少两种参数配置能够对所述烹饪物进行局部不同的处理；以及
‑
至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物的表面特性的分布<V>的传感器；其中在所述方法中
a）在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间Δt里用第q个参数配置S
q
（其中q≤p）来运行至少一个烹饪物处理装置，以用于处理处于烹饪室中的烹饪物；b）紧接在所述持续时间Δt结束之后借助于所述至少一个传感器来确定或者测量所述烹饪物的表面特性的第p个分布<V
p
>；c）从第p个分布<V
p
>与在步骤a）之前所记录的第（p
‑
1）个分布<V
p
‑1>的比较中计算变化模式<E(S
q
)>并且加以存储；d）为所有至此所存储的变化模式｛<E(S
q
)>｝计算相应的估计值B
q
，所述估计值将第p个分布<V
q
>与所属的变化模式<E(S
q
)>联结成预测模式<V
’
p
>并且表示用于所述预测模式<V
’
p
>与用于烹饪物的目标分布<Z>的偏差的尺度；e）调节以下参数配置S
q
，所述参数配置的估计值B
q
满足至少一个预先给定的标准；f）为第p个分布<V
p
>计算质量值Q
p
，该质量值说明所述分布<V
p
>相对于目标分布<Z>的偏差；并且g）如果对所述质量值Q
p
来说产生与第（p
‑
1）个质量值Q
p
‑1相比相对于目标分布<Z>的足够更小的偏差，则在保持当前的参数配置S
q
的情况下迭代地分支到步骤a）；并且h）如果对所述质量值Q
p
来说产生与Q
p
相比相对于目标分布<Z>的不是足够更小的偏差，则调节新的参数配置S
q+1
并且而后迭代地分支到步骤a）。
[0007]这种方法带来的优点是，它能够有效地并且在短的时间里如此对烹饪物进行处理，使得其获得与目标分布相对应的所期望的表面特性。
[0008]尤其所述方法能够在使用微波辐射或者HF辐射时借助于传感器的数据对烹饪物的加热分布进行有针对性的控制。因此，能够用小的开销实现对于烹饪器具的智能的控制，所述智能的控制能够动态地并且仅仅与当前的时刻相关地获得最佳可能的烹饪结果。尤其所属的计算开销是小的，使得所述方法的迭代步骤能够特别快地执行。也不需要用于存储大的数据量的存储器。由此，也能够在常规的烹饪器具中调节有针对性的温度模式和分布并且更确切地说这仅仅借助于简单的传感器来进行。
[0009]所述表面特性比如能够是在烹饪物的表面上测量的温度、湿度或者褐变程度，但是不限于此。所述分布<V
p
>下面也被称为“测量值分布”并且表示烹饪物的在迭代p的期间所测量的实际分布。它而后能够按所测量的表面特性的类型被称为温度分布、褐变程度分布等等。所述目标分布<Z>能够类似地被称呼并且尤其无量纲。
[0010]参数配置S
q
通常相应于特定的值空间，该值空间通过相应的调节或者运行参数来撑开。换言之，参数配置S
q
相应于家用烹饪器具的、特定的第q组的调节值或运行值。参数配置S
q
包括家用烹饪器具的至少一种调节或运行参数的至少两个可能的调节值。在此，每种运行参数能够具有至少两个值或状态。在最简单的情况中，这两个状态能够是“开”和“关”。至本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.用于运行家用烹饪器具（1）的方法（S1
‑
S11），所述家用烹饪器具具有：
‑ꢀ
烹饪室（2），
‑ꢀ
至少一个用于用多种参数配置（S
q
）对处于所述烹饪室（2）中的烹饪物（G）进行处理的烹饪物处理装置（6），其中通过至少两种参数配置（S
q
）能够对所述烹饪物（G）进行局部不同的处理，以及
‑ꢀ
至少一个对准所述烹饪室（2）里面的传感器（9），用于确定所述烹饪物（G）的表面特性的测量值分布<V>，其中在所述方法中a）在第p个迭代步骤（p）中（其中p≥1）在预先给定的持续时间（Δt）里用第q个参数配置（S
q
）（其中q≤p）来运行至少一个烹饪物处理装置（6），以用于对处于所述烹饪室（2）中的烹饪物（G）进行处理；b）紧接在所述持续时间（Δt）结束之后借助于至少一个传感器（9）来确定所述烹饪物（G）的表面特性的第p个测量值分布<V
p
>，c）从所述第p个测量值分布<V
p
>与在步骤a）之前所记录的第（p
‑
1）个测量值分布<V
p
‑1>的比较中计算变化模式<E(S
q
)>并且加以存储，d）为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛<E(S
q
)>｝计算相应的估计值B
q
，所述估计值表示目标分布<Z>相对于测量值分布<V
p
>的偏差与目标分布<Z>相对于预测模式<V
’
p
>的偏差之间的差别，其中所述预测模式<V
’
p
>表示所述测量值分布<V
p
>与所属的变化模式<E(S
q
)>的叠加，e）调节以下参数配置（S
q
），所述参数配置的估计值B
q
满足至少一个预先给定的标准，f）为第p个测量值分布<V
p
>计算质量值Q
p
，该质量值说明所述分布<V
p
>相对于目标
‑
测量值分布<Z>的偏差；并且g）如果对所述质量值Q
p
来说产生与第（p
‑
1）个质量值Q
p
‑1相比相对于所述目标
‑
测量值分布<Z>的足够更小的偏差，则在保持当前的参数配置（S
q
）的情况下迭代地分支到步骤a）；并且h）如果对所述质量值Q
p
来说产生与质量值Q
p
‑1相比相对于所述目标
‑
测量值分布<Z>的不是足够更小的偏差，则调节新的参数配置S
q+1
并且而后迭代地分支到步骤a）。2.根据权利要求1所述的方法（S1
‑
S11），其中所述测量值分布<V
p
>和所述目标
‑
测量值分布<Z>是温度分布。3.根据权利要求2所述的方法，
‑ꢀ
所述至少一个烹饪物处理装置具有用于将微波引入到烹饪室（G）中的微波机构（6），其中通过所述微波机构（6）的至少两种参数配置（S
q
）能够在所述烹饪室（2）产生微波的不同的场分布，
‑ꢀ
所述表面特性是所述烹饪物（G）的表面温度，并且
‑ꢀ
所述至少一个传感器（9）包括至少一个对准烹饪室（2）里面的红外传感器（9），用于确定所述烹饪物（G）上的温度分布<V>，其中在所述方法中a）在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间（Δt）里用第q个参数配置S
q
（其中q≤p）来运行所述微波机构（6），以用于用微波来处理处于所述烹饪室（2）中的烹饪物
（G），b）紧接在所述持续时间（Δt）结束之后借助于所述至少一个红外传感器（9）来确定所述烹饪物（G）的第p个温度分布<V
p
>；c）从所述第p个温度分布<V
p
>与在步骤a）之前所记录的第（p
‑
1）个温度分布<V
p
‑1>的比较中计算变化模式<E(S
q
)>并且加以存储；d）为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛<E(S
q
)>｝计算相应的估计值B
q
，所述估计值表示目标
‑
温度分布<Z&...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：BSH家用电器有限公司，
类型：发明
国别省市：