光敏树脂组合物和由其制备的绝缘膜制造技术

技术编号:28725035 阅读:50 留言:0更新日期:2021-06-06 05:35
本发明专利技术涉及一种光敏树脂组合物和一种由其制备的绝缘膜。因为所述光敏树脂组合物包含封端的基于异氰酸酯的化合物,因此它可以形成透明的绝缘膜同时它维持了优异的膜保留率、硬度和分辨率。度和分辨率。

【技术实现步骤摘要】
光敏树脂组合物和由其制备的绝缘膜


[0001]本专利技术涉及一种能够形成绝缘膜的光敏树脂组合物,所述绝缘膜具有优异的膜保留率、硬度、分辨率和透射率,以及一种由其制备的绝缘膜。

技术介绍

[0002]近年来,具有触屏面板(TSP)的显示器在显示器工业中活跃发展。TSP适于微型化和大尺寸的装置,但是它必须具有如高耐久性、对触摸的精确响应、以及优异的光学特性的此类物理特性。
[0003]通常,制造作为显示器上部构件的发光构件(LCD或OLED),接着制造TSP。在此种情况下,在TSP中的金属电极之间要求绝缘膜。为了最小化对已经制造的发光构件的影响,施加于TSP的绝缘膜必须在低于常规绝缘膜的温度下进行热固化。因此,要求低的固化温度。
[0004]常规地,用于能够在120℃或更低的温度下固化的有机保护膜的组合物是已知的,其使用丙烯酸共聚物,所述丙烯酸共聚物是通过使基于甲基丙烯酸酯的化合物与烯属化合物聚合获得的(参见韩国公开的专利公开号2008-0102838)。然而,组合物中的羧基(酸基)的比例较低,因为基于甲基丙烯酸酯的化合物中的官能团(光可聚合的官能团)被更多的引入到烯属化合物中。因此,组合物具有的缺点是它不能充分满足光敏性,因此它不适合施加于TSP的绝缘膜。
[0005]此外,由于要求绝缘膜具有高透射率和对TSP的金属的粘附性,它通常包含粘附促进剂或粘附助剂。
[0006]此种粘附促进剂通常含有有机基团和无机基团,其中粘附促进剂的有机基团与光敏树脂组合物发生化学反应,使得光敏树脂组合物可以化学键合至下面的膜。
[0007]然而,广泛用作粘附促进剂的基于异氰酸酯的化合物优选施加于需要低温固化的光敏树脂组合物,而它们具有的缺点是它通过与其他组分的反应降低了透明度。因此,它们被有限地应用于黑色组合物、光屏蔽膜、以及光屏蔽层(参见韩国公开的专利公开号2015-0008759)。
具体实施方式
[0008]技术问题
[0009]因此,本专利技术的目的在于提供一种光敏树脂组合物,其能够通过使用封端的异氰酸酯化合物在低温下固化并且同时能够增强与下面的膜的粘附性并形成透明的绝缘膜;以及一种由其制备的绝缘膜。
[0010]问题的解决方案
[0011]为了实现以上目的,本专利技术提供了一种光敏树脂组合物,其包含(A)共聚物;(B)可光聚合的化合物;(C)光聚合引发剂;(D)封端的基于异氰酸酯的化合物;以及(E)溶剂,其中封端剂在100℃至150℃下与封端的基于异氰酸酯的化合物(D)解离。
[0012]为了实现另一个目的,本专利技术提供了一种由所述光敏树脂组合物制备的绝缘膜。
[0013]本专利技术的有利效果
[0014]因为本专利技术的光敏树脂组合物包含封端的基于异氰酸酯的化合物,因此它可以形成透明的绝缘膜同时它维持了优异的膜保留率、硬度和分辨率。
[0015]进行本专利技术的最佳模式
[0016]本专利技术不受限于下面描述的那些。相反,只要不改变本专利技术的主旨,可以将其修改为各种形式。
[0017]贯穿本说明书,除非另外明确说明,否则当零件被称为“包括”一种要素时,应当理解,可以包括其他要素,而不是排除其他要素。另外,除非另外明确说明,否则本文所用的与组分的量、反应条件等有关的所有数字和表述应理解为由术语“约”修饰。
[0018]本专利技术提供了一种光敏树脂组合物,其包含(A)共聚物;(B)可光聚合的化合物;(C)光聚合引发剂;(D)封端的基于异氰酸酯的化合物;以及(E)溶剂。在此,封端剂在100℃至150℃下与所述封端的基于异氰酸酯的化合物(D)解离。
[0019]所述组合物可任选地进一步包含(F)表面活性剂;和/或(G)硅烷偶联剂。
[0020]如本文中使用的,术语“(甲基)丙烯酰基”是指“丙烯酰基”和/或“甲基丙烯酰基”,并且术语“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和/或“甲基丙烯酸酯”。
[0021]通过凝胶渗透色谱法(GPC,洗脱液:四氢呋喃)(参照聚苯乙烯标准品)测量如下所述的各组分的重均分子量(g/mol或Da)。
[0022](A)共聚物
[0023]根据本专利技术的光敏树脂组合物可包含如下所述的共聚物(A)作为粘合剂。
[0024]共聚物可包含(a1)衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合的结构单元;(a2)衍生自含有环氧基的烯键式不饱和化合物的结构单元;以及(a3)衍生自不同于(a1)和(a2)的烯键式不饱和化合物的结构单元。
[0025](a1)衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合的结构单元
[0026]本专利技术中的结构单元(a1)可以衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合。
[0027]烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合是在分子中含有至少一个羧基的可聚合不饱和化合物。它可以是选自以下项中的至少一种:不饱和单羧酸,如(甲基)丙烯酸、巴豆酸、α-氯代丙烯酸和肉桂酸;不饱和二羧酸及其酸酐,如马来酸、马来酸酐、富马酸、衣康酸、衣康酸酐、柠康酸、柠康酸酐和中康酸;具有三价或更高价的不饱和多羧酸及其酸酐;以及二价或更高价的多羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯,如单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]琥珀酸酯、单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]邻苯二甲酸酯等。但它并不限于此。在它们之中特别是从可显影性的观点来看,它可以优选是(甲基)丙烯酸。
[0028]衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合的结构单元(a1)的含量可以是范围为5重量%至50重量%、10重量%至40重量%、或15重量%至35重量%,基于构成共聚物(A)的结构单元的总摩尔数。在以上范围内,有可能实现膜的图案形成,同时维持有利的可显影性。
[0029](a2)衍生自含有环氧基的烯键式不饱和化合物的结构单元
[0030]本专利技术中的结构单元(a2)可以衍生自含有环氧基的烯键式不饱和化合物。
[0031]具体地,结构单元(a2)可以包含(a2-1)由下式2表示的衍生自含有脂环族环氧基
的不饱和单体的结构单元;以及(a2-2)由下式3表示的衍生自含有非环状环氧基的不饱和单体的结构单元。
[0032][0033]在上式中,R4和R6各自独立地是氢或C
1-4
烷基,并且R3和R5各自独立地是C
1-4
亚烷基。更具体地,R4和R6可以各自独立地是氢或甲基,并且R3和R5可以是C
1-4
亚烷基。
[0034]含有脂环族环氧基的不饱和单体(a2-1)可以是丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯或甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯。含有非环状环氧基的不饱和单体(a2-2)可以是丙烯酸缩水甘油酯或甲基丙烯酸缩水甘油酯。
[0035]结构单元(a2-1)和(a2-2)的总含量可以是范围为10摩尔%至50摩尔%、10摩尔%至45摩尔、10摩尔%至40摩尔%、10摩尔%至30摩尔%、10摩尔%至20摩尔%本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光敏树脂组合物,其包含:(A)共聚物;(B)可光聚合的化合物;(C)光聚合引发剂;(D)封端的基于异氰酸酯的化合物;以及(E)溶剂,其中封端剂在100℃至150℃下与所述封端的基于异氰酸酯的化合物解离。2.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述封端的基于异氰酸酯的化合物(D)是由下式1表示的化合物:[式1]在所述上式中,R1是氢、C
1-20
烷基、C
1-20
烷氧基、或Si(R2)3,R2各自独立地是C
1-20
烷基或C
1-20
烷氧基,并且A是含有一个或多个杂原子的3至10元杂芳基,所述杂原子相同或不同且选自由N、O和S组成的组,其中所述杂芳基可以是未取代的或被C
1-10
烷基或C
1-10
烷氧基取代。3.如权利要求2所述的光敏树脂组合物,其中,R1是C
1-20
烷基或Si(R2)3,R2各自独立地是C
1-20
烷氧基,并且A是含有一个或多个杂原子的4至6元杂芳基,所述杂原子相同或不同且选自由N、O和S组成的组,其中所述杂芳基可以是未取代的或被C
1-10
烷基或C
1-10
烷氧基取代。4.如权利要求2所述的光敏树脂组合物,其中,R1是Si(EtO)3、Si(MtO)3、或甲基,并且A是5.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述共聚物(A)包含(a1)衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合的结构单元;(a2)衍生自含有环氧基的烯键式...

【专利技术属性】
技术研发人员:李秀敏权真宋镐石
申请(专利权)人:罗门哈斯电子材料韩国有限公司
类型:发明
国别省市:

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