【技术实现步骤摘要】
半导体存储装置
[0001][相关申请案][0002]本申请案享有以日本专利申请案2019-218676号(申请日:2019年12月3日)为基础申请案的优先权。本申请案通过参照该基础申请案而包含基础申请案的全部内容。
[0003]实施方式涉及一种半导体存储装置。
技术介绍
[0004]作为半导体存储装置,已知一种NAND(Not AND,与非)型闪存。
技术实现思路
[0005]实施方式提供一种高品质的半导体存储装置。
[0006]实施方式的半导体存储装置包括第1及第2存储器芯片、第1~第3接合线及密封树脂。第1存储器芯片具备第1核心电路、第1~第3区域及第1~第3垫。第1核心电路中设置着多个存储器,且包含沿第1方向的第1边、以及沿与第1方向交叉的第2方向的第2边。第1区域与第1边相邻。第2区域与第2边相邻,长度方向沿着第2方向。第3区域是第1区域的第1方向上的假想延伸区域与第2区域的第2方向上的假想延伸区域交叉的区域。第1~第3垫分别设置于第1~第3区域。第2存储器芯片具备第2核心电路、第4~第6区域及第4~第6垫。第2核心电路中设置着多个存储器,且包含沿第1方向的第3边、及沿第2方向的第4边。第4区域与第3边相邻,长度方向沿着第1方向。第5区域与第4边相邻,长度方向沿着第2方向。第6区域是第4区域的第1方向上的假想延伸区域与第5区域的第2方向上的假想延伸区域交叉的区域。第4~第6垫分别设置于第4~第6区域。第1~第3接合线分别将第1垫与第3垫、第4垫与第6垫、第2垫与第5垫连接。第 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体存储装置,其特征在于包括:第1存储器芯片、第2存储器芯片、第1接合线、第2接合线、第3接合线、以及密封树脂,所述第1存储器芯片具备:第1核心电路,设置着多个存储器,且包含沿第1方向的第1边、及沿与所述第1方向交叉的第2方向的第2边;第1区域,与所述第1核心电路的所述第1边相邻,长度方向沿着所述第1方向;第2区域,与所述第1核心电路的所述第2边相邻,长度方向沿着所述第2方向;第3区域,是所述第1区域的所述第1方向上的假想延伸区域与所述第2区域的所述第2方向上的假想延伸区域交叉的区域;第1垫,设置于所述第1区域;第2垫,设置于所述第2区域;以及第3垫,设置于所述第3区域;所述第2存储器芯片具备:第2核心电路,设置着多个存储器,且包含沿所述第1方向的第3边、及沿所述第2方向的第4边;第4区域,与所述第2核心电路的所述第3边相邻,长度方向沿着所述第1方向;第5区域,与所述第2核心电路的所述第4边相邻,长度方向沿着所述第2方向;第6区域,是所述第4区域的所述第1方向上的假想延伸区域与所述第5区域的所述第2方向上的假想延伸区域交叉的区域;第4垫,设置于所述第4区域;第5垫,设置于所述第5区域;以及第6垫,设置于所述第6区域;且所述第1接合线将所述第1垫与所述第3垫连接,所述第2接合线将所述第4垫与所述第6垫连接,所述第3接合线将所述第2垫与所述第5垫连接,所述第1、第2及第3区域与所述密封树脂相接,所述第2存储器芯片是积层于所述第1存储器芯片之上。2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:从与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向观察时,所述第2存储器芯片是以至少与所述第1存储器芯片的所述核心电路重叠的方式积层于所述第1存储器芯片之上。3.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中所述第2存储器芯片是以从与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向观察时所述第1垫、所述第2垫及所述第3垫露出的方式积层于所述第1存储器芯片之上。4.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:所述第2存储器芯片介隔间隔件而积层于所述第1存储器芯片之上。5.根据权利要求4所述的半导体存储装置,其特征在于:所述间隔件形成所述第1接合线通过的区域。6.根据权利要求4所述的半导体存储装置,其特征在于:所述间隔件与所述第1接合线相接。
7.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于:所述第1存储器芯片在所述第1区域中还具备第7垫,所述第1接合线包含:第1部分,将所述第1垫与所述第7垫连接;以及第2部分,将所述第7垫与所述第3垫连接。8.根据权利要求7所述的半导体存储装置,其特征在于:所述第7垫是通过所述第1接合线而与所述第1存储器芯片的内部配线电连接。9.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于还包含:第1引线框架,一端插入至所述密封树脂中;第4接合线,与所述密封树脂相接,并且将所述第1引线框架的所述一端与所述第1垫连接;第2引线框架,一端插入至所述密封树脂中;及第5接合线,与所述密封树脂相接,并且将所述第2引线框架的所述一端与所述第2垫连接;从与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向观察时,所述第1引线框架的另一端从所述密封树脂的所述第1方向上的一侧延伸,所述第2引线框架的另一端从所述密封树脂的所述第1方向上的另一侧延伸。10.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于包括:第3存储器芯片、第4存储器芯片、第4接合线、第5接合线、及第6...
【专利技术属性】
技术研发人员:吉原正浩,渡邉寿和,宫田信晴,野沢安满,河野智仁,福田佐知江,伊藤明义,岩泽利光,
申请(专利权)人:铠侠股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。