【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射磁棒的冷却系统
本技术涉及一种磁控溅射磁棒的冷却系统。
技术介绍
磁控溅射法可用于制备金属、半导体、绝缘体等材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁棒是磁控溅射机构中的重要构件之一,磁棒能否提供稳定的磁场决定了磁控溅射镀膜的质量。在磁控溅射过程中,靶材和磁棒长期处于高温环境,如果冷却水循环冷却效果不佳、温度不均匀等,极易造成靶材开裂及磁棒温度偏差过高,从而造成磁场均匀性异常,甚至磁铁等的损坏(温度对永磁铁。磁场强度的影响很大,一旦磁场不均匀,磁控溅射出的镀层性能会受到很大影响)。目前的磁棒冷却系统采用冷却水从中间水管的下端进入,在中间水管的上端流出,流入冷却腔的上端,继而从冷却腔的下端流出,由于冷却水从一侧流向另一侧,在此过程中,由于热传递,使得冷却水温度在整个回流过程中逐步升高,靶管溅射功率越大,温升约明显,从而很容易造成磁棒、靶材散热不均。因此,目前亟需一种既能均匀冷却磁棒又能在低水压时正常运行的一种磁控溅射磁棒的冷却系统。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述不足,提供一种能够均匀冷却磁棒、冷却效果更好的磁控溅射磁棒的冷却系统。本技术的目的是这样实现的:一种磁控溅射磁棒的冷却系统,所述冷却系统设置于磁棒内部,所述冷却系统包含有设置于磁棒内部的型材外部的外围板和水流通道板,所述外围板将型材长度方向的侧面包围住,所述外围板的外部沿磁棒长度方向设置有两根凸条;所述外围板在凸条的左右两侧均固定有长度方向与磁棒一致的水流通道板,所述水流通道板的一 ...
【技术保护点】
1.一种磁控溅射磁棒的冷却系统,其特征在于:所述冷却系统设置于磁棒内部,所述冷却系统包含有设置于磁棒内部的型材(10)外部的外围板(5)和水流通道板(7),所述外围板(5)将型材(10)长度方向的侧面包围住,所述外围板(5)的外部沿磁棒长度方向设置有两根凸条(6);所述外围板(5)在凸条(6)的左右两侧均固定有长度方向与磁棒一致的水流通道板(7),所述水流通道板(7)的一侧设置有弯钩状的弧形槽(7.1),凸条(6)嵌入该弧形槽(7.1)中;所述水流通道板(7)的内部呈中空状,形成二次侧冷却通道(2),所述水流通道板(7)由内侧板(7.2)和外侧板(7.3)构成;内侧板(7.2)与外围板(5)之间形成一次侧冷却通道(1);所述外侧板(7.3)沿其长度方向均匀分布有多个小孔状出口(4);所述外围板(5)和水流通道板(7)的下端设有盖帽(8),所述盖帽(8)将外围板(5)和水流通道板5的端部外边缘密封覆盖,所述盖帽(8)上开设有与一次侧冷却通道(1)相连通的进水口(3),进水口(3)中连接有进水管头(9);所述外围板(5)和水流通道板(7)的上端设置有堵头,所述一次侧冷却通道(1)的上端与二 ...
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射磁棒的冷却系统,其特征在于:所述冷却系统设置于磁棒内部,所述冷却系统包含有设置于磁棒内部的型材(10)外部的外围板(5)和水流通道板(7),所述外围板(5)将型材(10)长度方向的侧面包围住,所述外围板(5)的外部沿磁棒长度方向设置有两根凸条(6);所述外围板(5)在凸条(6)的左右两侧均固定有长度方向与磁棒一致的水流通道板(7),所述水流通道板(7)的一侧设置有弯钩状的弧形槽(7.1),凸条(6)嵌入该弧形槽(7.1)中;所述水流通道板(7)的内部呈中空状,形成二次侧冷却通道(2),所述水流通道板(7)由内侧板(7.2)和外侧板(7.3)构成;内侧板(7.2)...
【专利技术属性】
技术研发人员:伊凡,蔺裕平,蒋宏翔,
申请(专利权)人:梭莱镀膜工业江阴有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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