【技术实现步骤摘要】
自混合干涉测量传感器
本技术整体涉及垂直腔面发射激光(VCSEL)二极管和相关联的光电探测器(PD)(诸如谐振腔光电探测器(RCPD))的结构和构型。VCSEL二极管和相关联的PD可以是测量或确定表面或物体的位移、距离、运动、速率或速度的传感器或检测器的一部分。此类检测器或传感器可涉及确定电子设备上的力或触摸输入。VCSEL二极管和/或其相关联的RCPD可利用由VCSEL二极管发射的激光的反射或反向散射引起的自混合干涉。通过自混合干涉,所接收的反射在VCSEL二极管中引起所发射的激光从在不具有所接收的反射的情况下所发射的激光的状态变化或改变。所发射的激光的变化可与物体或目标(诸如电子设备的输入表面)的距离或运动相关。
技术介绍
当今社会中电子设备是非常常见的。示例性电子设备包括移动电话、平板电脑、个人数字助理等。这些电子设备中的一些电子设备包括一个或多个输入元件或表面,诸如按钮或触摸屏,用户可通过该一个或多个输入元件或表面来施加触摸或按压,从而输入命令或数据。该触摸或按压可由电子设备的用于检测输入元件或表面的位移或运动的部件检测到。此类检测部件可利用光源,在该光源中,将光束诸如激光朝向输入表面发射。对输入表面的位移或移动的检测可从来自该输入表面的所发射的激光的反射或反向散射来推断。一种特定类别的此类检测部件可包括VCSEL二极管。VCSEL二极管可发生自混合干涉,其中其所发射的激光的反射被接收回到其激光腔中,并且将所发射的激光的特性(诸如波长)转变为与其在不存在所接收的反射的情况下(即,自由发 ...
【技术保护点】
1.一种自混合干涉测量传感器,其特征在于包括:/n垂直腔面发射激光二极管;以及/n谐振腔光电探测器,所述谐振腔光电探测器与所述垂直腔面发射激光二极管横向相邻;/n其中:/n所述垂直腔面发射激光二极管和所述谐振腔光电探测器包括形成在公共基板上的一组公共半导体层;/n所述一组公共半导体层包括有源区层;/n所述垂直腔面发射激光二极管和所述谐振腔光电探测器至少部分地由至少部分地延伸穿过所述一组公共半导体层的沟槽分开,所述沟槽延伸穿过所述有源区层;以及/n所述垂直腔面发射激光二极管包括与所述一组公共半导体层堆叠的附加半导体层。/n
【技术特征摘要】
20190701 US 62/869,442;20200626 US 16/913,6451.一种自混合干涉测量传感器,其特征在于包括:
垂直腔面发射激光二极管;以及
谐振腔光电探测器,所述谐振腔光电探测器与所述垂直腔面发射激光二极管横向相邻;
其中:
所述垂直腔面发射激光二极管和所述谐振腔光电探测器包括形成在公共基板上的一组公共半导体层;
所述一组公共半导体层包括有源区层;
所述垂直腔面发射激光二极管和所述谐振腔光电探测器至少部分地由至少部分地延伸穿过所述一组公共半导体层的沟槽分开,所述沟槽延伸穿过所述有源区层;以及
所述垂直腔面发射激光二极管包括与所述一组公共半导体层堆叠的附加半导体层。
2.根据权利要求1所述的自混合干涉测量传感器,其特征在于:
所述附加半导体层包括与所述一组公共半导体层相邻的蚀刻阻挡层;以及
偏置电源电接触件连接到所述附加半导体层中的离所述一组公共半导体层最远的层。
3.根据权利要求2所述的自混合干涉测量传感器,其特征在于所述附加半导体层形成在所述一组公共半导体层上。
4.根据权利要求1所述的自混合干涉测量传感器,其特征在于:
所述垂直腔面发射激光二极管被配置为在正向偏置下发射激光,并且发生由来自物体的所发射的激光的第一反射或反向散射引起的自混合干涉,所述自混合干涉改变所发射的激光的特性;
所述谐振腔光电探测器被配置为在由所述垂直腔面发射激光二极管发射所述激光期间反向偏置,并且接收来自所述物体的所发射的激光的第二反射或反向散射;以及
所述谐振腔光电探测器产生与所发射的激光的所改变的特性相关的能够测量的参数。
5.根据权利要求4所述的自混合干涉测量传感器,其特征在于所述自混合干涉测量传感器还包括:
处理电路,所述处理电路被配置为:
测量由所述谐振腔光电探测器产生的所述能够测量的参数;以及
使用至少所测量的参数来确定所述物体的位移或运动中的至少一者。
6.根据权利要求4所述的自混合干涉测量传感器,其特征在于所述垂直腔面发射激光二极管被配置为发射具有940纳米的固有波长的所述激光。
7.根据权利要求1所述的自混合干涉测量传感器,其特征在于所述谐振腔光电探测器内的所述有源区层被掺杂为具有比所述垂直腔面发射激光二极管内的所述有源区层窄的带隙。
8.一种自混合干涉测量传感器,其特征在于包括:
第一垂直腔面发射激光二极管;
第二垂直腔面发射激光二极管,所述第二垂直腔面发射激光二极管与所述第一垂直腔面发射激光二极管横向相邻;以及
谐振腔光电探测器;
其中:
所述第一垂直腔面发射激光二极管和所述第二垂直腔面发射激光二极管包括形成在公共基板上的一组公共半导体层;...
【专利技术属性】
技术研发人员:谈飞,A·拉弗莱奎尔,林劲翰,K·里昂,M·A·德拉德尔,李卫平,
申请(专利权)人:苹果公司,
类型:新型
国别省市:美国;US
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