带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置制造方法及图纸

技术编号:28567801 阅读:38 留言:0更新日期:2021-05-25 18:05
本发明专利技术提供一种薄型、处理性优异且光学特性优异的带相位差层的偏光板。本发明专利技术的带相位差层的偏光板具有偏光板与相位差层,该偏光板包含偏光膜与位于偏光膜的至少一侧的保护层。偏光膜由含有二色性物质的聚乙烯醇系树脂薄膜构成,其厚度为8μm以下,单体透过率为43.0%以上、在波长550nm下的每1μm厚度的正交吸光度为0.85以上。相位差层的Re(550)为100nm~190nm,Re(450)/Re(550)为0.8以上且小于1。相位差层的慢轴与该偏光膜的吸收轴所成的角度为40°~50°。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置
本专利技术涉及带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置。
技术介绍
近年来,以液晶显示装置及电致发光(EL)显示装置(例如有机EL显示装置、无机EL显示装置)为代表的图像显示装置正迅速普及。图像显示装置中,代表性的是使用偏光板及相位差板。在实际应用中,广泛使用将偏光板与相位差板一体化而成的带相位差层的偏光板(例如专利文献1),最近,随着对于图像显示装置薄型化的需求增强,对于带相位差层的偏光板的薄型化需求也在增强。此外,近年来对于弯曲的图像显示装置和/或可挠曲或可弯折的图像显示装置的需求提高,这种情况下,对于偏光板及带相位差层的偏光板也要求进一步的薄型化及进一步的柔软化。出于将带相位差层的偏光板薄型化的目的,正在推进对厚度的贡献较大的偏光膜的保护层及相位差薄膜的薄型化。但是,若将保护层及相位差薄膜薄型化,则偏光膜的收缩的影响会相对变大,会产生图像显示装置翘曲及带相位差层的偏光板的操作性降低的问题。为了解决上述问题,也需要将偏光膜一并薄型化。但是,若仅减薄偏光膜的厚度,则光学特性会降低。更具体而言,处于折衷关系的偏光度与单体透过率中的一者或两者会降低至实际应用上无法容许的程度。其结果,带相位差层的偏光板的光学特性也会变得不充分。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利第3325560号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是为了解决上述以往的问题而做出的,其主要目的在于,提供一种薄型、处理性优异且光学特性优异的带相位差层的偏光板。用于解决问题的方案本专利技术的带相位差层的偏光板具有偏光板与相位差层,该偏光板包含偏光膜与位于该偏光膜的至少一侧的保护层。该偏光膜由含有二色性物质的聚乙烯醇系树脂薄膜构成,其厚度为8μm以下,单体透过率为43.0%以上、在波长550nm下的每1μm厚度的正交吸光度为0.85以上。该相位差层的Re(550)为100nm~190nm,Re(450)/Re(550)为0.8以上且小于1,该相位差层的慢轴与该偏光膜的吸收轴所成的角度为40°~50°。在一个实施方式中,上述保护层由弹性模量为3000MPa以上的基材构成。在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板的总厚度为90μm以下,正面反射色相为3.5以下,上述保护层由弹性模量为3000MPa以上的树脂薄膜构成。在一个实施方式中,上述保护层由三醋酸纤维素系树脂薄膜构成。在一个实施方式中,上述偏光板包含上述偏光膜与仅配置于上述偏光膜的一侧的上述保护层,上述相位差层借助粘合剂层贴合于上述偏光膜。在一个实施方式中,上述相位差层由聚碳酸酯系树脂薄膜构成。在一个实施方式中,上述相位差层由具有40μm以下的厚度的聚碳酸酯系树脂薄膜构成。在一个实施方式中,上述偏光膜在波长470nm下的正交吸光度A470与在波长600nm下的正交吸光度A600的比(A470/A600)为0.7~2.00。在一个实施方式中,上述偏光膜的正交b值大于-10且为+10以下。在一个实施方式中,上述偏光膜的波长550nm下的正交吸光度A550为2.0以上。在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板在上述相位差层的外侧还具有另外的相位差层,该另外的相位差层的折射率特性显示nz>nx=ny的关系。在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板在上述相位差层的外侧还具有导电层或带导电层的各向同性基材。在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板为长条状,上述偏光膜在纵长方向上具有吸收轴,上述相位差层为在相对于纵长方向呈40°~50°的角度的方向上具有慢轴的斜向拉伸薄膜。在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板被卷绕成卷状。根据本专利技术的另一方面,提供一种图像显示装置。该图像显示装置具备上述带相位差层的偏光板。在一个实施方式中,上述图像显示装置为有机电致发光显示装置或无机电致发光显示装置。专利技术的效果根据本专利技术,通过组合采用对聚乙烯醇(PVA)系树脂添加卤化物(代表性的是碘化钾)、包含空中辅助拉伸及水中拉伸的2阶段拉伸、以及利用加热辊进行的干燥及收缩,可以得到虽然为薄型但具有极其优异的光学特性的偏光膜。通过使用这样的偏光膜,可以实现薄型、处理性优异且光学特性优异的带相位差层的偏光板。附图说明图1为本专利技术的一个实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。图2为本专利技术的另一个实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。图3为示出本专利技术的带相位差层的偏光板所使用的偏光膜的制造方法中使用了加热辊的干燥收缩处理的一例的示意图。具体实施方式以下说明本专利技术的实施方式,但本专利技术不受这些实施方式的限定。(术语及符号的定义)本说明书中的术语及符号的定义如下。(1)折射率(nx、ny、nz)“nx”为面内的折射率成为最大的方向(即慢轴方向)的折射率,“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率,“nz”为厚度方向的折射率。(2)面内相位差(Re)“Re(λ)”为在23℃下以波长λnm的光测得的面内相位差。例如,“Re(550)”为在23℃下以波长550nm的光测得的面内相位差。在将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时,Re(λ)通过式:Re(λ)=(nx-ny)×d来求出。(3)厚度方向的相位差(Rth)“Rth(λ)”为在23℃下以波长λnm的光测得的厚度方向的相位差。例如,“Rth(550)”为在23℃下以波长550nm的光测得的厚度方向的相位差。在将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时,Rth(λ)通过式:Rth(λ)=(nx-nz)×d来求出。(4)Nz系数Nz系数可以通过Nz=Rth/Re来求出。(5)角度在本说明书中提及角度时,该角度包含相对于基准方向的顺时针方向及逆时针方向两个方向的角度。因此,例如“45°”是指±45°。A.带相位差层的偏光板的整体构成图1是本专利技术的一个实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。本实施方式的带相位差层的偏光板100具有偏光板10与相位差层20。偏光板10包含:偏光膜11、配置于偏光膜11的一侧的第1保护层12、及配置于偏光膜11的另一侧的第2保护层13。也可根据目的而省略第1保护层12及第2保护层13中的一者。例如,在相位差层20也可作为偏光膜11的保护层发挥功能时,也可省略第2保护层13。在本专利技术的实施方式中,偏光膜由含有二色性物质的聚乙烯醇系树脂薄膜构成。偏光膜的厚度为8μm以下,单体透过率为43.0%以上、在波长550nm下的每1μm厚度的正交吸光度(以下称为单位吸光度)为0.85以上。如图2所示,在另一个实施方式的带相位差层的偏光板101中,也可以设有另外的相位差层50以及/或者导电层或带导电层的各向同性基材60。另外的相位差层50以及导电层或带导电层的各向同性基材60代表性的是设置于相位差层20的外本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带相位差层的偏光板,其具有偏光板与相位差层,该偏光板包含偏光膜与位于该偏光膜的至少一侧的保护层,/n该偏光膜由含有二色性物质的聚乙烯醇系树脂薄膜构成,该偏光膜的厚度为8μm以下、单体透过率为43.0%以上、在波长550nm下的每1μm厚度的正交吸光度为0.85以上,/n该相位差层的Re(550)为100nm~190nm,Re(450)/Re(550)为0.8以上且小于1,/n该相位差层的慢轴与该偏光膜的吸收轴所成的角度为40°~50°。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181015 JP 2018-194000;20191004 JP 2019-1836081.一种带相位差层的偏光板,其具有偏光板与相位差层,该偏光板包含偏光膜与位于该偏光膜的至少一侧的保护层,
该偏光膜由含有二色性物质的聚乙烯醇系树脂薄膜构成,该偏光膜的厚度为8μm以下、单体透过率为43.0%以上、在波长550nm下的每1μm厚度的正交吸光度为0.85以上,
该相位差层的Re(550)为100nm~190nm,Re(450)/Re(550)为0.8以上且小于1,
该相位差层的慢轴与该偏光膜的吸收轴所成的角度为40°~50°。


2.根据权利要求1所述的带相位差层的偏光板,其中,所述保护层由弹性模量为3000MPa以上的基材构成。


3.根据权利要求1或2所述的带相位差层的偏光板,其总厚度为90μm以下,
正面反射色相为3.5以下,
所述保护层由弹性模量为3000MPa以上的树脂薄膜构成。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,所述保护层由三醋酸纤维素系树脂薄膜构成。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,所述偏光板包含所述偏光膜与仅配置于所述偏光膜的一侧的所述保护层,
所述相位差层借助粘合剂层贴合于所述偏光膜。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,所述相位差层由聚碳酸酯系树脂薄膜构成。


7.根据权利要求1至6中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员:后藤周作柳沼宽教友久宽清水享
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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