具有干涉涂层的高耐磨性光学制品制造技术

本发明专利技术涉及一种光学制品，所述光学制品具有根据ASTM F735‑81标准确定的、大于或等于7的拜耳值，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有厚度大于或等于250nm的单层子层、以及多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体。比率：(I)大于或等于1.5，和/或在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的高折射率层的沉积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有干涉涂层的高耐磨性光学制品本专利技术涉及一种光学制品，所述光学制品包括涂覆有多层透明干涉涂层、典型地减反射涂层的基材，具有改进的耐磨性和良好的耐热性，特别是涉及一种眼科镜片，并且涉及一种制造这种光学制品的方法。对光学基材的至少一个主表面涂覆若干涂层以便为成品制品赋予附加的或改进的光学特性或机械特性是本领域的惯常做法。这些涂层通常指定为功能涂层。可以用于赋予多种机械特性和/或光学特性的各种涂层可以是耐冲击涂层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层、减反射涂层和/或反射涂层、和/或防污层和/或防雾层。在文献中可以找到改进对环境引起的划伤敏感的光学制品的耐磨性的不同方法。例如，比如在JP2003-195003和JP2003-294906中已经提出了增加减反射涂层的总厚度，其中描述了一种镜片，所述镜片涂覆有底漆涂层、硬涂层、以及7层减反射涂层，所述减反射涂层包括交替的SiO2层和TiO2层，后者在离子辅助下沉积并且已知对于光降解作用是敏感的。US8982466涉及一种光学镜片，所述光学镜片具有硬涂层和多层减反射涂层，其中，由TiO2制成的高折射率层总共具有小于40nm的厚度。EP2775341披露了一种眼镜镜片，所述眼镜镜片具有硬涂层、360-390nm厚的SiO2子层、以及由SiO2、ZrO2和/或Ta2O5制成的4层干涉涂层，其中，所述层具有特定的纳米压痕硬度和压应力，并且通常通过离子辅助气相沉积来沉积。这种沉积技术增加了压应力，并且因此可能导致分层。JP2002-122820描述了一种有硬涂层的基材，所述有硬涂层的基材涂覆有物理厚度为89-178nm(光学厚度：在520nm，为0.25-0.5λ)的SiO2子层和4层减反射涂层(ZrO2/SiO2/ZrO2/SiO2)。根据本文件，通过能够使涂层厚度和各种材料层之间的应力平衡，可以达到高临界温度。然而，研究的唯一参数是子层的厚度。其厚度应使得比率(SiO2层(包括子层)的物理厚度之和)/(ZrO2层的物理厚度之和)的范围是2到3。认为较高的比率是不希望的，因为减反射涂层的耐久性会降低。US7692855披露了一种具有减反射特性和高耐热性的光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面涂覆有多层减反射涂层，其中，低折射率层的物理厚度/高折射率层的物理厚度的比率一般大于2.1。US2008/206470涉及一种用于制造具有减反射特性或反射特性的光学制品的方法，光学制品包括子层、子层和多层堆叠体。为了增加光学制品的耐磨性，必须在沉积步骤期间在真空室中在供应附加气体的情况下沉积子层，并且必须使子层的外露表面经受离子轰击处理，然后沉积多层堆叠体。欧洲专利申请EP3392680提出控制干涉涂层中的层的厚度，以便增加光学制品的耐磨性，即，使用大于或等于2的外部低折射率层/外部高折射率层的物理厚度之比。本专利技术的目的是提供一种透明光学制品，所述透明光学制品包括带有干涉涂层的有机或无机玻璃基材、优选地是镜片、更优选地是用于眼镜的眼科镜片，具有改进的耐磨性、与基材的良好粘附性以及对热和温度变化的良好耐受性(即，临界温度高)，可替代已知的有反射或减反射涂层的光学制品。应该在不降低所述制品的比如减反射性能或反射性能等光学性能和其他机械性能的情况下获得这些特性。本专利技术的另一个目的是提供一种制造以上限定的制品的工艺，所述工艺可以容易地集成到传统制造链中并且可以避免加热基材。专利技术人确认了几种杠杆，这些杠杆尤其可以提高光学制品的耐磨性，并发现可以通过组合这些杠杆来实现上述目的：使用厚的子层，选择(干涉涂层的最外侧低折射率层的物理厚度)/(干涉涂层的最外侧高折射率层的物理厚度)的特定比率和/或在离子辅助下沉积干涉涂层的距基材最远的、厚度大于或等于15nm的高折射率层，以及可选地在低压(压力优选低于1.6×10-4mBar)下、更有选地在所述沉积期间没有供应任何补充气体的情况下在真空室中沉积子层。通常以协同的方式，将最高数量的耐磨增强体组合会产生最高的耐磨性改进。与经典干涉涂层相比，本专利技术的干涉涂层临界温度更高、粘附性更好并且耐磨性更高。因此，本专利技术涉及一种光学制品，其具有根据ASTMF735-81标准(拜耳砂)确定的大于或等于7的拜耳值，该光学制品包括具有至少一个主面的基材，主面依次涂覆有：-厚度大于或等于250nm的单层子层，-多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中：a)比率：大于或等于1.5，和/或b)所述干涉涂层包括至少一个折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm的高折射率层，并且通过在所述高折射率层形成时借助于离子束轰击所述高折射率层在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的所述高折射率层的沉积。具体实施方式术语“包含”(及其任何语法变化形式，例如“包含有(comprises)”和“包含了(comprising)”)、“具有”(及其任何语法变化形式，例如“具有(has)”和“具有(having)”)、“含有”(及其任何语法变化形式，例如“含有(contains)”和“含有了(containing)”)、以及“包括”(及其任何语法变化形式，例如“包括(includes)”和“包括(including)”)都是开放式连接动词。它们用于指明其所述特征、整数、步骤或组分或群组的存在，但不排除其一种或多种其他特征、整数、步骤或组分或群组的存在或加入。因此，“包含”、“具有”、“含有”或“包括”一个或多个步骤或要素的方法或方法中的步骤具备那一个或多个步骤或要素，但不限于仅那一个或多个步骤或要素。除非另外指明，否则本文使用的所有关于成分、范围、反应条件等的数量的数字或表述应被理解为在所有情况下均受术语“约”修饰。当光学制品包含一个或多个表面涂层时，短语“将涂层或层沉积到光学制品上”意指将涂层或层沉积到所述光学制品的最外涂层(即最接近空气的涂层)上。在镜片的一侧“上”的涂层被定义为(a)放置在那一侧上，(b)不需要与那一侧接触，即可以将一个或多个介于中间的涂层布置于那侧与所讨论的涂层之间(然而，它优选地与那一侧接触)，并且(c)不需要完全覆盖那一侧的涂层。术语“涂层”理解为意指可以与基材和/或与另一个涂层(例如，溶胶-凝胶涂层或由有机树脂制成的涂层)接触的任何层、层堆叠体或膜。可以通过各种方法(包括湿法处理、气体处理和膜转移)沉积或形成涂层。根据本专利技术制备的光学制品是透明光学制品、优选是光学镜片或镜片毛坯、并且更优选是眼科镜片或镜片毛坯。光学制品可以在其凸主面(前侧)、凹主面(背/后侧)、或两个面上用根据本专利技术的多层干涉涂层涂覆，但优选在凸(前)主面上。如本文中使用的，在镜片的情况下，基材的后面旨在意指当使用所述制品时离配戴者的眼睛最近的面。所述面通常是凹面。相反，基材的前面是当使用所述制品时离配戴者的眼睛最远的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有：/n-厚度大于或等于250nm的单层子层，/n-多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中：/n所述光学制品具有根据ASTM F735-81标准确定的大于或等于7的拜耳值，并且/na)比率：/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181018 EP 18306373.41.一种光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有：
-厚度大于或等于250nm的单层子层，
-多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中：
所述光学制品具有根据ASTMF735-81标准确定的大于或等于7的拜耳值，并且
a)比率：



大于或等于1.5，和/或
b)所述干涉涂层包括至少一个折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm的高折射率层，并且通过在所述高折射率层形成时借助于离子束轰击所述高折射率层在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的所述高折射率层的沉积。


2.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层具有大于或等于300nm、优选地大于或等于350nm的厚度。


3.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层是基于SiO2的层。


4.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层与所述干涉涂层直接接触。


5.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在低于1.6×10-4mBar的压力下在真空室中进行的。


6.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在真空室中进行的，在所述沉积过程中不向所述真空室中供应补充气体。


7.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述比率RD大于或等于2、优选地大于或等于2.1。


8.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述光学制品具有根据所述ASTMF735-81标准确定的大于或等于8的拜耳...

【专利技术属性】
技术研发人员：Y·莫伊桑，J·阿尔伯克基达席尔瓦，Y·费尔腾，N·迈特尔，C·瓦伦蒂，
申请(专利权)人：依视路国际公司，
类型：发明
国别省市：法国;FR