本实用新型专利技术提供了一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置，所述清洁盘包括正面盘和背面盘，所述背面盘表面设置有中心圆形区和外圈环形区，所述外圈环形区靠近所述清洁盘外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布设置有多个凸起颗粒，所述正面盘靠近外边缘处设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构表面设置有多个倾斜孔道，所述倾斜孔道插入并贯穿所述清洁盘，所述清洁装置包括上述的清洁盘，还包括承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构，本实用新型专利技术的清洁盘及清洁装置对光刻胶涂胶托盘具有良好的清洁效果，缩短了清洗时间。缩短了清洗时间。缩短了清洗时间。
【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置
[0001]本技术涉及光刻
，尤其涉及一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置。
技术介绍
[0002]随着微电子制造的重要性愈发凸显，光刻工艺作为微电子制造的关键一环，技术不断地创新与发展，对光刻工艺的要求也随之升高。光刻工艺包括涂胶工艺、曝光工艺、显影工艺，涂胶工艺作为光刻工艺的基础，在产线中使用频率很高，因此涂胶托盘的清洗也十分重要。
[0003]目前主流的涂胶托盘的清洗设备，针对常见的三层与四层托盘有不同的设计，清洗的工艺也不同，对设备的日常维护管理造成了不便。
[0004]现有技术中，专利申请号为201920861749.3，专利名称为“一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘”，该自清洁涂胶装置包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴。承片托盘内部径向方向开设斜向上管道，用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对保护罩侧壁进行充分清洗；清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管；清洗液管与承片托盘底部相连。保护罩上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向，解决胶面彗尾等问题；承片托盘内部开设斜向上清洗液通道用于喷涂清洗液，全面清洗保护罩内壁；保护罩底部侧壁为圆弧斜坡形，易于排出清洗后废液，操作简单。整个装置复杂度低，成本低廉。
[0005]而主流的托盘的清洗设备，由于结构单一，导致对涂胶托盘的局部区域进行清洁的时候效果不佳，无法满足要求
[0006]因此，有必要提供一种新型的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置以解决现有技术中存在的上述问题。
技术实现思路
[0007]本技术的目的在于提供一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置，能够对光刻胶涂胶托盘的各个位置进行有效清洁。
[0008]为实现上述目的，本技术的所述一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，包括正面盘和背面盘，所述背面盘表面设置有中心圆形区和外圈环形区，所述外圈环形区靠近所述清洁盘外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布设置有多个凸起颗粒，所述正面盘靠近外边缘处设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构表面设置有多个倾斜孔道，所述倾斜孔道插入并贯穿所述清洁盘。
[0009]本技术的有益效果在于：上述结构的清洁盘通过凸起环形区上的多个凸起颗粒，可以在对涂胶托盘清洁的时候，将清洁盘表面流过的清洁液打散雾化，并使得雾化的清洁液可以运动到更远的地方，从而对涂胶托盘起到更好的清洁作用，而环形凸台结构通过阻挡作用将清洁液引导进入多个倾斜孔道之中，使得清洁液可以流入到涂胶托盘更加靠下
的位置，提高清洁液对涂胶托盘的清洁效果。
[0010]优选的，所述凸起颗粒表面为光滑结构或磨砂结构。
[0011]优选的，所述凸起颗粒的直径为0.1
‑
5mm。
[0012]优选的，所述凸起环形区的宽度为5
‑
40mm。
[0013]优选的，所述倾斜孔道在所述环形凸台结构上均匀分布，相邻的所述倾斜孔道之间在所述清洁盘上的分布角度为5
‑
60
°
。
[0014]上述角度均匀分布的倾斜孔道分布间隔合理，能够将清洁盘上的部分清洁液阻挡并均匀导入到倾斜孔道中，以便于通过倾斜孔道排入到涂胶托盘的更靠下的位置，提高清洗效果。
[0015]优选的，所述外圈环形区为聚合物材质。
[0016]优选的，所述中心圆形区采用硬度不小于蓝宝石的材料。
[0017]采用上述材料的中心圆形区具有较大的硬度，使得整个清洁盘表面真空吸附后容易发生形变的情况，而且聚合物材质的外圈环形区使得整个清洁盘具备一定的柔韧性，避免了整个清洁盘因为高硬度而出现易碎的问题。
[0018]优选的，所述中心圆形区的直径范围是20
‑
200mm，厚度是0.1
‑
10mm。
[0019]本技术还提供了一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁装置，包括上述的清洁盘，还包括承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构；
[0020]所述清洁盘设置在所述承片台上，所述清洁盘的正面与所述承片台接触，所述清洁盘的背面朝上；
[0021]所述清洁液喷洒机构设置在所述承片台外部，所述清洁液喷洒机构包括第一喷头和第二喷头，所述第一喷头设置在所述承片台外部，且所述第一喷头的喷头朝向所述清洁盘背面，所述第二喷头的一端连接有机械手臂，所述机械手臂位于所述清洁盘背面上方的中心处，所述第二喷头的喷头朝向所述清洁盘背面；
[0022]所述调节旋转机构安装在所述承片台底端，用于驱动所述承片台转动并调节转速。
[0023]上述带有清洁盘的清洁装置，通过可自由调节转速的调节旋转机构，当清洁盘放置在承片台上的时候，通过改变调节旋转机构的转速带动承片台和清洁盘以不同的转速旋转，从而提高清洁盘上的清洁液对周围的涂胶托盘的清洁效果，缩短清洁时间，同时可以实现对涂胶托盘上中下部位的全方位覆盖，进一步提高整体的清洁效果。
[0024]优选的，所述承片台上还安装有吸盘，所述吸盘将所述清洁盘吸附在所述承片台上。
[0025]优选的，所述调节旋转机构为伺服电机。
附图说明
[0026]图1为本技术的清洁装置整体结构示意图；
[0027]图2为本技术的清洁盘的背面俯视结构示意图；
[0028]图3为本技术的清洁盘的正面俯视结构示意图；
[0029]图4为本技术的凸台结构部分截面结构示意图；
[0030]图5为本技术的清洁盘的背面的立体结构示意图；
[0031]图6为本技术的清洁盘的正面的立体结构示意图。
[0032]图中标号：
[0033]1‑
清洁盘；
[0034]101
‑
中心圆形区；
[0035]102
‑
外圈环形区；1021
‑
凸起环形区；1022
‑
凸起颗粒； 103
‑
环形凸台结构；
[0036]104
‑
倾斜孔道；
[0037]2‑
承片台；
[0038]3‑
清洁液喷洒机构；301
‑
第一喷头；302
‑
第二喷头；303
‑
机械手臂； 4
‑
调节旋转机构；5
‑
吸盘。
具体实施方式
[0039]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，包括正面盘和背面盘，所述背面盘表面设置有中心圆形区和外圈环形区，所述外圈环形区靠近所述清洁盘外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布设置有多个凸起颗粒，所述正面盘靠近外边缘处设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构表面设置有多个倾斜孔道，所述倾斜孔道插入并贯穿所述清洁盘。2.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述凸起颗粒表面为光滑结构或磨砂结构。3.根据权利要求2所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述凸起颗粒的直径为0.1
‑
5mm。4.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述凸起环形区的宽度为5
‑
40mm。5.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述倾斜孔道在所述环形凸台结构上均匀分布，相邻的所述倾斜孔道之间在所述清洁盘上的分布角度为5
‑
60
°
。6.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，其特征在于，所述外圈环形区为聚合物材质。7.根据权利要求1所述的用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘，...
【专利技术属性】
技术研发人员：王岳天，边疆，孙洪君，关丽，王延明，王惠生，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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