一种半导体制造用湿法氧化装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于半导体技术领域，公开了一种半导体制造用湿法氧化装置，包括安装台，所述安装台的一侧表壁安装有开关，所述安装台的底部安装有固定座，所述固定座的一侧表壁通过电机架安装有第一电动机，所述第一电动机的输出轴贯穿固定座的一侧表壁转动连接有螺纹杆，所述固定座的一侧表壁安装有顶板，所述螺纹杆的一端远离第一电动机的一侧通过运动轴与顶板转动连接，本实用新型专利技术设置了第一电动机，通过第一电动机的带动可以实现CCD成像装置高度的上升和下降，成像范围扩大，在进行成像观测时可以提供更为精准的图像和数据信息，可以给操作人员的操作提供数据支撑。操作人员的操作提供数据支撑。操作人员的操作提供数据支撑。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体制造用湿法氧化装置


[0001]本技术属于半导体
，具体涉及一种半导体制造用湿法氧化装置。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联，常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种。
[0003]但是，目前市场现有的半导体制造用湿法氧化装置在使用过程中存在一些缺陷，例如，装置在使用时，大多只可以支持少量的半导体进行单独操作，规模化和操作效率较低，在实际使用的过程中常常会延误工作时间，不利于企业的制造效率提高。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种半导体制造用湿法氧化装置，以解决现有的半导体制造的便利性问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种半导体制造用湿法氧化装置，包括安装台，所述安装台的一侧表壁安装有开关，所述安装台的底部安装有固定座，所述固定座的一侧表壁通过电机架安装有第一电动机，所述第一电动机的输出轴贯穿固定座的一侧表壁转动连接有螺纹杆，所述固定座的一侧表壁安装有顶板，所述螺纹杆的一端远离第一电动机的一侧通过运动轴与顶板转动连接，所述螺纹杆的一侧表面设置有运动块，所述运动块的一侧表壁开设有螺纹孔，所述运动块通过螺纹孔与螺纹杆螺纹连接，所述固定座的一侧表壁安装有滑轨，所述运动块靠近固定座的一侧设置有滑动块，所述运动块通过设置的滑动块与滑轨滑动连接，所述第一电动机与开关电性连接。
[0006]优选的，所述安装台的底部安装有连接台，所述连接台的顶部安装有第二电动机，所述第二电动机的输出轴转动连接有驱动轮，所述连接台的顶部通过活动轴转动连接有间歇轮，所述驱动轮的一侧表壁安装有拨动杆，所述间歇轮的一侧表壁开设有驱动槽，所述拨动杆与驱动槽传动连接，所述第二电动机与开关电性连接。
[0007]优选的，所述间歇轮的一端远离连接台的一侧安装有三个反应盒，三个所述反应盒的内部均设置有热源。
[0008]优选的，所述运动块的一侧表壁安装有抬升架，所述抬升架的一侧表壁安装有CCD成像装置，所述CCD成像装置与开关电性连接。
[0009]优选的，所述安装台的顶部安装有置物架，所述置物架的内部安装有隔板。
[0010]优选的，所述安装台的底部开设有安装槽，所述安装槽内安装有底座。
[0011]本技术与现有技术相比，具有以下有益效果：
[0012](1)本技术设置了第一电动机，通过第一电动机的带动可以实现CCD成像装置高度的上升和下降，成像范围扩大，在进行成像观测时可以提供更为精准的图像和数据信息，可以给操作人员的操作提供数据支撑。
[0013](2)本技术设置了第二电动机，在间歇轮的顶部设置有多个反应盒，扩大了半导体的制造规模，通过第二电动机的带动可以实现三个反应盒的不间断操作，提高了生产效率，节省了制造时间。
附图说明
[0014]图1为本技术的结构示意图；
[0015]图2为本技术的侧剖视图；
[0016]图3为本技术的仰剖视图；
[0017]图4为本技术的俯视图。
[0018]图中：1、安装台；2、开关；3、固定座；4、第一电动机；5、螺纹杆；6、顶板；7、运动块；8、滑轨；9、连接台；10、第二电动机；11、驱动轮；12、间歇轮；13、拨动杆；14、反应盒；15、抬升架；16、CCD成像装置；17、置物架；18、底座。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
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图4所示，本技术提供如下技术方案：一种半导体制造用湿法氧化装置，包括安装台1，安装台1的一侧表壁安装有开关2，安装台1的底部安装有固定座3，固定座3的一侧表壁通过电机架安装有第一电动机4，第一电动机4的型号为YS，第一电动机4的输出轴贯穿固定座3的一侧表壁转动连接有螺纹杆5，固定座3的一侧表壁安装有顶板6，螺纹杆5的一端远离第一电动机4的一侧通过运动轴与顶板6转动连接，螺纹杆5的一侧表面设置有运动块7，运动块7的一侧表壁开设有螺纹孔，运动块7通过螺纹孔与螺纹杆5螺纹连接，固定座3的一侧表壁安装有滑轨8，运动块7靠近固定座3的一侧设置有滑动块，运动块7通过设置的滑动块与滑轨8滑动连接，第一电动机4与开关2电性连接，通过第一电动机4的带动可以实现CCD成像装置16高度的上升和下降，成像范围扩大。
[0021]本实施例中，优选的，安装台1的底部安装有连接台9，连接台9的顶部安装有第二电动机10，第二电动机10的型号为YS，第二电动机10的输出轴转动连接有驱动轮11，连接台9的顶部通过活动轴转动连接有间歇轮12，驱动轮11的一侧表壁安装有拨动杆13，间歇轮12的一侧表壁开设有驱动槽，拨动杆13与驱动槽传动连接，第二电动机10与开关2电性连接，可以实现三个反应盒14的不间断操作，提高了生产效率，节省了制造时间。
[0022]本实施例中，优选的，间歇轮12的一端远离连接台9的一侧安装有三个反应盒14，三个反应盒14的内部均设置有热源，多个反应盒14不间断运动，扩大了半导体的制造规模。
[0023]本实施例中，优选的，运动块7的一侧表壁安装有抬升架15，抬升架15的一侧表壁安装有CCD成像装置16，CCD成像装置16与开关2电性连接，可以提供更为精准的图像和数据
信息，可以给操作人员的操作提供数据支撑。
[0024]本实施例中，优选的，安装台1的顶部安装有置物架17，置物架17的内部安装有隔板，便于操作人员在实际操作过程中的使用，提高操作便捷度。
[0025]本实施例中，优选的，安装台1的底部开设有安装槽，安装槽内安装有底座18，降低设备在运行时的震动频率，保证工艺进行时的震动范围符合工艺标准。
[0026]本技术的工作原理及使用流程：在使用半导体制造用湿法氧化装置时，首先将多个需要进行湿法氧化的半导体晶片放置在反应盒14内，开启反应盒14内的热源，开启第一电动机4，第一电动机4带动螺纹杆5转动，螺纹杆5带动运动块7沿滑轨8运动，运动块7带动抬升架15运动，抬升架15带动CCD成像装置16运动，开始观测精准的图像，在第一个半导体晶片湿法氧化结束后，开启第二电动机10，第二电动机10带动驱动轮11转动，驱动轮11带动拨动杆13运动，拨动杆13带动间歇轮12转动，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体制造用湿法氧化装置，包括安装台(1)，所述安装台(1)的一侧表壁安装有开关(2)，其特征在于：所述安装台(1)的底部安装有固定座(3)，所述固定座(3)的一侧表壁通过电机架安装有第一电动机(4)，所述第一电动机(4)的输出轴贯穿固定座(3)的一侧表壁转动连接有螺纹杆(5)，所述固定座(3)的一侧表壁安装有顶板(6)，所述螺纹杆(5)的一端远离第一电动机(4)的一侧通过运动轴与顶板(6)转动连接，所述螺纹杆(5)的一侧表面设置有运动块(7)，所述运动块(7)的一侧表壁开设有螺纹孔，所述运动块(7)通过螺纹孔与螺纹杆(5)螺纹连接，所述固定座(3)的一侧表壁安装有滑轨(8)，所述运动块(7)靠近固定座(3)的一侧设置有滑动块，所述运动块(7)通过设置的滑动块与滑轨(8)滑动连接，所述第一电动机(4)与开关(2)电性连接。2.根据权利要求1所述的一种半导体制造用湿法氧化装置，其特征在于：所述安装台(1)的底部安装有连接台(9)，所述连接台(9)的顶部安装有第二电动机(10)，所述第二电动机(10)的输出轴转动连接有驱...

【专利技术属性】
技术研发人员：张子运，王浩源，汪文坚，端雪峰，谢曙阳，黄笑，
申请(专利权)人：江苏纳沛斯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：