一种基板冲洗装置，包含清洗槽、载架、驱转机构及喷洒机构。该清洗槽具有槽壁并界定清洗空间。该载架用以承载基板并使该基板直立地位于该清洗空间内。该驱转机构连接该载架以驱动该载架在该清洗空间内转动并带动该基板旋转。该喷洒机构包括多个喷嘴以提供处理液在该清洗空间内冲洗该基板的正面及背面。借此，基板在被冲洗时能够固定角度，且可被转动预定角度后在不同时间以不同角度受冲洗，如此能使基板上不同区域的待剥离层可以被移除，且能避免结构较弱的区域受到冲击而损坏，以提升制程良率。率。率。
【技术实现步骤摘要】
基板冲洗装置
[0001]本专利技术涉及一种基板冲洗装置，特别是涉及一种用于半导体制程的基板冲洗装置。
技术介绍
[0002]在半导体制程中，有些金属材质不易利用蚀刻方式去除以将金属层图案化，而需使用金属剥离(Metal Lift-off)制程，通过先在光阻层图案化后沉积金属层，原先光阻层保留的图案为金属层需要移除的区域，待沉积金属层后，再将光阻层连同其上的金属层一起剥离，如此未覆盖于光阻层上的金属层可被保留而将金属层图案化。
[0003]目前金属剥离制程的工序通常先将基板浸置于一浸洗槽(Immersion Tank)中以使光阻软化；再将基板移至化学喷洗(Chemical Spray)工作站，利用喷嘴喷射洗剂将光阻层连同其上的金属层剥离；然后再将基板移至水洗及干燥工作站，利用去离子水冲洗并使基板旋转，而在去离子水冲洗完成后使基板干燥。现有在化学喷洗工作站通常是将基板水平设置在一旋转机构上，当喷嘴对基板喷洒洗剂时同时将基板旋转以利用离心力将冲洗后的洗剂及剥离的废弃物甩出基板表面。然而，由于基板表面经过图案化后形成立体结构，当喷嘴以较高压力冲洗基板表面且在冲洗过程基板一边旋转时，无法控制洗剂冲击基板上立体结构的角度，导致立体结构中部分强度较弱的地方容易因为洗剂冲击而倒塌，如此会降低整体制程的良率。
技术实现思路
[0004]本专利技术的其中一目的在于提供一种可以解决前述问题的基板冲洗装置。
[0005]本专利技术的基板冲洗装置在一些实施态样中，是包含清洗槽、载架、驱转机构及喷洒机构。该清洗槽具有槽壁并界定清洗空间。该载架用以承载基板并使该基板直立地位于该清洗空间内。该驱转机构连接该载架以驱动该载架在该清洗空间内转动并带动该基板旋转。该喷洒机构包括多个喷嘴以提供处理液在该清洗空间内冲洗该基板的正面及背面。
[0006]在一些实施态样中，该载架包括基座及限位模块，该基座可转动地设于该槽壁且连接该驱转机构以受该驱转机构驱动旋转，该限位模块设于该基座以固持该基板。
[0007]在一些实施态样中，该基座具有环形体、与该驱转机构连接的转轴，及连接该环形体与该转轴的连接部，该环形体具有位于相反两侧的承载面及连接面，该连接面与该连接部连接。
[0008]在一些实施态样中，该限位模块包括两个设于该环形体的承托夹置单元、两个可活动地设于该环形体的夹扣单元及致动单元，每一承托夹置单元具有凸伸出该承载面的承托件，且该承托件具有限位槽，该限位槽的宽度与该基板的厚度相配合以容置该基板的侧缘并将其限位，每一夹扣单元具有设于该承载面的靠抵件、扣压件及弹性件，该扣压件能够在与该靠抵件共同夹持该基板的夹持状态及离开该靠抵件以供安装及移除该基板的开放状态之间转换，且该扣压件受该弹性件偏压恒回复于该夹持状态并在受该致动单元作用时
转换至该开放状态。
[0009]在一些实施态样中，该扣压件具有用以压抵该基板的压抵部及位于该连接面同一侧的受推部，该致动单元具有与该转轴同轴向地穿设于该转轴的支撑轴、连接该支撑轴的动力源，及由该支撑轴靠近该环形体的一端延伸的抵推部，该抵推部用以抵推于所述夹扣单元的扣压件的受推部。
[0010]在一些实施态样中，该喷洒机构包括第一喷嘴模块及第二喷嘴模块，所述喷嘴其中一部分设于该第一喷嘴模块，另一部分设于该第二喷嘴模块，该第一喷嘴模块用以冲洗该基板的正面且可受控地在该清洗空间内上下移动，该第二喷嘴模块用以冲洗该基板的背面且定位于该清洗空间内。
[0011]在一些实施态样中，该载架包括支撑架体及可转动地连接该支撑架体的环形架体，该环形架体用以固持该基板且外周缘环设有齿部，该驱转机构包括设于该清洗空间内且能与该齿部啮合的齿轮以驱动该环形架体旋转。
[0012]在一些实施态样中，该喷洒机构包括第一喷嘴模块及第二喷嘴模块，所述喷嘴其中一部分设于该第一喷嘴模块，另一部分设于该第二喷嘴模块，该第一喷嘴模块与该第二喷嘴模块彼此相间隔地相向定位于该清洗空间内，其中该第一喷嘴模块用以冲洗该基板的正面，该第二喷嘴模块用以冲洗该基板的背面。
[0013]本专利技术至少具有以下功效：通过该载架使该基板直立地被固持，可以使该基板受冲洗时不需要旋转以固定冲洗角度，且该载架可以转动预定角度而能使该基板的表面结构在不同时间以不同角度受冲洗，如此能使该基板上不同区域的待剥离层可以被移除，且能避免结构较弱的区域受到冲击而损坏，以提升制程良率。
附图说明
[0014]本专利技术的其他的特征及功效，将于参照图式的实施方式中清楚地呈现，其中：
[0015]图1是本专利技术基板冲洗装置的第一实施例的不完整的立体图；
[0016]图2是该第一实施例的另一不完整的立体图；
[0017]图3是该第一实施例的不完整的剖视示意图；
[0018]图4是该第一实施例的另一不完整的剖视示意图；
[0019]图5是本专利技术基板冲洗装置的第二实施例的不完整的剖视示意图；
[0020]图6是该第二实施例的另一不完整的剖视示意图；
[0021]图7是本专利技术基板冲洗装置的第三实施例的不完整的立体图；及
[0022]图8是该第三实施例的不完整的前视示意图。
具体实施方式
[0023]在本专利技术被详细描述之前，应当注意在以下的说明内容中，类似的元件是以相同的编号来表示。
[0024]参阅图1至图4，本专利技术基板冲洗装置的第一实施例适用于在半导体制程中清洗经过浸泡程序的一基板5表面以移除该基板5上的待剥离层，该基板冲洗装置包含一清洗槽1、一载架2、一驱转机构3及一喷洒机构4。
[0025]该清洗槽1具有一槽壁11并界定一清洗空间12。
[0026]该载架2用以固持该基板5并使该基板5直立地位于该清洗空间12内。在第一实施例中，该载架2包括一基座21及一限位模块22。该基座21可转动地设于该槽壁11且连接该驱转机构3以受该驱转机构3驱动旋转，具体而言，该基座21具有一环形体211、与该驱转机构3连接的一转轴212，及一连接该环形体211与该转轴212的连接部213，该环形体211具有位于相反两侧的一承载面211a及一连接面211b，该连接面211b与该连接部213连接。
[0027]该限位模块22设于该基座21以固持该基板5，具体而言，该限位模块22包括两个设于该环形体211的承托夹置单元221、两个可活动地设于该环形体211的夹扣单元222，及一致动单元223。每一承托夹置单元221具有一凸伸出该承载面211a的承托件221a，且该承托件221a具有一限位槽221b，该限位槽221b的宽度与该基板5的厚度相配合以容置该基板5的侧缘并将其限位。每一夹扣单元222具有一设于该承载面211a的靠抵件222a、一扣压件222b及一弹性件222c。该扣压件222b具有一用以压抵该基板5的压抵部2221及一位于该连接面211b同一侧的受推部2222。
[0028]在第一实施例中，每一夹扣单元222还具有一设于该环形体211的连接面211b上且位于该压本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板冲洗装置，其特征在于：包含：清洗槽，具有槽壁并界定清洗空间；载架，用以固持基板并使该基板直立地位于该清洗空间内；驱转机构，连接该载架以驱动该载架在该清洗空间内转动并带动该基板旋转；及喷洒机构，包括多个喷嘴以提供处理液在该清洗空间内冲洗该基板的正面及背面。2.根据权利要求1所述基板冲洗装置，其特征在于：该载架包括基座及限位模块，该基座可转动地设于该槽壁且连接该驱转机构以受该驱转机构驱动旋转，该限位模块设于该基座以固持该基板。3.根据权利要求2所述基板冲洗装置，其特征在于：该基座具有环形体、与该驱转机构连接的转轴，及连接该环形体与该转轴的连接部，该环形体具有位于相反两侧的承载面及连接面，该连接面与该连接部连接。4.根据权利要求3所述基板冲洗装置，其特征在于：该限位模块包括两个设于该环形体的承托夹置单元、两个可活动地设于该环形体的夹扣单元及致动单元，每一承托夹置单元具有凸伸出该承载面的承托件，且该承托件具有限位槽，该限位槽的宽度与该基板的厚度相配合以容置该基板的侧缘并将其限位，每一夹扣单元具有设于该承载面的靠抵件、扣压件及弹性件，该扣压件能够在与该靠抵件共同夹持该基板的夹持状态及离开该靠抵件以供安装及移除该基板的开放状态之间转换，且该扣压件受该弹性件偏压恒回复于该夹持状态并在受该致动单元作...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯传彰，吴庭宇，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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