辐射制冷膜及其制品制造技术

本发明专利技术涉及一种辐射制冷膜及其制品，所述辐射制冷膜包括层叠设置的载体层、反射层和发射层，所述发射层为所述辐射制冷膜的入光侧，所述发射层的材料为含C

【技术实现步骤摘要】
辐射制冷膜及其制品


[0001]本专利技术涉及新材料
与节能
，特别是涉及辐射制冷膜及其制品。

技术介绍

[0002]在节能
，辐射制冷膜能够将物体表面热量以大气窗口(8μm
‑
13μm)波段的红外辐射的方式传递至外太空，达到无能耗降温的目的。如图1所示，为一种传统的辐射制冷膜，包括依次层叠设置的第一基层11、第一反射层12和第一发射涂层13，其中，第一发射涂层13由含氟树脂固化而成，第一发射涂层13中还分布有第一辐射制冷颗粒14。该辐射制冷膜中，第一辐射制冷颗粒14添加在第一发射涂层13中，一方面，会降低辐射制冷膜的力学性能，另一方面，会破坏第一发射涂层13中含氟树脂分子链的有序性，导致水、氧的渗透率增加，从而降低了该辐射制冷膜的耐候性。
[0003]为了规避辐射制冷颗粒添加至含氟薄膜涂层中产生的缺陷，如图2所示，为另一种传统的辐射制冷膜，包括依次层叠设置的第二基层21、第二反射层22、第二发射层23和含氟薄膜24，其中，所述第二发射层23包括胶体以及分布于所述胶体中的第二辐射制冷颗粒25。该辐射制冷膜中，第二辐射制冷颗粒25没有添加在含氟薄膜24中，而是添加在胶体中，从而，以胶体和第二辐射制冷颗粒组成的胶黏剂层作为第二发射层23，含氟薄膜24主要用于提高辐射制冷膜的耐候性。但是，第二辐射制冷颗粒25添加在胶体中，也会导致胶体的水、氧渗透率增加，因而也会降低辐射制冷膜的耐候性；另外，第二辐射制冷颗粒25添加在胶体中，会降低胶体的粘结力，使得辐射制冷膜的整体性下降，同时，还会破坏胶体的内部结构，降低胶体的内聚力，进而也会导致辐射制冷膜的力学性能降低。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对上述问题，提供一种具有优异制冷效果、耐候性和力学性能的辐射制冷膜及其制品。
[0005]一种辐射制冷膜，所述辐射制冷膜包括层叠设置的载体层、反射层和发射层，所述发射层为所述辐射制冷膜的入光侧，所述发射层的材料为含C
‑
F键的聚合物，所述载体层的材料为含C
‑
C键和/或C
‑
O键的聚合物，所述载体层在120℃下放置30min后的横向方向的热收缩率≤2％、纵向方向的热收缩率≤3％，所述辐射制冷膜的厚度为50μm
‑
170μm，其中，所述发射层的厚度占20％
‑
90％。
[0006]在其中一个实施例中，所述反射层设置于所述载体层和所述发射层之间时，所述辐射制冷膜的厚度为55μm
‑
170μm。
[0007]在其中一个实施例中，所述发射层与所述载体层的厚度之为1:2
‑
8:1。
[0008]在其中一个实施例中，所述发射层的厚度为25μm
‑
120μm。
[0009]在其中一个实施例中，所述载体层设置于所述反射层与所述发射层之间时，所述辐射制冷膜的厚度为50μm
‑
125μm。
[0010]在其中一个实施例中，所述发射层与所述载体层的厚度之为3:10
‑
22:3。
[0011]在其中一个实施例中，所述发射层的厚度为15μm
‑
110μm。
[0012]在其中一个实施例中，所述发射层的材料包括含氟树脂；
[0013]及/或，所述载体层的材料包括聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚碳酸酯中的至少一种；
[0014]及/或，所述反射层的材料包括金属、合金中的至少一种。
[0015]在其中一个实施例中，所述载体层用于承载所述反射层的表面的表面能大于或等于40mN/m。
[0016]在其中一个实施例中，所述载体层和所述反射层之间还设置有聚合物涂层，所述聚合物涂层的表面能大于或等于40mN/m，所述聚合物涂层的厚度为3nm
‑
200nm。
[0017]在其中一个实施例中，所述载体层和所述聚合物涂层之间的折射率差值的绝对值大于或等于0.05。
[0018]在其中一个实施例中，所述发射层的入光面设置有压花结构。
[0019]一种包括辐射制冷膜的制品，所述制品包括基体以及设置于所述基体上的所述的辐射制冷膜，所述辐射制冷膜中的远离发射层的一面通过胶粘剂层与基体连接。
[0020]在其中一个实施例中，所述基体包括金属基体、陶瓷基体、半导体基体、塑料基体、玻璃基体、橡胶基体、沥青基体、水泥基体、纺织物基体中的至少一种。
[0021]在其中一个实施例中，所述制品为辐射制冷防水卷材，所述基体为石油沥青纸胎油毡、石油沥青玻纤胎卷材、铝箔面卷材、SBS改性沥青防水卷材、APP改性沥青防水卷材、三元乙丙卷材、聚氯乙烯卷材、氯化聚乙烯卷材、橡胶共混卷材、TPO防水卷材中的一种。
[0022]在其中一个实施例中，所述制品为辐射制冷金属板，所述基体为铝合金金属板、镀锌金属板、镀锡金属板、复合钢金属板、彩色涂层钢金属板中的一种。
[0023]C
‑
F键在8μm
‑
13μm的大气窗口波段具有很强的吸收性，且在8μm
‑
10μm的波段具有很强的吸收峰，同样，C
‑
C和C
‑
O在8μm
‑
13μm的大气窗口也具有较强的吸收性，尤其是在8μm
‑
9.5μm的波段，具有很强的吸收峰，所以含C
‑
F键的聚合物具有非常优异的光谱选择性，含C
‑
C键和/或C
‑
O键的聚合物具有较优异的光谱选择性。同时，由于F原子电负性大，C
‑
F键的键能高，可达500KJ/mol，但是，太阳光的光波段中，对有机物起破坏的光波段是280nm
‑
780nm，其能量达不到破坏C
‑
F键的程度，且F原子极化率低，含C
‑
F键的聚合物能够表现出高的热稳定性和化学惰性，所以含C
‑
F键的聚合物还具有优异的耐候性。
[0024]因此，本专利技术的辐射制冷膜中，以含C
‑
F键的聚合物作为发射层的材料，以含C
‑
C键和/或C
‑
O键的聚合物作为载体层的材料，二者相互配合使用，同时，以发射层作为辐射制冷膜的入光侧，且通过厚度的控制，优化了单位面积内C
‑
F键、C
‑
C键和/或C
‑
O键的数量，同时控制了太阳光波段的热吸收，从而使得辐射制冷膜在不需要添加辐射制冷颗粒的条件下就具有优异的大气窗口发射率，进而避免了辐射制冷颗粒的添加对辐射制冷膜的力学性能和耐候性的产生不利影响，使得辐射制冷膜具有更优异的力学性能和耐候性。
附图说明
[0025]图1为一种传统的辐射制冷膜的结构示意图；
[0026]图2为另一种传统的辐射制冷膜的结构示意图；
[0027]图3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种辐射制冷膜，其特征在于，所述辐射制冷膜包括层叠设置的载体层、反射层和发射层，所述发射层为所述辐射制冷膜的入光侧，所述发射层的材料为含C
‑
F键的聚合物，所述载体层的材料为含C
‑
C键和/或C
‑
O键的聚合物，所述载体层在120℃下放置30min后的横向方向的热收缩率≤2％、纵向方向的热收缩率≤3％，所述辐射制冷膜的厚度为50μm
‑
170μm，其中，所述发射层的厚度占20％
‑
90％。2.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述反射层设置于所述载体层和所述发射层之间时，所述辐射制冷膜的厚度为55μm
‑
170μm。3.根据权利要求2所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层与所述载体层的厚度之比为1:2
‑
8:1。4.根据权利要求3所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层的厚度为25μm
‑
120μm。5.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述载体层设置于所述反射层与所述发射层之间时，所述辐射制冷膜的厚度为50μm
‑
125μm。6.根据权利要求5所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层与所述载体层的厚度之比为3:10
‑
22:3。7.根据权利要求6所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层的厚度为15μm
‑
110μm。8.根据权利要求1
‑
7任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层的材料包括含氟树脂；及/或，所述载体层的材料包括聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚碳酸酯中的至少一种；及/或，所述反射层...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐绍禹，杨荣贵，钟松，王明辉，尹铮杰，杨慧慧，夏兆路，
申请(专利权)人：宁波瑞凌新能源材料研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：