一种抛光精度高的温控型打磨机制造技术

本发明专利技术公开了一种抛光精度高的温控型打磨机，包括打磨台，所述打磨台的顶部固定安装有定位架，且定位架顶部的中心处固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定连接有抛光轴，且抛光轴的底端延伸至安装架内并固定连接有打磨头。该抛光精度高的温控型打磨机，在外置球杆移动至蓄水管的位置时，外置球杆抵触自控阀门，自控阀门受力绕着螺旋轴向内摆动，此时复位弹簧被压缩，从而使得蓄水管处于半封闭状态，自控阀门有效的避免外置球杆卡在蓄水管内，使得喷射效果更佳，并且不影响外置球杆做圆周运动，十二个外置球杆陆续抵触自控阀门，使得自控阀门的开合具有规律性，保持抛光打磨的进度，加强工作效率。加强工作效率。加强工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光精度高的温控型打磨机


[0001]本专利技术涉及打磨机
，具体为一种抛光精度高的温控型打磨机。

技术介绍

[0002]打磨是表面改性技术的一种，一般指借助粗糙物体来通过摩擦改变材料表面物理性能的一种加工方法，主要目的是为了获取特定表面粗糙度，打磨在各个行业都得到很多的应用，特别是在金属零件加工制造时，经常需要进行打磨，所以选择合适的机械打磨置非常重要。
[0003]但是，传统的机械打磨设备在抛光过程中容易发生废屑的堆积，使得抛光的质量大打折扣，并且抛光不具备降温的效果，从而使得打磨的适用性不佳。
[0004]为此需要设计一种抛光精度高的温控型打磨机，以便于解决上述中提出的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种抛光精度高的温控型打磨机，以解决上述
技术介绍
提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种抛光精度高的温控型打磨机，包括打磨台，所述打磨台的顶部固定安装有定位架，且定位架顶部的中心处固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定连接有抛光轴，且抛光轴的底端延伸至安装架内并固定连接有打磨头，所述打磨台顶部的中心处固定安装有置物具，且打磨台的底部固定连接有承载腿，所述打磨台顶部的两侧均固定安装有清洗筒，且清洗筒靠近定位架的一侧连通有蓄水管，所述蓄水管的另一端连通有固定环具，且固定环具与打磨头位于同一水平面，所述打磨头位于固定环具内，所述打磨头的侧面固定连接有离心筒，且离心筒与蓄水管位于同一水平面。
[0007]优选的，所述离心筒包括内槽、抗压弹簧、内置滑动塞和外置球杆，所述内槽开设于离心筒远离打磨头的一侧，所述抗压弹簧固定连接于内槽的槽底，且抗压弹簧的另一端与内置滑动塞固定连接，所述内置滑动塞滑动安装于内槽内，且内置滑动塞的另一侧与外置球杆固定连接，所述外置球杆的另一端延伸至内槽外，且外置球杆与蓄水管位于同一水平面。
[0008]优选的，所述蓄水管与固定环具连通的一端内壁固定连接有螺旋轴，且螺旋轴的表面活动安装有与蓄水管相适配的自控阀门，所述自控阀门远离外置球杆的一端固定连接有复位弹簧，且复位弹簧的另一端固定连接于蓄水管的内壁。
[0009]优选的，所述打磨台上开设有溢流排孔，且打磨台的底部固定连接有集水沉淀皿，所述溢流排孔与集水沉淀皿连通。
[0010]优选的，所述集水沉淀皿的内壁固定连接有阻隔滤网，且阻隔滤网的直径是溢流排孔直径的五分之一。
[0011]优选的，所述集水沉淀皿上安装有水泵，且水泵上连通有循环管，所述循环管的另
一端与清洗筒连通。
[0012]优选的，所述定位架的内顶壁转动连接有清洁杆，且清洁杆的底端固定连接有半合板，所述半合板位于溢流排孔的位置，且半合板的底部与打磨台的顶部滑动接触，所述抛光轴通过传送带与清洁杆传动连接。
[0013]优选的，所述蓄水管的底部连通有喷管，且喷管的开口朝下，所述喷管位于自控阀门的底部。
[0014]优选的，所述离心筒的数量为十二个，且十二个离心筒呈环形阵列分布于打磨头的侧面。
[0015]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0016](1)该抛光精度高的温控型打磨机，驱动电机输出端的转动带动抛光轴旋转，抛光轴带动打磨头旋转并对待抛光物件进行消磨处理，在打磨头旋转过程中，离心筒随之做圆周运动，并且在离心力的作用下向外侧运动，此时离心筒内的抗压弹簧被拉伸，使得内置滑动塞在内槽内向外滑动，此时的外置球杆向外移动，使得外置球杆抵触固定环具的内壁并做圆周运动，当外置球杆移动至蓄水管的位置时，外置球杆阻挡住蓄水管，使得蓄水管处于半打开状态，故而蓄水管的流水面积得以调控，并且喷射的水量间歇性调节，避免持续喷水导致水资源浪费。
[0017](2)该抛光精度高的温控型打磨机，在打磨头高速消磨物件时，通过喷射的水量降低打磨头与物件的温度，使其温度得以控制，避免温度过高对打磨头和物件造成损耗，从而提高物件的消磨质量，并且蓄水管内的水会冲击置物具，使得残留在置物具上的大块碎屑得以冲掉，以防止碎屑影响物件的消磨效果。
[0018](3)该抛光精度高的温控型打磨机，在外置球杆移动至蓄水管的位置时，外置球杆抵触自控阀门，自控阀门受力绕着螺旋轴向内摆动，此时复位弹簧被压缩，从而使得蓄水管处于半封闭状态，自控阀门有效的避免外置球杆卡在蓄水管内，使得喷射效果更佳，并且不影响外置球杆做圆周运动，十二个外置球杆陆续抵触自控阀门，使得自控阀门的开合具有规律性，保持抛光打磨的进度，加强工作效率。
[0019](4)该抛光精度高的温控型打磨机，喷射的水会流至打磨台顶部并能短时间对置物具进行降温，最后通过溢流排孔流至集水沉淀皿内，使得冷却冲洗的水得以回收再利用，阻隔滤网对清洗水进行过滤，经过过滤沉淀的水通过水泵和循环管输送至清洗筒内，使得清洗水能够循环利用，提倡节水理念。
[0020](5)该抛光精度高的温控型打磨机，在抛光轴的转动过程中，抛光轴通过传送带传动清洁杆旋转，清洁杆带动半合板转动，使得半合板间隙性对溢流排孔进行清理，有效的避免抛光废料堵塞溢流排孔，并且清洁杆和半合板对清洗水进行搅拌，提高清洗水的流动性，以便提高降温效果和排水效果。
附图说明
[0021]图1为本专利技术结构剖视图；
[0022]图2为本专利技术结构固定环具；
[0023]图3为本专利技术结构图2中A部的放大图；
[0024]图4为本专利技术结构外置球杆受到离心力作用后的结构示意图；
[0025]图5为本专利技术结构图4中B部的放大图；
[0026]图6为本专利技术结构蓄水管的立体图。
[0027]图中：1、打磨台；100、承载腿；2、定位架；200、置物具；3、驱动电机；4、抛光轴；5、打磨头；6、清洗筒；7、蓄水管；8、固定环具；9、离心筒；10、抗压弹簧；11、内置滑动塞；12、外置球杆；13、螺旋轴；14、自控阀门；15、复位弹簧；16、溢流排孔；17、集水沉淀皿；18、阻隔滤网；19、水泵；20、循环管；21、清洁杆；22、传送带；23、半合板。
具体实施方式
[0028]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0029]请参阅图1
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6，本专利技术提供一种技术方案：一种抛光精度高的温控型打磨机，包括打磨台1，打磨台1的顶部固定安装有定位架2，且定位架2顶部的中心处固定安装有驱动电机3，驱动电机3的输出端固定连接有抛光轴4，且抛光轴4的底端延伸至安装架内并固定连接有打磨头5，打磨台1顶部的中心处固定安装有置物具200，且打磨台1的底部固定连接有承载腿100，打磨台1顶部的两侧均固定安装有清洗筒6，且清洗筒6靠近定位架2的一侧连通有蓄水管7，蓄水管7的另本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光精度高的温控型打磨机，包括打磨台(1)，其特征在于：所述打磨台(1)的顶部固定安装有定位架(2)，且定位架(2)顶部的中心处固定安装有驱动电机(3)，所述驱动电机(3)的输出端固定连接有抛光轴(4)，且抛光轴(4)的底端延伸至安装架内并固定连接有打磨头(5)，所述打磨台(1)顶部的中心处固定安装有置物具(200)，且打磨台(1)的底部固定连接有承载腿(100)，所述打磨台(1)顶部的两侧均固定安装有清洗筒(6)，且清洗筒(6)靠近定位架(2)的一侧连通有蓄水管(7)，所述蓄水管(7)的另一端连通有固定环具(8)，且固定环具(8)与打磨头(5)位于同一水平面，所述打磨头(5)位于固定环具(8)内，所述打磨头(5)的侧面固定连接有离心筒(9)，且离心筒(9)与蓄水管(7)位于同一水平面。2.根据权利要求1所述的一种抛光精度高的温控型打磨机，其特征在于：所述离心筒(9)包括内槽、抗压弹簧(10)、内置滑动塞(11)和外置球杆(12)，所述内槽开设于离心筒(9)远离打磨头(5)的一侧，所述抗压弹簧(10)固定连接于内槽的槽底，且抗压弹簧(10)的另一端与内置滑动塞(11)固定连接，所述内置滑动塞(11)滑动安装于内槽内，且内置滑动塞(11)的另一侧与外置球杆(12)固定连接，所述外置球杆(12)的另一端延伸至内槽外，且外置球杆(12)与蓄水管(7)位于同一水平面。3.根据权利要求2所述的一种抛光精度高的温控型打磨机，其特征在于：所述蓄水管(7)与固定环具(8)连通的一端内壁固定连接有螺旋轴(13)，且螺旋轴(13)的表面活动安装有与蓄水管(7)相适...

【专利技术属性】
技术研发人员：鄢绪波，
申请(专利权)人：宜都市鹏信光电机械有限公司，
类型：发明
国别省市：