蒸镀方法技术

本发明专利技术提供一种使用掩模将蒸镀材料蒸镀到基板上的蒸镀方法，将设置了掩模且包含彼此相对的第一边和第二边的掩模框，以在重力方向上所述第一边位于比所述第二边高的位置方式，与所述基板相对地配置，在配置了所述掩模框之后，校正所述掩模框上产生的重力方向上的挠曲。所述校正可以包括对所述掩模框上产生所述挠曲的位置施加力。挠曲的位置施加力。挠曲的位置施加力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀方法


[0001]本专利技术涉及将蒸镀材料蒸镀到基板上的技术。

技术介绍

[0002]有机EL显示装置包括的有机EL元件在阳极(anode)与阴极(cathode)之间设置有由有机EL材料构成的发光层。有机EL材料例如是高分子材料或低分子材料，当前较多使用低分子有机EL材料。
[0003]使用低分子有机EL材料构成的发光层通常利用蒸镀法形成在基板上。即，对有机EL材料加热使其蒸发，通过使蒸发的有机EL材料附着在基板上来形成薄膜。作为这样的蒸镀装置之一例，已知将基板竖立配置在蒸镀装置内的立式蒸镀装置(例如专利文献1和专利文献2)。采用立式蒸镀装置能够使大型基板竖立着进行处理，因此具有能够减小蒸镀装置占地面积之优点。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2012
‑
84544号公报
[0007]专利文献2：日本特开2014
‑
70239号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题
[0009]在使用立式蒸镀装置的情况下，蒸镀掩模也需要与基板相应地竖立配置。此时，随着基板的大型化，蒸镀掩模也变得大型化，因此存在因自重导致蒸镀掩模发生挠曲(弯曲)的问题。
[0010]本专利技术的技术问题之一是，提供一种抑制因掩模挠曲引起的蒸镀不良的技术。
[0011]解决问题的技术手段
[0012]在本专利技术的一个实施方式的蒸镀方法中，一种使用掩模将蒸镀材料蒸镀到基板上的蒸镀方法，将设置了掩模且包含彼此相对的第一边和第二边的掩模框，以在重力方向上所述第一边位于比所述第二边高的位置方式，与所述基板相对地配置，在配置了所述掩模框之后，校正所述掩模框上产生的重力方向上的挠曲。
附图说明
[0013]图1是第一实施方式的蒸镀掩模的主视图。
[0014]图2是表示第一实施方式的蒸镀装置内的结构的主视图。
[0015]图3是将第一实施方式的校正机构及其周围放大表示的图。
[0016]图4是将第一实施方式的校正机构及其周围放大表示的图。
[0017]图5是表示第二实施方式的蒸镀装置内的结构的主视图。
[0018]图6是第二实施方式的基板的截面图。
[0019]图7是表示第二实施方式的蒸镀装置内的结构的主视图。
[0020]图8是表示第二实施方式的蒸镀掩模与基板的对位方法之一例的图。
[0021]图9是表示第二实施方式的蒸镀掩模的挠曲的校正方法之一例的图。
[0022]图10是说明第二实施方式的校正机构与掩模框的连接方法之一例的图。
[0023]图11是说明第二实施方式的校正机构与掩模框的连接方法之一例的图。
[0024]图12是第二实施方式的有机EL显示装置的截面图。
[0025]图13是表示校正机构的结构之另一例的图。
[0026]图14是表示将蒸镀掩模竖立配置时的外观之一例的主视图。
[0027]图15是表示蒸镀掩模未发生挠曲时的蒸镀掩模的对位状况的平面图。
[0028]图16是表示蒸镀掩模发生了挠曲时的蒸镀掩模的对位状况的平面图。
具体实施方式
[0029]下面参照附图对本专利技术实施方式进行说明。不过，本专利技术在不脱离其宗旨的范围内能够以各种形态实施，不应被限定解释为以下示例说明的实施方式的记载内容。附图中为了使说明更加明确，与实际的形态相比，各部分的宽度、厚度、形状等有些给出的是示意性的表示，但它们至多仅为一例，并不限定本专利技术的解释。在本说明书和各附图中，对于与针对已出现的图进行过说明的部分具有同样功能的要素，有时会标注同一标记省略重复的说明。
[0030]在本说明书中，“上”和“下”指的是以基板上形成有发光元件的一侧的面(下面简称“正面”)为基准的相对的位置关系。例如，在本说明书中，从基板的正面去往发光元件的方向称为“上”，其相反方向称为“下”。在本说明书中，在表述某结构体之上配置其他结构体的形态时，在仅表述为“之上”的情况下，如果没有特别的说明，则包括以与某结构体接触的方式在上方配置其他结构体的情况，和在某结构体的上方隔着另外的结构体而配置其他结构体的情况这两者。
[0031]在下面的说明中，在说明方向时，将重力方向称作
“‑
D1方向”，将重力方向的相反方向称作“+D1方向”。另外，将水平方向上的一个方向称作
“‑
D2方向”，将
‑
D2方向的相反方向称作“+D2方向”。
[0032][第一实施方式][0033]图1是本实施方式的蒸镀掩模10的主视图。蒸镀掩模10是在立式蒸镀装置中使用的蒸镀用的掩模。用于形成有机EL显示装置的发光层的蒸镀材料是有机EL材料。蒸镀掩模10包括掩模框12和多个掩模14。掩模框12是具有多个开口部的框体。因此掩模框12包括用于将掩模框12内侧的空间划分为多个开口部的间隔壁。本实施方式中，掩模框12的外缘和多个开口部在正视时为矩形。多个开口部分别设置在与掩模14相对的位置上。掩模框12在整个蒸镀工序的期间被置于温度变化较大的环境下，因此优选由热膨胀系数较小的材料构成。
[0034]蒸镀掩模10在蒸镀时是竖立配置的。此时的掩模框12的上边为第一边122，下边为第二边124。第一边122与第二边124彼此相对。第一边122位于比第二边124高的位置，即以第二边124为基准位于+D1方向上。在不存在挠曲的状态下，第一边122和第二边124在水平方向上延伸。第一边122的
‑
D2方向侧的一端为角部122A，+D2方向侧的一端为角部122B。第
二边124的
‑
D2方向侧的一端为角部124A，+D2方向侧的一端为角部124B。将掩模框12的间隔壁之中与第一边122和第二边124交叉的间隔壁称作间隔壁126。将通过掩模框12的第一边122的中心和第二边124的中心的轴线称作轴线C。轴线C通过间隔壁126的位置。如图1所示，在本实施方式中，掩模框12在正视时为线对称的图形，轴线C位于该图形的对称轴的位置上。
[0035]多个掩模14设置于掩模框12。掩模14是由电铸形成的金属膜构成的电铸掩模。掩模14通过焊接而固定在掩模框12上。掩模14可以各自对应于1个有机EL显示装置，在用于制造小型有机EL显示装置的情况下，掩模14也可以各自对应于多个有机EL显示装置。掩模14采用在金属膜上设置有多个开口部(省略图示)的结构，不过图1省略了图示。具体而言，掩模14具有与有机EL显示装置的各像素的位置对应配置的多个开口部。
[0036]图14是表示将蒸镀掩模10竖立配置时的外观之一例的主视图。如图14所示，蒸镀掩模10会因自重而向
‑
D1方向挠曲。其结果，在第一边122上，与角部122A、122B相比，中央附近向
‑
D1方向弯曲。并且，在第二边124上，与角部124A、124B相比，中央附本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种使用掩模将蒸镀材料蒸镀到基板上的蒸镀方法，其特征在于：将设置了掩模且包含彼此相对的第一边和第二边的掩模框，以在重力方向上所述第一边位于比所述第二边高的位置方式，与所述基板相对地配置，在配置了所述掩模框之后，校正所述掩模框上产生的重力方向上的挠曲。2.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于：所述校正包括对所述掩模框的产生所述挠曲的位置施加力。3.如权利要求1或2所述的蒸镀方法，其特征在于：所述校正包括对所述第一边的中心或所述第二边的中心施加力。4.如权利要求1至3中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：所述校正包括对隔着通过所述第一边的中心和所述第二边的中心的轴线而位于两侧的位置施加力。5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：所述掩模框包括将所述掩模框的内侧的空间划分为多个且与所述第一边和所述第二边交叉的间隔壁，所述校正包括对所述第二边与所述间隔壁交叉的位置施加力。6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：所述校正包括对所述第一边上的位置施加力。7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：所述掩模框包括将所述掩模框的内侧的空间划分为多个且与所述第一边和所述第二边...

【专利技术属性】
技术研发人员：寺田茂树，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：